[發明專利]一種清洗工藝及清洗系統

有效

• 申請號: 201611184792.8
• 申請日: 2016-12-20
• 公開（公告）號: CN106733836B
• 公開（公告）日: 2023-05-23
• 發明（設計）人: 朱興德
• 申請（專利權）人: 重慶科本科技股份有限公司
• 主分類號: B08B3/02
• 分類號: B08B3/02;B08B3/14;B08B1/00;B08B13/00
• 代理公司: 重慶中之信知識產權代理事務所(普通合伙) 50213
• 代理人: 張景根

1.一種清洗工藝，其特征在于：通過一種清洗系統實現，所述清洗系統包括上料傳送系統、下料傳送系統、渦流清洗系統、對位清洗系統、高壓探針清洗系統、對位風切系統、控制系統及檢查反饋系統；還包含用于夾持工件翻轉并搬運工件于渦流清洗系統、對位清洗系統、高壓探針清洗系統、對位風切系統、上料傳送系統以及下料傳送系統之間的六軸機器人；控制系統與渦流清洗系統、對位清洗系統、高壓探針清洗系統、對位風切系統、六軸機器人、上料傳送系統以及下料傳送系統均通訊相連；所述控制系統包含用于記錄工件信息并聯結清洗工序對應設備參數的數據庫；

所述上料傳送系統包含有上料傳送帶，用于控制上料傳送帶傳輸開啟、暫停或關閉的上料傳送控制模塊，產品編碼識別系統及上料傳送限位觸發模塊；其中，上料傳送限位觸發模塊設置于上料傳送帶靠傳送方向末端的一側，并與上料傳送控制模塊電連接，用于檢測工件傳送是否到達上料傳送停止位；產品編碼識別系統設置于上料傳送帶的起始傳送側，用于識別傳送工件的產品編碼，并傳遞給控制系統；所述下料傳送系統包含下料傳送帶，用于控制下料傳送帶傳輸開啟、暫停或關閉的下料傳送控制模塊，以及與下料傳送模塊電連接的下料傳送限位觸發模塊；所述下料傳送限位觸發模塊靠下料傳送帶的傳送起始端，用于檢測工件是否到達下料傳送起始位；

所述檢查反饋系統包含控制單元以及分別與控制單元相連的觸摸顯示屏和存儲單元，控制單元與控制系統通信連接；所述存儲單元用于存儲對應型號工件的結構數據信息；還包含由檢查反饋工位連接至上料傳送系統的返工傳送裝置；

所述清洗工藝包含以下清洗步驟：

A、將清洗工件的型號、3D結構數據以及對應清洗區域的設備參數存儲于控制系統的數據庫中，并通過控制系統將工件型號及3D結構數據信息傳送到檢查反饋系統；

B、將工件置于上料傳送系統，并通過產品編碼識別系統獲取并記錄工件的產品編碼；

C、清洗工件，并將清洗工序的設備參數傳輸至控制系統，并在數據庫中與產品編碼匹配聯結；

D、完成清洗后將工件置于下料傳送系統；

E、依次進行真空干燥及強風冷卻工序；

F、外觀檢查，將不符合清洗要求工件的臟污區通過檢查反饋系統將臟污區位置參數及臟污類別信息反饋至控制系統，并通過數據庫與產品編碼、清洗工序的設備參數相聯結；不符合清洗要求的工件通過返工傳送裝置送回至上料傳送系統，并由臟污區對應相關的清洗設備進行清洗；返工清洗的工件其對應重復清洗工序的設備參數添加至數據庫，并與該工件的產品編碼相互聯結；外觀檢察合格則完成清洗；

G、步驟C中清洗工件的工序包含渦流清洗、對位清洗、高壓探針清洗及對位切水工序；清洗工序的設備參數包含清洗作用對應的開啟時間、六軸機器人在清洗工序的相對空間坐標及角度、設備角度、壓力或壓強、清洗液組分及濃度以及清洗設備的相應作用次序；

H、當同一型號工件的清洗數量不小于30后，通過數據庫中臟污區的出現頻次統計進行排序，并對應調整清洗設備參數，其中，臟污區出現頻次高的對應清洗設備調高其壓力或壓強、清洗時間的參數，或經過實驗或仿真后調整并記錄設備的清洗角度；臟污區出現頻次低的區域對應清洗設備調低其清洗時間、壓力或壓強的參數。

