[發(fā)明專利]曝光裝置、圖像形成單元和圖像形成裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201611182452.1 | 申請日: | 2016-12-20 |
| 公開(公告)號: | CN106990687A | 公開(公告)日: | 2017-07-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 兼藤大志 | 申請(專利權(quán))人: | 日本沖信息株式會(huì)社 |
| 主分類號: | G03G15/04 | 分類號: | G03G15/04;G03G15/043 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 周學(xué)斌,鄭冀之 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 曝光 裝置 圖像 形成 單元 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種使用電子照片方式形成圖像的圖像形成單元、具備該圖像形成單元的圖像形成裝置和用于它們的曝光裝置。
背景技術(shù)
在使用電子照片方式形成圖像的電子打印機(jī)、傳真機(jī)等各種圖像形成裝置中,使用具有LED(light emitting diode)元件等發(fā)光元件與透鏡陣列的曝光裝置(例如參照專利文獻(xiàn)1)。
現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)1:日本特開2010-221510號公報(bào)。
發(fā)明內(nèi)容
在具備這樣的曝光裝置的圖像形成裝置中,起因于構(gòu)成透鏡陣列的多個(gè)柱透鏡的光學(xué)特性的偏差,有可能在形成的圖像上產(chǎn)生條紋(由在副掃描方向上延伸的條紋產(chǎn)生的主掃描方向上的濃度不均)等質(zhì)量上的問題。
因此,期望提供一種能夠形成更加良好的圖像的圖像形成單元、圖像形成裝置和適合搭載于它們的曝光裝置。
作為本發(fā)明的一種實(shí)施方式的曝光裝置,使圖像載體曝光。該曝光裝置具有:發(fā)光元件陣列,包含排列在第一方向且各自發(fā)出光的多個(gè)發(fā)光元件;以及透鏡陣列,在與第一方向正交的第二方向上,與發(fā)光元件陣列對向配置,分別使由多個(gè)發(fā)光元件各自發(fā)出的多份光成像(聚光),滿足下列式(1)和式(2)。其中,L0是透鏡陣列的焦距(從由透鏡陣列成像的光的第一方向的光量分布算出的對比度為最大的距離),L1是透鏡陣列與發(fā)光元件陣列的距離,L2是透鏡陣列與圖像載體的距離。
175μm≤L0-L1≤250μm ……(1)
175μm≤L0-L2≤250μm ……(2)
作為本發(fā)明的一種實(shí)施方式的圖像形成單元和圖像形成裝置分別具備上述本發(fā)明的一種實(shí)施方式的曝光裝置。
附圖說明
圖1是表示本發(fā)明的一種實(shí)施方式的曝光裝置的整體結(jié)構(gòu)例子的立體圖。
圖2是表示圖1所示的曝光裝置的側(cè)面圖。
圖3是表示圖1所示的柱透鏡的放大分解立體圖。
圖4是表示本發(fā)明的一種實(shí)施方式的圖像形成裝置的整體結(jié)構(gòu)例子的示意圖。
圖5是表示圖4所示的在圖像形成裝置中,圖像形成過程的示意特性圖。
圖6是表示圖4所示的在圖像形成裝置中,當(dāng)圖像載體的感光度特性產(chǎn)生變動(dòng)時(shí),對顯影粉濃度的影響的示意特性圖。
圖7A是表示作為參考例子的曝光裝置的多個(gè)發(fā)光元件的曝光強(qiáng)度分布的示意說明圖。
圖7B是表示圖1所示的曝光裝置的多個(gè)發(fā)光元件的曝光強(qiáng)度分布的示意說明圖。
