[發(fā)明專(zhuān)利]微影方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201611193075.1
• 申請(qǐng)日: 2016-12-21
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN107154344A
• 公開(kāi)（公告）日: 2017-09-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 鄭雅玲;王筱姍;陳建志;林緯良;陳俊光;張慶裕
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): H01L21/027
• 分類(lèi)號(hào): H01L21/027;G03F7/26
• 代理公司: 隆天知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司72003
• 代理人: 王芝艷

1.一種微影方法，包括：

形成一第一層于一基板上；

形成一圖案化光致抗蝕劑層于該第一層上；

施加一溶液于該圖案化光致抗蝕劑層上，以形成一順應(yīng)層于該圖案化光致抗蝕劑層上，其中該順應(yīng)層還包括一第一部分于該圖案化光致抗蝕劑層的上表面上，以及一第二部分沿著該圖案化光致抗蝕劑層的側(cè)壁延伸；

選擇性移除該圖案化光致抗蝕劑層的上表面上的該順應(yīng)層的該第一部分；以及

選擇性移除該圖案化光致抗蝕劑層，以保留該順應(yīng)層的該第二部分。