[發(fā)明專利]描繪裝置以及描繪裝置的描繪方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201611199035.8
• 申請(qǐng)日: 2016-12-22
• 公開（公告）號(hào): CN106901484B
• 公開（公告）日: 2020-08-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 長尾知幸
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 卡西歐計(jì)算機(jī)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): A45D29/00
• 分類號(hào): A45D29/00;B41J3/407;B41J3/44;B43K7/00;B43K8/02
• 代理公司: 北京銀龍知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11243
• 代理人: 范勝杰;趙宇

本發(fā)明提供一種能夠?qū)⒃谥讣咨厦枥L了美甲設(shè)計(jì)的情況下的品質(zhì)保持在預(yù)定以上的描繪裝置以及描繪裝置的描繪方法。該描繪裝置具備：基準(zhǔn)面，其放置具有指甲的手指；描繪部(40)，其對(duì)指甲描繪美甲設(shè)計(jì)；指甲高度檢測(cè)部(814)，其基于拍攝了指甲的拍攝圖像，檢測(cè)在指甲的表面內(nèi)相對(duì)于基準(zhǔn)面的高度的分布；設(shè)計(jì)判定部(815)，其基于指甲高度檢測(cè)部(814)的檢測(cè)結(jié)果和描繪部(40)的高度方向的可描繪范圍，來判定通過描繪部(40)對(duì)指甲的表面描繪美甲設(shè)計(jì)的合適與否。

相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用

本申請(qǐng)要求享有于2015年9月16日提交的、日本申請(qǐng)?zhí)枮?015-182992的優(yōu)先權(quán)，其全文以引用的方式結(jié)合于此。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種描繪裝置以及描繪裝置的描繪方法。

背景技術(shù)

以前，已知在指甲上描繪美甲設(shè)計(jì)的描繪裝置(例如，參照日本特表2003-534083號(hào)公報(bào))。

使用這樣的裝置，即使不利用美甲店等也能夠輕松地享受美甲設(shè)計(jì)。

研究了在描繪裝置(美甲印刷裝置)中，使用應(yīng)用于噴墨方式的描繪頭或筆繪圖機(jī)中的書寫工具(筆)作為在指甲的表面描繪顏色或圖案等美甲設(shè)計(jì)的手段，

然而，人的手指或指甲的形狀有各種各樣，例如即使在裝置內(nèi)的正確位置放置了指甲前端，也難以將指甲的全部區(qū)域?qū)R到基本相等的高度。

在這點(diǎn)上，噴墨方式的描繪頭通過將墨水處理為霧狀而對(duì)描繪對(duì)象進(jìn)行噴射來進(jìn)行描繪，但是對(duì)于能夠?qū)娚涑龅哪街筋A(yù)定的位置的飛行距離存在界限。

因此，例如在作為描繪對(duì)象的指甲的一部分上存在高度位置明顯低的部分，并且描繪頭與指甲之間的距離過遠(yuǎn)的情況下，會(huì)造成墨水無法正確附著到預(yù)定的位置，并且距離越遠(yuǎn)越會(huì)使得描繪逐漸變薄或變亂等，描繪品質(zhì)惡化。另外，在指甲與描繪頭之間的高度方向的距離相比于假定距離明顯遠(yuǎn)離的情況下，可能會(huì)造成從頭(噴頭)噴射出的墨水無法到達(dá)作為描繪對(duì)象的指甲，從而無法描繪的情況。

另外，在使用筆來進(jìn)行描繪時(shí)，即使構(gòu)成為某種程度上筆根據(jù)指甲的高度而能夠上下移動(dòng)，當(dāng)作為描繪對(duì)象的指甲位于超出該驅(qū)動(dòng)范圍的位置上時(shí)，也會(huì)產(chǎn)生筆尖無法到達(dá)指甲，從而無法進(jìn)行描繪的情況。

鑒于以上那樣的情況，本發(fā)明的目的在于提供一種能夠?qū)⒃谥讣咨厦枥L了美甲設(shè)計(jì)的情況下的品質(zhì)保持在預(yù)定以上的描繪裝置以及描繪裝置的描繪方法。

發(fā)明內(nèi)容

為了解決上述課題，本發(fā)明的描繪裝置以及描繪裝置的描繪方法提供以下的解決手段。

在一種實(shí)施方式中，提供了一種描繪裝置，其具備：插入部，其供具有指甲的手指插入，且設(shè)置有基準(zhǔn)面；描繪部，其在所述指甲上描繪美甲設(shè)計(jì)；指甲高度檢測(cè)部，其根據(jù)拍攝所述指甲而得的拍攝圖像，檢測(cè)在所述指甲的表面內(nèi)相對(duì)于所述基準(zhǔn)面的高度的分布；以及設(shè)計(jì)判定部，其根據(jù)基于所述指甲高度檢測(cè)部的檢測(cè)結(jié)果以及所述描繪部在高度方向上的可描繪范圍，來判定是否適合通過所述描繪部在所述指甲的表面上描繪所述美甲設(shè)計(jì)。

在上述實(shí)施方式中，通過所述描繪部在所述指甲的表面上描繪由所述設(shè)計(jì)判定部判定為適合于描繪的所述美甲設(shè)計(jì)。

在上述實(shí)施方式中，所述指甲高度檢測(cè)部，根據(jù)從線光照射部向指甲的表面照射線光，并拍攝所述指甲以及所述指甲上形成的線而得的拍攝圖像，檢測(cè)在所述指甲的表面內(nèi)的相對(duì)于所述基準(zhǔn)面的高度的分布，其中，所述線光照射部以線光傾斜照射到所述基準(zhǔn)面的角度而設(shè)置。

在上述實(shí)施方式中，所述指甲高度檢測(cè)部，根據(jù)沿著所述指甲的長度多次改變照射所述線光的位置而拍攝到的2張以上的拍攝圖像，檢測(cè)在所述指甲的表面內(nèi)相對(duì)于所述基準(zhǔn)面的高度的分布。