[發(fā)明專利]OLED顯示裝置的雙層?xùn)艠O結(jié)構(gòu)的制作方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201611219662.3
• 申請(qǐng)日: 2016-12-26
• 公開（公告）號(hào): CN106711088B
• 公開（公告）日: 2019-10-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 趙瑜
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 武漢華星光電技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/77
• 分類號(hào): H01L21/77;H01L27/12;H01L27/32
• 代理公司: 深圳市德力知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 44265
• 代理人: 林才桂

1.一種OLED顯示裝置的雙層?xùn)艠O結(jié)構(gòu)的制作方法，其特征在于，包括如下步驟：

步驟1、提供一基板(100)，在所述基板(100)上沉積金屬材料，形成第一金屬層(200’)；

步驟2、提供一半色調(diào)掩膜板(900)；

所述半色調(diào)掩膜板(900)包括第一曝光區(qū)(910)、位于所述第一曝光區(qū)(910)外側(cè)與第一曝光區(qū)(910)相鄰的第二曝光區(qū)(920)、及除第一曝光區(qū)(910)及第二曝光區(qū)(920)以外剩余的第三曝光區(qū)(930)；

步驟3、在第一金屬層(200’)上涂布光阻材料，形成第一光阻層，利用所述半色調(diào)掩膜板(900)對(duì)第一光阻層進(jìn)行曝光顯影，得到第一光阻圖案(300)；

所述第一光阻圖案(300)包括對(duì)應(yīng)第一曝光區(qū)(910)的第一光阻區(qū)(310)、及對(duì)應(yīng)第二曝光區(qū)(920)的第二光阻區(qū)(320)；

所述第一光阻圖案(300)在第一光阻區(qū)(310)的厚度大于在第二光阻區(qū)(320)的厚度；

步驟4、對(duì)第一光阻圖案(300)進(jìn)行灰化，去除第二光阻區(qū)(320)的第一光阻圖案(300)，減薄第一光阻區(qū)(310)的第一光阻圖案(300)，以剩余的第一光阻圖案(300)為遮擋對(duì)第一金屬層(200’)進(jìn)行蝕刻，形成第一柵極(200)，去除剩余的第一光阻圖案(300)；

步驟5、在所述第一柵極(200)、及基板(100)上形成柵極絕緣層(400)；

步驟6、在所述柵極絕緣層(400)上沉積金屬材料，形成第二金屬層(500’)，在第二金屬層(500’)上涂布光阻材料，形成第二光阻層，利用所述半色調(diào)掩膜板(900)對(duì)第二光阻層進(jìn)行曝光顯影，得到位于所述第一柵極(200)上方的與第一光阻圖案(300)尺寸相同的第二光阻圖案(600)；

步驟7、以第二光阻圖案(600)為遮擋對(duì)第二金屬層(500’)進(jìn)行蝕刻，形成第二柵極(500)。

2.如權(quán)利要求1所述的OLED顯示裝置的雙層?xùn)艠O結(jié)構(gòu)的制作方法，其特征在于，所述第一曝光區(qū)(910)的透光率大于第二曝光區(qū)(920)的透光率，所述第二曝光區(qū)(920)的透光率大于第三曝光區(qū)(930)的透光率；

所述光阻材料為負(fù)性光阻材料。

3.如權(quán)利要求1所述的OLED顯示裝置的雙層?xùn)艠O結(jié)構(gòu)的制作方法，其特征在于，所述第一曝光區(qū)(910)的透光率小于第二曝光區(qū)(920)的透光率，所述第二曝光區(qū)(920)的透光率小于第三曝光區(qū)(930)的透光率；

所述光阻材料為正性光阻材料。

4.如權(quán)利要求1所述的OLED顯示裝置的雙層?xùn)艠O結(jié)構(gòu)的制作方法，其特征在于，所述第二光阻圖案(600)包括對(duì)應(yīng)所述第一曝光區(qū)(910)的第三光阻區(qū)(610)、及對(duì)應(yīng)所述第二曝光區(qū)(920)的第四光阻區(qū)(620)；所述第二光阻圖案(600)在第三光阻區(qū)(610)的厚度大于在第四光阻區(qū)(620)的厚度。

5.如權(quán)利要求1所述的OLED顯示裝置的雙層?xùn)艠O結(jié)構(gòu)的制作方法，其特征在于，所述第一曝光區(qū)(910)的邊緣形狀與第二曝光區(qū)(920)的邊緣形狀相同。

6.如權(quán)利要求1所述的OLED顯示裝置的雙層?xùn)艠O結(jié)構(gòu)的制作方法，其特征在于，所述步驟1中通過(guò)物理氣相沉積的方法在基板(100)上沉積金屬材料，形成第一金屬層(200’)；

所述步驟6中通過(guò)物理氣相沉積的方法在柵極絕緣層(400)上沉積金屬材料，形成第二金屬層(500’)。

7.如權(quán)利要求1所述的OLED顯示裝置的雙層?xùn)艠O結(jié)構(gòu)的制作方法，其特征在于，所述步驟5中通過(guò)化學(xué)氣相沉積的方法在所述第一柵極(200)、及基板(100)上形成柵極絕緣層(400)。

8.如權(quán)利要求1所述的OLED顯示裝置的雙層?xùn)艠O結(jié)構(gòu)的制作方法，其特征在于，所述基板(100)為玻璃基板。

9.如權(quán)利要求1所述的OLED顯示裝置的雙層?xùn)艠O結(jié)構(gòu)的制作方法，其特征在于，所述步驟7還包括去除第二柵極(500)上的第二光阻圖案(600)的步驟。

10.如權(quán)利要求1所述的OLED顯示裝置的雙層?xùn)艠O結(jié)構(gòu)的制作方法，其特征在于，所述基板(100)為柔性基板。