[發明專利]溫度控制裝置以及渦輪分子泵有效
| 申請號： | 201611191535.7 | 申請日： | 2016-12-21 |
| 公開（公告）號： | CN107191388B | 公開（公告）日： | 2021-06-18 |
| 發明（設計）人： | 小崎純一郎 | 申請（專利權）人： | 株式會社島津制作所 |
| 主分類號： | F04D19/04 | 分類號： | F04D19/04;F04D29/58;F04D27/00 |
| 代理公司： | 北京中原華和知識產權代理有限責任公司 11019 | 代理人： | 壽寧;張華輝 |
| 地址： | 日本京都府京都*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 溫度 控制 裝置 以及 渦輪 分子 | ||
1.一種溫度控制裝置，為渦輪分子泵的溫度控制裝置，所述渦輪分子泵包括：
定子，設置于泵基底部；
轉子，相對于所述定子旋轉驅動；
加熱部，對所述泵基底部進行加熱；
基底溫度檢測部，對所述泵基底部的溫度進行檢測；以及
轉子溫度檢測部，檢測相當于所述轉子的溫度的物理量即溫度相當量；
所述溫度控制裝置的特征在于包括：
加熱控制部，基于所述轉子溫度檢測部的檢測值來控制所述加熱部對所述泵基底部的加熱；以及
通知部，基于所述轉子的溫度由于反應生成物堆積而有上升傾向的關系、以及所述轉子的溫度的上升傾向與所述泵基底部的加熱量減少的關系，在所述基底溫度檢測部的檢測溫度為規定閾值以下的情況下，發出與所述反應生成物堆積相關的警報。
2.根據權利要求1所述的溫度控制裝置，其特征在于：所述加熱控制部以所述轉子溫度檢測部的檢測值為規定目標值的方式，控制所述加熱部對所述泵基底部的加熱。
3.根據權利要求1所述的溫度控制裝置，其特征在于：
以所述轉子溫度檢測部的檢測值為規定目標值的方式，控制所述加熱部對所述泵基底部的加熱。
4.根據權利要求1至3中任一項所述的溫度控制裝置，其特征在于：所述轉子溫度檢測部包括：
強磁性體靶材，設置于所述轉子；以及
傳感器，以相對于所述強磁性體靶材相向的方式配置，對所述強磁性體靶材的磁導率變化進行檢測，基于所述強磁性體靶材的居里點附近的磁導率變化，檢測所述轉子的溫度。
5.一種渦輪分子泵，其特征在于包括：
定子，設置于泵基底部；
轉子，相對于所述定子旋轉驅動；
加熱部，對所述泵基底部進行加熱；
基底溫度檢測部，對所述泵基底部的溫度進行檢測；
轉子溫度檢測部，檢測相當于所述轉子的溫度的物理量即溫度相當量；以及
根據權利要求1至4中任一項所述的溫度控制裝置。
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