[發明專利]描繪裝置以及描繪裝置的描繪方法有效
| 申請號: | 201611199035.8 | 申請日: | 2016-12-22 |
| 公開(公告)號: | CN106901484B | 公開(公告)日: | 2020-08-14 |
| 發明(設計)人: | 長尾知幸 | 申請(專利權)人: | 卡西歐計算機株式會社 |
| 主分類號: | A45D29/00 | 分類號: | A45D29/00;B41J3/407;B41J3/44;B43K7/00;B43K8/02 |
| 代理公司: | 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243 | 代理人: | 范勝杰;趙宇 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 描繪 裝置 以及 方法 | ||
1.一種描繪裝置,其特征在于,具備:
插入部,其供具有指甲的手指插入,且設置有基準面;
描繪部,其在所述指甲上描繪美甲設計;
指甲高度檢測部,其根據拍攝所述指甲而得的拍攝圖像,檢測在所述指甲的表面內相對于所述基準面的高度的分布;以及
設計判定部,其根據基于所述指甲高度檢測部的檢測結果以及所述描繪部在高度方向上的可描繪范圍,來判定是否適合通過所述描繪部在所述指甲的表面上描繪所述美甲設計。
2.根據權利要求1所述的描繪裝置,其特征在于,
通過所述描繪部在所述指甲的表面上描繪由所述設計判定部判定為適合于描繪的所述美甲設計。
3.根據權利要求1所述的描繪裝置,其特征在于,
所述指甲高度檢測部,根據從線光照射部向指甲的表面照射線光,并拍攝所述指甲以及所述指甲上形成的線而得的拍攝圖像,檢測在所述指甲的表面內的相對于所述基準面的高度的分布,其中,所述線光照射部以線光傾斜照射到所述基準面的角度而設置。
4.根據權利要求3所述的描繪裝置,其特征在于,
所述指甲高度檢測部,根據沿著所述指甲的長度多次改變照射所述線光的位置而拍攝到的2張以上的拍攝圖像,檢測在所述指甲的表面內相對于所述基準面的高度的分布。
5.根據權利要求1所述的描繪裝置,其特征在于,
該描繪裝置具備指甲形狀檢測部,該指甲形狀檢測部根據所述拍攝圖像來檢測所述指甲的形狀,
所述設計判定部進行將所述美甲設計的圖像與通過所述指甲形狀檢測部檢測出的所述指甲的形狀對合的匹配處理,在該匹配處理的結果是該美甲設計的全部或一部分位于超出所述描繪部在所述指甲的表面上的所述可描繪范圍的部分時,判定為該美甲設計不適合在所述指甲的表面上描繪。
6.根據權利要求1所述的描繪裝置,其特征在于,
該描繪裝置具備報知單元,該報知單元根據基于所述設計判定部的判定結果來報知所述美甲設計的描繪是否適合。
7.根據權利要求1所述的描繪裝置,其特征在于,
該描繪裝置具備設計提示單元,該設計提示單元根據基于所述設計判定部的判定結果來提示適合于描繪的所述美甲設計。
8.根據權利要求1所述的描繪裝置,其特征在于,
該描繪裝置具備完成預測提示單元,該完成預測提示單元根據基于所述設計判定部的判定結果來提示在描繪了所述美甲設計的情況下的完成預測。
9.一種描繪裝置的描繪方法,其特征在于,
所述描繪裝置具有:供具有指甲的手指插入,且設置有基準面的插入部;以及在所述指甲上描繪美甲設計的描繪部,
所述描繪方法進行如下處理:
根據拍攝所述手指的所述指甲而得的拍攝圖像,檢測在所述指甲的表面內相對于所述基準面的高度的分布,
根據所述指甲的高度的檢測結果以及所述描繪部在高度方向上的可描繪范圍,來判定是否適合通過所述描繪部在所述指甲的表面上描繪所述美甲設計。
10.根據權利要求9所述的描繪裝置的描繪方法,其特征在于,
通過所述描繪部在所述指甲的表面上描繪被判定為適合于描繪的所述美甲設計。
11.根據權利要求9所述的描繪裝置的描繪方法,其特征在于,
根據所述拍攝圖像來檢測所述指甲的形狀,
進行將所述美甲設計的圖像與檢測出的所述指甲的形狀對合的匹配處理,在該匹配處理的結果是該美甲設計的全部或一部分位于超出所述描繪部在所述指甲的表面上的所述可描繪范圍的部分時,判定為該美甲設計不適合在所述指甲的表面上描繪。
12.根據權利要求9所述的描繪裝置的描繪方法,其特征在于,
根據判定結果來報知所述美甲設計的描繪是否適合。
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