[發明專利]真空泵及被用于其中的轉子及定子有效
| 申請號: | 201611217564.6 | 申請日: | 2016-12-26 |
| 公開(公告)號: | CN107044430B | 公開(公告)日: | 2021-10-15 |
| 發明(設計)人: | 大立好伸;前島靖;高阿田勉 | 申請(專利權)人: | 埃地沃茲日本有限公司 |
| 主分類號: | F04D19/04 | 分類號: | F04D19/04 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 張雨;劉林華 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 真空泵 用于 中的 轉子 定子 | ||
提供一種確保轉子翼的強度并且抑制轉子及定子的破損的真空泵及被用于其中的轉子及定子。真空泵(1)具備轉子(20)和定子(70),前述轉子(20)具備轉子翼(23),前述轉子翼(23)經由圓環部(22)被連接于轉子軸(21),前述定子(70)形成有被配設于轉子翼(23)間的定子翼(72)。圓環部(22)遍及轉子徑向(R)形成為大致等厚。定子(70)在由于轉子軸向(A)的撓曲變形而與轉子(20)接觸時,與圓環部(22)接觸。
技術領域
本發明涉及真空泵及被用于其中的轉子及定子,特別涉及在從低真空遍及至超高真空的壓力范圍中能夠利用的真空泵及被用于其中的轉子及定子。
背景技術
在制造存儲器或集成電路等半導體時,為了避免空氣中的灰塵等的影響而需要在高真空狀態的腔室內在高純度的半導體基板(晶片)上進行摻雜(ドーピング)或蝕刻,在腔室內的排氣上,例如,使用將渦輪分子泵和螺旋槽泵組合的復合泵等真空泵。
作為這樣的真空泵,例如,已知有如下真空泵,前述真空泵具備轉子和定子,前述轉子形成有在轉子的旋轉軸方向上設置多級的轉子翼,前述定子形成有在多級的轉子翼間分別配設的多個定子翼。在這樣的真空泵中,使轉子翼相對于定子翼相對地高速旋轉,由此將從吸氣口吸入的氣體真空排氣。
但是,定子若由于自重而向真空排氣的下游側沉入而發生撓曲,則有可能定子與轉子接觸而斷裂。
因此,為了避免定子和轉子的接觸,在專利文獻1中公開了具備轉子翼的真空泵,前述轉子翼具備被與轉子連續設置并且在上表面上形成有環狀槽的圓環部和從圓環部向徑向外方延展的翼部。在這樣的真空泵中,僅凹設有圓環部的部分變得定子的內周側邊緣和轉子翼難以接觸。
專利文獻1:日本特開2015-135074號公報。
但是,在如上所述得真空泵中,在泵運轉中,在轉子翼的環狀槽上發生應力集中,有可能以此為原因,翼部在環狀槽處斷裂,飛散至泵內,使真空泵故障。此外,若定子翼由于自重而向真空排氣下游側較大地發生撓曲,或由于真空泵向空氣敞開而向真空排氣上流側較大地發生撓曲,則定子翼和轉子翼互相間斷(不連續)地接觸,有過度的沖擊被傳遞至定子翼及轉子翼而容易破損的可能。
發明內容
因此,為了抑制轉子及定子的破損而產生需要解決的技術問題,本發明的目的是解決該問題。
本發明是為了實現上述目的而提出的,技術方案1記載的發明提供一種真空泵,前述真空泵具備轉子和定子,前述轉子具備轉子軸和轉子翼,前述轉子翼至少經由圓環部與該轉子軸連接,并且在轉子軸向上形成多級,前述定子形成有被配設于前述轉子翼間的定子翼,通過使前述轉子翼相對于前述定子翼相對旋轉來將氣體排出,其特征在于,前述定子在由于前述轉子軸向的撓曲變形而與前述轉子接觸時,與前述圓環部接觸。
根據該結構,定子在轉子軸向上撓曲變形時與圓環部接觸,由此能夠抑制由于轉子翼和定子翼的接觸引起的轉子及定子的破損。
技術方案2記載的發明提供一種真空泵,在技術方案1所述的真空泵的結構的基礎上,前述定子具備承接部,前述承接部被設置于前述定子翼的內周側,在由于前述轉子軸向的撓曲變形而與前述轉子接觸時,與前述圓環部接觸。
根據該結構,定子經由承接部與圓環部接觸,由此轉子翼和定子翼的接觸被抑制,所以能夠進一步抑制轉子及定子的破損。
技術方案3記載的發明提供一種真空泵,在技術方案2所述的真空泵的結構的基礎上,前述承接部是前述定子的內周側邊緣部。
根據該結構,定子的內周側邊緣部與圓環部接觸,由此定子翼與轉子翼的接觸被抑制,所以能夠進一步抑制定子的破損。
技術方案4記載的發明提供一種真空泵,在技術方案3所述的真空泵的結構的基礎上,前述內周側邊緣部形成為向前述轉子軸向的上級側傾斜。
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