[發(fā)明專利]掩膜板自動(dòng)清洗系統(tǒng)及方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201611193376.4 | 申請(qǐng)日: | 2016-12-21 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN106773528A | 公開(kāi)(公告)日: | 2017-05-31 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 祖?zhèn)?/a> | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 武漢華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G03F1/82 | 分類號(hào): | G03F1/82;G03F7/20 |
| 代理公司: | 廣州三環(huán)專利代理有限公司44202 | 代理人: | 郝傳鑫,熊永強(qiáng) |
| 地址: | 430070 湖北省武漢市武*** | 國(guó)省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 掩膜板 自動(dòng) 清洗 系統(tǒng) 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及自動(dòng)化領(lǐng)域,尤其涉及一種掩膜板自動(dòng)清洗系統(tǒng)及方法。
背景技術(shù)
在現(xiàn)有的彩膜基板制程工藝中,通常通過(guò)曝光機(jī)實(shí)現(xiàn)彩膜的圖案化,而使用最多的是接近式曝光機(jī)。此種曝光機(jī)的掩膜板與被曝光基板之間的距離在100-400μm之間,如此微小的距離造成掩膜板極易被曝光基板上的附著異物污染,或者由于長(zhǎng)時(shí)間曝光被光阻膠曝光時(shí)的揮發(fā)物污染,而一旦掩膜板被污染,將造成共通缺陷,嚴(yán)重影響產(chǎn)品質(zhì)量,甚至造成產(chǎn)品NG。
針對(duì)上述問(wèn)題,現(xiàn)今業(yè)內(nèi)普遍采取的措施是在掩膜板被使用前使用掩膜板清洗機(jī)提前清洗,以及當(dāng)掩膜板每被使用曝光3000張左右基板時(shí),也要使用掩膜板清洗機(jī)清洗掩膜板,以防止掩膜板被污染而造成品質(zhì)不良。
然而,現(xiàn)在業(yè)內(nèi)普遍采用人工管理的方式控制對(duì)掩膜板的清洗,即在每次掩膜板被使用前由作業(yè)員調(diào)出需要使用的掩膜板進(jìn)行清洗;以及由作業(yè)員定時(shí)點(diǎn)檢曝光機(jī)使用中的每塊掩膜板曝光的次數(shù),當(dāng)使用次數(shù)達(dá)到3000次左右時(shí),由相應(yīng)人員將掩膜板從曝光機(jī)內(nèi)取出拉到掩膜板清洗機(jī)處清洗。顯然,此種由人工管理的方法不僅會(huì)耗費(fèi)了大量人力,還很容易由于人員管理的疏忽而造成掩膜板被漏洗的情況發(fā)生,一旦發(fā)生掩膜板被漏洗的情況,很容易造成共通缺陷或共同Mura,然而此種情況將會(huì)引起工廠比較大的產(chǎn)品與產(chǎn)能損耗。同時(shí),由于掩膜板每次被使用前需要由人為調(diào)出需要使用的掩膜板并選擇相應(yīng)的設(shè)置進(jìn)行清洗,這種情況下一旦人員未及時(shí)清洗掩膜板,也會(huì)造成產(chǎn)線生產(chǎn)不能及時(shí)開(kāi)始,嚴(yán)重浪費(fèi)產(chǎn)能。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明實(shí)施例提供一種掩膜板自動(dòng)清洗系統(tǒng)及方法,其可提前清洗待使用的掩膜板,以及根據(jù)掩膜板的使用情況發(fā)起清洗提醒,以及時(shí)對(duì)掩膜板進(jìn)行清洗作業(yè),不僅節(jié)省了人力,相較于人工管理的方式更為智能,并且可及時(shí)清潔可能影響曝光效果的掩膜板,提升產(chǎn)品良率,進(jìn)而提升產(chǎn)能。
