[發(fā)明專利]具有高含量、高穩(wěn)定性BMP涂層的種植體活性表面

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201611207448.6
• 申請(qǐng)日: 2016-12-23
• 公開（公告）號(hào): CN106729992A
• 公開（公告）日: 2017-05-31
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 黨平;張久文;蔡俊江;彭鵬;李閃
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 大連三生科技發(fā)展有限公司
• 主分類號(hào): A61L27/34
• 分類號(hào): A61L27/34;A61L27/32;A61L27/30;A61L27/06;A61L27/54;C23F1/26
• 代理公司: 大連東方專利代理有限責(zé)任公司21212
• 代理人: 趙淑梅

1.具有高含量、高穩(wěn)定性BMP涂層的種植體活性表面，其特征在于，該種植體的外表面具有鈦基底層，所述鈦基底層表面具有二氧化鈦基層，所述二氧化鈦基層上交替涂覆有帶正電荷的Ⅰ型膠原蛋白/BMP復(fù)合涂層和帶負(fù)電荷的HA涂層。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的種植體活性表面，其特征在于，所述的種植體活性表面的制備方法包括以下步驟：

(1)將鈦金屬種植體表面用200、300、600和2000目砂紙逐級(jí)打磨，清洗，在60℃烘干；

(2)用75μm TiO₂顆粒，通過噴嘴對(duì)種植體表面進(jìn)行噴砂處理；

(3)將噴砂處理后的種植體置于氫氟酸與鹽酸組成的混合酸蝕劑中進(jìn)行表面刻蝕處理，取出種植體超聲清洗，室溫自然干燥；

(4)表面刻蝕處理、干燥后的種植體置于60℃、5mol/L NaOH溶液孵育24-48h，用水超聲清洗后，干燥后600℃下處理1-2h；

(5)干燥處理后的種植體浸入帶正電荷的Ⅰ型膠原蛋白/BMP復(fù)合涂層溶液中，室溫放置10-30min，用蒸餾水清洗；

(6)蒸餾水清洗后的種植體浸入帶負(fù)電荷的HA涂層溶液中，室溫放置10-30min，用蒸餾水清洗；

(7)重復(fù)步驟(5)-(6)即可得到帶有不同層數(shù)涂層的種植體活性表面。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的種植體活性表面，其特征在于，所述的帶正電荷的Ⅰ型膠原蛋白/BMP復(fù)合涂層溶液按照如下方法制備得到：將Ⅰ型膠原蛋白溶解于去離子水中，用HCl調(diào)整pH值至4.0，加入NaCl溶解，再加入BMP，攪拌溶解，得復(fù)合涂層溶液，其中在所述復(fù)合涂層溶液中，Ⅰ型膠原蛋白濃度為1-2mg/mL，NaCl濃度為0.1-0.2M，BMP濃度為1-5mg/mL。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的種植體活性表面，其特征在于，所述的帶負(fù)電荷的HA涂層溶液按照如下方法制備得到：將透明質(zhì)酸鈉和NaCl溶解于去離子水中，用HCl調(diào)整pH值至2.9，得到HA涂層溶液，其中在溶液中透明質(zhì)酸鈉濃度為1-2mg/mL，NaCl的終濃度為0.1-0.2M。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的種植體活性表面，其特征在于，在步驟(2)中，所述的噴砂處理?xiàng)l件為：壓縮空氣壓力為0.3-0.4MPa，噴嘴離種植體表面的距離為5-10cm，噴射時(shí)間為2-10s。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的種植體活性表面，其特征在于，在步驟(3)中，所述的混合酸蝕劑為47％的HF與38％的HCl按照體積比1:1混合的混合液。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的種植體活性表面，其特征在于，在步驟(3)中，所述的表面刻蝕處理溫度為60℃，刻蝕處理時(shí)間為10-20min。