[發明專利]黑色二氧化鈦復合薄膜的制備方法

有效

• 申請號: 201611200752.8
• 申請日: 2016-12-22
• 公開（公告）號: CN106637104B
• 公開（公告）日: 2019-04-12
• 發明（設計）人: 魏強;張立憲;梁硯琴;王紹丹;盧紅
• 申請（專利權）人: 天津大學
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C23C14/08
• 代理公司: 天津才智專利商標代理有限公司 12108
• 代理人: 王顕

1.一種黑色二氧化鈦復合薄膜的制備方法，其特征在于包括如下步驟：

1)將粉末狀的二氧化鈦和分子篩混合均勻，得到混合粉末；其中分子篩中的硅原子與二氧化鈦中的鈦原子的摩爾比為2～4:1；

2)將步驟1)得到的混合粉末在壓強為140～200MPa的條件下壓片，得到靶材；

3)將所述靶材在真空環境下，利用脈沖激光濺射沉積技術制備黑色二氧化鈦復合薄膜，步驟如下：

①調節入射激光束與靶材之間的角度以及基片基底與靶材的距離，確保激光激發所述靶材產生的等離子體能濺射沉積到基片上；

②開啟脈沖激光器調節激光參數，使激光聚焦輻照真空環境中的靶材；

③輻照后，基片表面均勻沉積一層所述黑色二氧化鈦復合薄膜。

2.根據權利要求1所述黑色二氧化鈦復合薄膜的制備方法，其特征在于：所述分子篩為硅鋁成分為主的分子篩。

3.根據權利要求2所述黑色二氧化鈦復合薄膜的制備方法，其特征在于：所述分子篩為3A分子篩、5A分子篩、13X分子篩或10X分子篩。

4.根據權利要求1所述黑色二氧化鈦復合薄膜的制備方法，其特征在于：步驟3)中所述真空環境的真空度為1×10^-6～1×10^-4Pa。

5.根據權利要求1所述黑色二氧化鈦復合薄膜的制備方法，其特征在于：步驟①中，所述入射激光束與靶材之間的夾角為10～45°；基片基底與靶材之間的距離為5～25mm。

6.根據權利要求1所述黑色二氧化鈦復合薄膜的制備方法，其特征在于：步驟②中所述激光參數指：激光脈寬為10ns-50ps，激光能量為450-1500mJ，激光波長為532-1064nm，頻率為5～20Hz。

7.根據權利要求1所述黑色二氧化鈦復合薄膜的制備方法，其特征在于：激光輻照靶材每點處理時間為30～120s。

8.根據權利要求5所述黑色二氧化鈦復合薄膜的制備方法，其特征在于：所述入射激光束與靶材之間的夾角為15～30°。