第一方面,本發(fā)明實(shí)施例提供了一種掩膜板自動(dòng)清洗系統(tǒng),包括:曝光機(jī)控制端,與對(duì)應(yīng)的曝光器相連接,用于控制所述曝光機(jī)的曝光制程、以及監(jiān)控曝光機(jī)內(nèi)每一掩膜板的使用次數(shù);清洗裝置,用以清洗所述掩膜板;主控裝置,連接至所述曝光機(jī)控制端與所述清洗裝置,并根據(jù)每一所述曝光機(jī)中即將使用的掩膜板信息控制所述清洗裝置提前清洗各曝光機(jī)即將使用的掩膜板,并在監(jiān)測(cè)到所述曝光機(jī)中的掩膜板的使用次數(shù)達(dá)到一預(yù)設(shè)次數(shù)時(shí),自動(dòng)發(fā)出掩膜板清洗提醒,以提醒現(xiàn)場(chǎng)操作人員及時(shí)進(jìn)行清洗作業(yè)。
其中,所述曝光機(jī)控制端還用于將與該曝光機(jī)控制端連接的曝光機(jī)中即將使用的掩膜板信息發(fā)送至所述主控裝置,所述主控裝置還用于根據(jù)所述曝光機(jī)控制端發(fā)送的掩膜板信息控制所述清洗裝置提前清洗所述即將使用的掩膜板。
其中,所述掩膜板自動(dòng)清洗系統(tǒng)還包括中轉(zhuǎn)器,所述曝光機(jī)控制端通過(guò)所述中轉(zhuǎn)器與所述主控裝置連接,用以建立所述主控裝置與所述曝光機(jī)控制端之間的通信連接。
其中,所述中轉(zhuǎn)器為一集線器。
其中,所述掩膜板自動(dòng)清洗系統(tǒng)還包括存儲(chǔ)柜和連接至所述主控裝置的計(jì)時(shí)器;所述存儲(chǔ)柜,用于存儲(chǔ)掩膜板;所述計(jì)時(shí)器設(shè)置于所述存儲(chǔ)柜中,用以統(tǒng)計(jì)所述存儲(chǔ)柜中每一掩膜板的存放時(shí)長(zhǎng)。
其中,所述存儲(chǔ)柜為所述清洗裝置附帶的存儲(chǔ)柜,或者所述存儲(chǔ)柜與所述清洗裝置分別單獨(dú)設(shè)置。
其中,所述清洗裝置包括一分別連接至所述主控裝置以及所述計(jì)時(shí)器的清洗控制端,所述主控裝置還用于根據(jù)所述計(jì)時(shí)器的計(jì)時(shí)值,判斷存儲(chǔ)柜中是否有掩膜板需要清洗,并在所述存儲(chǔ)柜中有掩膜板需要清洗時(shí),通過(guò)所述清洗控制端向清洗裝置發(fā)送清洗指令,所述清洗指令包括待清洗掩膜板的掩膜板信息;所述清洗裝置,還用于根據(jù)所述指令對(duì)相應(yīng)的掩膜板進(jìn)行清洗作業(yè)。
另一方面,本發(fā)明還提供一種應(yīng)用于上述掩膜板自動(dòng)清洗系統(tǒng)的掩膜板自動(dòng)清洗方法,該掩膜板自動(dòng)清洗方法包括以下步驟:曝光機(jī)控制端實(shí)時(shí)監(jiān)控曝光機(jī)中掩膜板的使用次數(shù);當(dāng)曝光機(jī)中的掩膜板的使用次數(shù)達(dá)到預(yù)設(shè)次數(shù)時(shí),主控裝置自動(dòng)發(fā)出掩膜板清洗提醒,以提醒現(xiàn)場(chǎng)操作人員及時(shí)進(jìn)行清洗作業(yè);所述主控裝置還根據(jù)接收到的每一所述曝光機(jī)中即將使用的掩膜板信息,控制所述清洗裝置提前清洗所述即將使用的掩膜板。
其中,所述掩膜板自動(dòng)清洗方法還包括以下步驟:計(jì)時(shí)器監(jiān)控存儲(chǔ)柜中各掩膜板的存儲(chǔ)時(shí)長(zhǎng);當(dāng)存儲(chǔ)時(shí)長(zhǎng)超過(guò)預(yù)設(shè)時(shí)長(zhǎng)時(shí),清洗控制端控制所述清洗裝置及時(shí)清洗所述存儲(chǔ)超時(shí)的掩膜板。
其中,所述主控裝置還根據(jù)接收到的每一所述曝光機(jī)中即將使用的掩膜板信息,控制所述清洗裝置提前清洗所述即將使用的掩膜板這一步驟之前還包括以下步驟:
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過(guò)帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過(guò)電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過(guò)100nm或更短波長(zhǎng)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學(xué)臨近校正(OPC)設(shè)計(jì)工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準(zhǔn)或測(cè)試的特殊涂層或標(biāo)記;其制備





