[發(fā)明專利]一種單臺面直寫式曝光機

有效

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• 申請日: 2016-12-20
• 公開（公告）號: CN106527056B
• 公開（公告）日: 2019-03-12
• 發(fā)明（設計）人: 蔡志國;王友車;吳斌
• 申請（專利權）人: 湖北凱昌光電科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 深圳市千納專利代理有限公司 44218
• 代理人: 黃良寶

本發(fā)明提供了一種單臺面直寫式曝光機，屬于曝光機領域，其包括底座，底座上設有龍門立柱，龍門立柱上設有X軸向排列的曝光鏡頭，還包括工作臺，工作臺上設有底架、處于底架上的用于標定曝光鏡頭的標定模塊以及用于驅動標定模塊X軸方向滑動的標定模組，工作臺下方設有用于驅動工作臺X軸方向滑動的第一驅動模組，底座上設有用于驅動工作臺Y軸方向滑動的第二驅動模組，第一驅動模組設置在第二驅動模組上方。與現(xiàn)有技術相比，該單臺面直寫式曝光機采用一套標定模塊完成標定，標定流程簡單，標定位置準確，第一驅動模組和第二驅動模組協(xié)同作用并結合標定模組使標定模塊的行程能夠一次性完成整個曝光鏡頭的能量標定。

技術領域

本發(fā)明涉及曝光機領域，特別是一種單臺面直寫式曝光機。

背景技術

目前單臺面直寫光刻裝置的能量標定系統(tǒng)在布局上受限于整機設備不能太寬，水平橫向行程窄，工藝過程要求過于精密，無法低成本做到大行程等，必須使用兩個能量監(jiān)測模塊，左邊模塊標定左半部分鏡頭，右邊模塊標定右半部分鏡頭，這樣來完成整個曝光鏡頭的能量標定，這樣在能量標定過程中，水平橫向軸就需要來回重復移動，既浪費了時間，又造成標定流程相對復雜，同時浪費了一套標定模塊，增加了成本。

發(fā)明內(nèi)容

針對上述問題，本發(fā)明提供了一種單臺面直寫式曝光機，該曝光機采用一套標定模塊完成標定，標定流程簡單，標定準確。

本發(fā)明采用的技術方案為：

一種單臺面直寫式曝光機，包括底座，底座上設有龍門立柱，龍門立柱上設有X軸向排列的曝光鏡頭，還包括工作臺，工作臺上設有底架、處于底架上的用于標定曝光鏡頭的標定模塊以及用于驅動標定模塊X軸方向滑動的標定模組，工作臺下方設有用于驅動工作臺X軸方向滑動的第一驅動模組，底座上設有用于驅動工作臺Y軸方向滑動的第二驅動模組，第一驅動模組設置在第二驅動模組上方；標定模組包括X軸方向設置在底架上的絲桿、驅動絲桿轉動的絲桿電機以及連接絲桿和絲桿電機的聯(lián)軸器，標定模塊套在絲桿上。優(yōu)選地，標定模組還包括設置在底架上用于限制標定模塊移動位置的限位開關。

優(yōu)選地，第一驅動模組包括X軸方向設置的第一基板、X軸方向設置在第一基板上的第一滑軌和沿著第一滑軌滑動的第一滑板，第一基板上設有第一定子組，第一滑板內(nèi)設有用于驅動第一滑板滑動的第一動子組，第一動子組與第一定子組配合，工作臺設置在第一滑板上。

更優(yōu)選地，第一基板上還設有用于限制第一滑板的滑動位置的第一限位開關。

更優(yōu)選地，第一基板上還設有用于防止第一滑板自第一滑軌上脫落的第一限位塊。

優(yōu)選地，第二驅動模組包括Y軸方向固定在底座上的第二基板、Y軸方向設置在第二基板上的第二滑軌和沿著第二滑軌滑動的第二滑板，第二基板上設有第二定子組，第二滑板內(nèi)設有用于驅動第二滑板滑動的第二動子組，第二動子組與第二定子組配合，第二基板穿過龍門立柱，第一基板設置在第二滑板上。

更優(yōu)選地，第二基板上還設有用于限制第二滑板的滑動位置的第二限位開關。

更優(yōu)選地，第二基板上還設有用于防止第二滑板自第二滑軌上脫落的第二限位塊。

與現(xiàn)有技術相比，本發(fā)明的有益效果在于：本發(fā)明提供一種單臺面直寫式曝光機，該曝光機采用一套標定模塊完成標定，標定流程簡單，標定位置準確，第一驅動模組和第二驅動模組協(xié)同作用并結合標定模組使標定模塊的行程能夠一次性完成整個曝光鏡頭的能量標定。

附圖說明

圖1為本發(fā)明提供的一種單臺面直寫式曝光機的立體圖；

圖2為本發(fā)明提供的一種單臺面直寫式曝光機中標定模組的示意圖；

圖3為本發(fā)明提供的一種單臺面直寫式曝光機中第一驅動模組的示意圖；

圖4為本發(fā)明提供的一種單臺面直寫式曝光機中第二驅動模組的示意圖。