[發明專利]一種電子級高純氧化銅的清潔生產工藝

有效

• 申請號: 201611205790.2
• 申請日: 2016-12-23
• 公開（公告）號: CN106745179B
• 公開（公告）日: 2018-12-11
• 發明（設計）人: 譚澤;黃司平;周一朗;何為;王翀;陸海彥
• 申請（專利權）人: 廣東光華科技股份有限公司
• 主分類號: C01G3/02
• 分類號: C01G3/02
• 代理公司: 汕頭市高科專利事務所 44103
• 代理人: 唐瑞玉

1.一種電子級高純氧化銅的清潔生產工藝，依次包括如下步驟：

（1）通過配液裝置連續配制碳氨體系溶液，其中CO₂:NH₃:H₂O的物質的量比例為1:1.3-2:17-20；

（2）將碳氨體系溶液投入到預先裝有金屬銅的反應容器中，在微負壓環境下不斷吸入空氣、氧氣或臭氧，保持反應體系溫度≤60℃，待碳氨體系溶液的銅濃度達到80-140g/L時，關閉負壓；

（3）將銅氨液過濾至脫氨反應釜，加入聚丙烯酸鈉，攪拌均勻后在減壓環境下加熱至60-80℃下脫氨,聚丙烯酸鈉以銅氨濾液的體積0.2-0.6g/L的量加入，脫氨過程收集氨水；

（4）將步驟（3）脫氨后得到的堿式碳酸銅通過離心機進行固液分離，得到濾餅和含銅清液，含銅清液收集；

（5）濾餅在350-600℃下煅燒1-5小時，得到電子級高純氧化銅，同時收集煅燒過程產生的二氧化碳和水蒸汽；

上述步驟（3）收集到的氨水、步驟（4）收集到的含銅清液、步驟（5）收集到的二氧化碳和水蒸汽被送至步驟（1）的配液裝置中直接作為原料配制碳氨體系溶液，其中的含銅清液作為水使用；步驟（1）的碳氨體系溶液配制是先往配液裝置中注入氨水，然后通入二氧化碳，再以水噴淋配制，且該過程是一個連續閉合的操作過程。

2.根據權利要求1所述的電子級高純氧化銅的清潔生產工藝，其特征在于：所述步驟（5）收集到的水蒸汽經除塵后與二氧化碳由風機送入配液裝置。

3.根據權利要求1或2所述的電子級高純氧化銅的清潔生產工藝，其特征在于：所述步驟（2）溶銅過程中揮發的氨氣由風機送入配液裝置形成閉合操作的一部分，進行循環利用。

4.根據權利要求3所述的電子級高純氧化銅的清潔生產工藝，其特征在于：所述步驟（2）的微負壓是在大氣壓-0.01至-0.02Mpa之間。

5.根據權利要求4所述的電子級高純氧化銅的清潔生產工藝，其特征在于：所述步驟（3）的減壓是在大氣壓-0.03至-0.08Mpa之間。

6.根據權利要求5所述的電子級高純氧化銅的清潔生產工藝，其特征在于：所述各步驟因氣密性問題而產生的微量氨氣由集氣罩統一回收，回收后再由稀酸噴淋液循環噴淋吸收，得到分析純的銨鹽。

7.根據權利要求6所述的電子級高純氧化銅的清潔生產工藝，其特征在于：所述稀酸噴淋液為稀硫酸。