[發(fā)明專利]基于傅里葉梅林及特征匹配的LCD缺陷檢測系統(tǒng)及方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201611174488.5 | 申請日: | 2016-12-19 |
| 公開(公告)號: | CN108205210B | 公開(公告)日: | 2020-12-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 陳文建;朱炳斐;李武森;張峻乾 | 申請(專利權(quán))人: | 南京理工大學(xué) |
| 主分類號: | G02F1/13 | 分類號: | G02F1/13 |
| 代理公司: | 南京理工大學(xué)專利中心 32203 | 代理人: | 馬魯晉 |
| 地址: | 210094 *** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 傅里葉 梅林 特征 匹配 lcd 缺陷 檢測 系統(tǒng) 方法 | ||
1.一種基于傅里葉梅林及特征匹配的LCD缺陷檢測方法,其特征在于,包括以下步驟:
步驟1、系統(tǒng)初始化,用CMOS相機(jī)采集標(biāo)準(zhǔn)的LCD顯示屏圖像存入標(biāo)準(zhǔn)圖庫;
步驟2、用CMOS相機(jī)采集待測的LCD顯示屏圖像;
步驟3、計算機(jī)對所述兩幅圖進(jìn)行圖像配準(zhǔn),具體采用基于傅里葉梅林及特征匹配的方法進(jìn)行配準(zhǔn),先對標(biāo)準(zhǔn)圖和待測圖做傅里葉梅林變換,計算出兩者之間的旋轉(zhuǎn)角度θ0,然后根據(jù)旋轉(zhuǎn)角度θ0初步校正待測圖,接著利用基于特征SURF/SIFT的匹配方法,對標(biāo)準(zhǔn)圖和校正后的待測圖進(jìn)一步配準(zhǔn),獲得配準(zhǔn)后的待測圖;
步驟4、對步驟3配準(zhǔn)后的待測圖和標(biāo)準(zhǔn)圖進(jìn)行融合處理,具體采用加權(quán)平均融合方法進(jìn)行融合,得到融合后的待測圖;
步驟5、對步驟4融合后的待測圖和標(biāo)準(zhǔn)圖進(jìn)行閾值分割,具體采用的是局部自適應(yīng)閾值分割,然后利用差影法檢測缺陷,并用最小外接矩形法統(tǒng)計缺陷的位置及類型。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,步驟1每5min執(zhí)行一次,更新標(biāo)準(zhǔn)圖庫。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,步驟3中采用基于傅里葉梅林及特征匹配所用公式為:
g2(x,y)=g1[(xcosθ0+ysinθ0)-Δx,(-xcosθ0+ysinθ0)-Δy]
G2(ξ,η)=e-2πj(ξΔx+ηΔy)|G1[(ξcosθ0+ηsinθ0),(-ξcosθ0+ηsinθ0)]|
sp1(θ,ρ)=rp1[(θ-θ0),λ]
式中,G2(ξ,η)為g2(x,y)的傅里葉變換,g1(x,y)為標(biāo)準(zhǔn)圖,g2(x,y)待測圖,θ0為待測圖和標(biāo)準(zhǔn)圖之間的旋轉(zhuǎn)角度,Δx和Δy分別為兩者之間的水平和垂直偏移量,G1和G2分別為g1(x,y)和g2(x,y)的頻譜,rp1(θ,ρ)和sp1(θ,ρ)分別為G1和G2在極坐標(biāo)中的頻譜,θ為極坐標(biāo)下的角度參數(shù),ρ為極徑,λ=lgρ。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,步驟3中基于特征SURF/SIFT的匹配方法中最后一步幾何變換采用透射變換。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,步驟3中圖像配準(zhǔn)精度由相關(guān)系數(shù)衡量,所用公式為:
式中,Aij為標(biāo)準(zhǔn)圖某一像素點(diǎn)的灰度值,Bij為待測圖某一像素點(diǎn)的灰度值,為標(biāo)準(zhǔn)圖灰度平均值,為待測圖灰度平均值,C為標(biāo)準(zhǔn)圖和待測圖的相關(guān)系數(shù)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,步驟4中加權(quán)平均融合所用的公式為:
B'(M,N)=c1A(M,N)+c2B(M,N)
式中,A為標(biāo)準(zhǔn)圖,B為待測圖,大小均為M×N,B’為融合后的圖像,加權(quán)系數(shù):
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,步驟5中局部自適應(yīng)閾值分割的滑動窗口大小為9×9。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法,其特征在于,步驟4中加權(quán)系數(shù):c1=0.38,c2=0.62。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