2.一種清洗系統，其特征在于：包含上料傳送系統、下料傳送系統、渦流清洗系統、對位清洗系統、高壓探針清洗系統、對位風切系統、控制系統及檢查反饋系統；還包含用于夾持工件翻轉并搬運工件于渦流清洗系統、對位清洗系統、高壓探針清洗系統、對位風切系統、上料傳送系統以及下料傳送系統之間的六軸機器人；控制系統與渦流清洗系統、對位清洗系統、高壓探針清洗系統、對位風切系統、六軸機器人、上料傳送系統以及下料傳送系統均通訊相連；所述控制系統包含用于記錄工件信息并聯結清洗工序對應設備參數的數據庫，

所述上料傳送系統包含有上料傳送帶，用于控制上料傳送帶傳輸開啟、暫停或關閉的上料傳送控制模塊，產品編碼識別系統及上料傳送限位觸發模塊；其中，上料傳送限位觸發模塊設置于上料傳送帶靠傳送方向末端的一側，并與上料傳送控制模塊電連接，用于檢測工件傳送是否到達上料傳送停止位；產品編碼識別系統設置于上料傳送帶的起始傳送側，用于識別傳送工件的產品編碼，并傳遞給控制系統；所述下料傳送系統包含下料傳送帶，用于控制下料傳送帶傳輸開啟、暫停或關閉的下料傳送控制模塊，以及與下料傳送模塊電連接的下料傳送限位觸發模塊；所述下料傳送限位觸發模塊靠下料傳送帶的傳送起始端，用于檢測工件是否到達下料傳送起始位；

所述檢查反饋系統包含控制單元以及分別與控制單元相連的觸摸顯示屏和存儲單元，控制單元與控制系統通信連接；所述存儲單元用于存儲對應型號工件的結構數據信息；還包含由檢查反饋工位連接至上料傳送系統的返工傳送裝置；

還包含污水處理循環系統，所述渦流清洗系統、對位清洗系統、高壓探針清洗系統及對位風切系統均包含用于排出清洗工序所產生水體的污水排出管道，并通過污水排出管道與污水處理循環系統的入水口相連；污水處理循環系統的出水口與外部儲水箱相連；且渦流清洗系統、對位清洗系統及高壓探針清洗系統所對應使用的高壓泵的入水口與自來水管及外部儲水箱的出水口相連；

所述清洗系統的清洗工藝如下：

A、將清洗工件的型號、3D結構數據以及對應清洗區域的設備參數存儲于控制系統的數據庫中，并通過控制系統將工件型號及3D結構數據信息傳送到檢查反饋系統；

B、將工件置于上料傳送系統，并通過產品編碼識別系統獲取并記錄工件的產品編碼；

C、清洗工件，并將清洗工序的設備參數傳輸至控制系統，并在數據庫中與產品編碼匹配聯結；

D、完成清洗后將工件置于下料傳送系統；

E、依次進行真空干燥及強風冷卻工序；

F、外觀檢查，將不符合清洗要求工件的臟污區通過檢查反饋系統將臟污區位置參數及臟污類別信息反饋至控制系統，并通過數據庫與產品編碼、清洗工序的設備參數相聯結；不符合清洗要求的工件通過返工傳送裝置送回至上料傳送系統，并由臟污區對應相關的清洗設備進行清洗；返工清洗的工件其對應重復清洗工序的設備參數添加至數據庫，并與該工件的產品編碼相互聯結；外觀檢察合格則完成清洗；

G、步驟C中清洗工件的工序包含渦流清洗、對位清洗、高壓探針清洗及對位切水工序；清洗工序的設備參數包含清洗作用對應的開啟時間、六軸機器人在清洗工序的相對空間坐標及角度、設備角度、壓力或壓強、清洗液組分及濃度以及清洗設備的相應作用次序；

H、當同一型號工件的清洗數量不小于30后，通過數據庫中臟污區的出現頻次統計進行排序，并對應調整清洗設備參數，其中，臟污區出現頻次高的對應清洗設備調高其壓力或壓強、清洗時間的參數，或經過實驗或仿真后調整并記錄設備的清洗角度；臟污區出現頻次低的區域對應清洗設備調低其清洗時間、壓力或壓強的參數。