圖8是表示實(shí)驗(yàn)例1的曝光裝置的曝光強(qiáng)度與位置和光圖大小的關(guān)系的特性圖。
圖9是表示實(shí)驗(yàn)例2的曝光裝置的曝光強(qiáng)度與位置和光圖大小的關(guān)系的特性圖。
圖10是表示實(shí)驗(yàn)例3的曝光裝置的曝光強(qiáng)度與位置和光圖大小的關(guān)系的特性圖。
圖11是表示實(shí)驗(yàn)例4的曝光裝置的曝光強(qiáng)度與位置和光圖大小的關(guān)系的特性圖。
圖12是表示實(shí)驗(yàn)例5的曝光裝置的曝光強(qiáng)度與位置和光圖大小的關(guān)系的特性圖。
圖13是表示實(shí)驗(yàn)例6的曝光裝置的曝光強(qiáng)度與位置和光圖大小的關(guān)系的特性圖。
圖14是表示實(shí)驗(yàn)例7的曝光裝置的曝光強(qiáng)度與位置和光圖大小的關(guān)系的特性圖。
圖15是表示實(shí)驗(yàn)例8的曝光裝置的曝光強(qiáng)度與位置和光圖大小的關(guān)系的特性圖。
圖16是表示實(shí)驗(yàn)例9的曝光裝置的曝光強(qiáng)度與位置和光圖大小的關(guān)系的特性圖。
圖17是表示實(shí)驗(yàn)例10的曝光裝置的曝光強(qiáng)度與位置和光圖大小的關(guān)系的特性圖。
符號的說明
1光學(xué)頭(曝光裝置)
2透鏡陣列
2A,2B端面
21 柱透鏡
22,23側(cè)板
24 外周面
25 透鏡部分
26 光吸收層
3LED(發(fā)光二極管)陣列
31 LED元件
4安裝基板
5支撐部件
7控制部
100圖像形成裝置
101介質(zhì)
102介質(zhì)供給盒
103介質(zhì)輸送輥
104,105搬送對輥
106Y,106M,106C,106K圖像形成部(處理單元)
107定影器
108,109排出對輥
110殼體
111堆垛機(jī)
40 顯影粉盒
41 光導(dǎo)鼓(圖像載體)
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于日本沖信息株式會(huì)社,未經(jīng)日本沖信息株式會(huì)社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201611182452.1/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G03G 電記錄術(shù);電照相;磁記錄
G03G15-00 應(yīng)用電荷圖形的電記錄工藝的設(shè)備
G03G15-01 .用于生產(chǎn)多色復(fù)制品的
G03G15-02 .用于沉積均勻電荷的,即感光用的;電暈放電裝置
G03G15-04 .曝光用的,即將原件圖像光學(xué)投影到光導(dǎo)記錄材料上而進(jìn)行圖像曝光
G03G15-05 .用于圖像充電,例如,光敏控制屏、光觸發(fā)充電裝置
G03G15-054 .用X射線,例如,電放射術(shù)
- 彩色圖像和單色圖像的圖像處理
- 圖像編碼/圖像解碼方法以及圖像編碼/圖像解碼裝置
- 圖像處理裝置、圖像形成裝置、圖像讀取裝置、圖像處理方法
- 圖像解密方法、圖像加密方法、圖像解密裝置、圖像加密裝置、圖像解密程序以及圖像加密程序
- 圖像解密方法、圖像加密方法、圖像解密裝置、圖像加密裝置、圖像解密程序以及圖像加密程序
- 圖像編碼方法、圖像解碼方法、圖像編碼裝置、圖像解碼裝置、圖像編碼程序以及圖像解碼程序
- 圖像編碼方法、圖像解碼方法、圖像編碼裝置、圖像解碼裝置、圖像編碼程序、以及圖像解碼程序
- 圖像形成設(shè)備、圖像形成系統(tǒng)和圖像形成方法
- 圖像編碼裝置、圖像編碼方法、圖像編碼程序、圖像解碼裝置、圖像解碼方法及圖像解碼程序
- 圖像編碼裝置、圖像編碼方法、圖像編碼程序、圖像解碼裝置、圖像解碼方法及圖像解碼程序





