[發明專利]電弧等離子體廢氣處理裝置有效
| 申請號: | 201611191600.6 | 申請日: | 2016-12-21 |
| 公開(公告)號: | CN108607337B | 公開(公告)日: | 2021-07-30 |
| 發明(設計)人: | 金翼年;姜成玉;安在閏;嚴敏欽 | 申請(專利權)人: | 韓國三重核心株式會社 |
| 主分類號: | B01D53/32 | 分類號: | B01D53/32 |
| 代理公司: | 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286 | 代理人: | 孫昌浩;李盛泉 |
| 地址: | 韓國京畿*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 電弧 等離子體 廢氣 處理 裝置 | ||
1.一種電弧等離子體廢氣處理裝置,其特征在于,包括:
等離子體發生部(1),通過電弧放電產生火焰,通過所流入的工作氣體生成等離子體;
反應部(5),使從上述等離子體發生部(1)移送的等離子體與所流入的廢氣混合來進行處理;以及
洗滌部(3),通過對在上述反應部(5)進行處理的氣體進行洗滌,使溫度降低,
上述等離子體發生部(1)包括陰極部(10)、向上述陰極部(10)的下部方向與上述陰極部(10)隔開配置的陽極部(100)以及以包圍上述陰極部(10)和陽極部(100)的方式配置的旋渦結構體(200),并且通過多級旋渦結構體(200)以多級的方式向所述陽極部(100)供給工作氣體,
上述洗滌部(3)通過多個冷卻模塊依次供給冷卻流體來執行冷卻,
其中,上述陽極部(100)包括:
上部陽極(110),以包圍上述陰極部(10)的下部的一部分的形態配置;以及
下部陽極(120),在與上述上部陽極(110)之間形成能夠供給工作氣體的空間的狀態下沿著上述上部陽極(110)的下部方向相結合,
上述上部陽極(110)包括:上部陽極本體(111),呈中空圓筒形狀;第一陽極流路(112),在上述上部陽極本體(111)的內部面上傾斜而成;第二陽極流路(113),與上述第一陽極流路(112)的下端相連接;陽極槽(114),以槽形態在上述上部陽極本體(111)的上部外側面上沿著圓周方向形成,從上述旋渦結構體(200)接收工作氣體;以及第一工作氣體噴嘴(115),從上述陽極槽(114)向上部陽極本體(111)的內周面上延伸而成,
上述下部陽極(120)包括:下部陽極本體(121),呈中空圓筒形狀;陽極連接部(122),形成于上述下部陽極本體(121)的上部;臺階部,以在上述陽極連接部(122)的上部形成緩沖空間(126)的方式按規定厚度延伸而成;第二工作氣體噴嘴(124),在貫通上述臺階部的內周面及外周面而成的狀態下,接收從上述旋渦結構體(200)供給的工作氣體,
上述旋渦結構體(200)包括:
第一旋渦結構體(210),向形成于上述上部陽極(110)的上述陽極槽(114)供給工作氣體;以及
第二旋渦結構體(220),向形成于上述下部陽極(120)的上述第二工作氣體噴嘴(124)供給工作氣體。
2.根據權利要求1所述的電弧等離子體廢氣處理裝置,其特征在于,
上述第一旋渦結構體(210)包括:第一旋渦本體(211),呈中空圓筒形狀;冷卻流路(216),沿著鉛垂方向形成于上述第一旋渦本體(211)內;以及冷卻水填充部(217),與上述冷卻流路(216)的上端相連通,
上述第二旋渦結構體(220)包括:第二旋渦本體(221),呈中空圓筒形狀;突出部(222),形成于上述第二旋渦本體(221)的上部;冷卻流路(223),沿著鉛垂方向形成于上述第二旋渦本體(221)內;以及凹陷部(226),形成于上述第二旋渦本體(221)的下部,
上述下部陽極(120)還包括:冷卻流路(125),沿著鉛垂方向形成于上述下部陽極本體(121)內,
在上述突出部(222)的內側,在上述第一旋渦結構體(210)和上述第二旋渦結構體(220)沿著上下方向相結合的狀態下,提供使經過上述第一旋渦結構體(210)的上述冷卻流路(216)的冷卻水在進入第二旋渦結構體(220)的冷卻流路(223)之前臨時停留的空間,
上述凹陷部(226)提供使經過上述第二旋渦結構體(220)的冷卻流路(223)的冷卻水在進入上述下部陽極(120)的上述冷卻流路(125)之前臨時停留的空間。
3.根據權利要求1所述的電弧等離子體廢氣處理裝置,其特征在于,
上述洗滌部包括:
殼體(310),呈中空圓筒形狀;
第一冷卻模塊(320),配置于上述殼體(310)的內部上側;以及
第二冷卻模塊(340),在上述第一冷卻模塊(320)的下部側,以能夠分離的方式與上述殼體(310)的內部相結合,
通過借助由上述第一冷卻模塊(320)向上述殼體(310)供給的第一冷卻流體在上述殼體(310)的上端所形成的幕膜及借助由上述第二冷卻模塊(340)供給的第二冷卻流體在上述幕膜的下部側所形成的噴射區域來執行冷卻。
4.根據權利要求3所述的電弧等離子體廢氣處理裝置,其特征在于,上述第二冷卻模塊(340)在從上述第一冷卻模塊(320)朝向下部方向隔開規定距離的狀態下以多級的方式配置有多個。
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