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[發(fā)明專利]基于微粒散射光近場照明的超分辨光學(xué)顯微成像方法有效

專利信息
申請?zhí)枺?/td> 201611167202.0 申請日: 2016-12-16
公開(公告)號: CN106707484B 公開(公告)日: 2019-06-28
發(fā)明(設(shè)計)人: 凌進(jìn)中;隋國榮;張大偉;賈星偉;嚴(yán)錦雯;高秀敏;沈奶連;莊松林 申請(專利權(quán))人: 上海理工大學(xué)
主分類號: G02B21/06 分類號: G02B21/06
代理公司: 上海申匯專利代理有限公司 31001 代理人: 吳寶根
地址: 200093 *** 國省代碼: 上海;31
權(quán)利要求書: 查看更多 說明書: 查看更多
摘要:
搜索關(guān)鍵詞: 散射光 樣品表面 超分辨 成像 光學(xué)顯微成像 空間分辨率 近場 近場掃描光學(xué)顯微鏡 暗場光學(xué)顯微鏡 暗場顯微鏡 空間超分辨 微米顆粒 衍射極限 照明光源 逐點(diǎn)掃描 顯微鏡 明場 掃描 圖像
【說明書】:

發(fā)明涉及一種基于微粒散射光近場照明的超分辨光學(xué)顯微成像方法,在現(xiàn)有暗場光學(xué)顯微鏡的基礎(chǔ)上,利用微粒的散射光作為顯微鏡的照明光源,被散射光照明的區(qū)域可以獲得超越衍射極限的空間分辨率,實(shí)現(xiàn)了空間超分辨成像。相比于普通的明場或暗場顯微鏡,本發(fā)明具有更高的空間分辨率。相比于近場掃描光學(xué)顯微鏡,通過微米顆粒在樣品表面的掃描,可以獲得整個樣品表面的超分辨圖像,本發(fā)明具有更快的成像速度,不需要在樣品表面逐點(diǎn)掃描,每次成像范圍可以達(dá)到10μm2

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種光學(xué)顯微成像技術(shù),特別涉及一種基于微粒散射光近場照明的超分辨光學(xué)顯微成像方法。

背景技術(shù)

遠(yuǎn)場光學(xué)受限于光學(xué)衍射極限,其成像系統(tǒng)的空間分辨率取決于入射波長和顯微物鏡的數(shù)值孔徑,通常不會小于入射光波長的一半。為突破衍射極限,最常用的技術(shù)為近場掃描光學(xué)顯微鏡。該技術(shù)利用有孔或者無孔探針,位于樣品表面上方數(shù)百納米的范圍內(nèi),收集樣品表面倏逝波的強(qiáng)度,由此獲取樣品的輪廓信息。其分辨率理論上由探針尺寸決定,目前可以達(dá)到20至50納米的空間分辨率。然而該技術(shù)最大的缺陷就是成像速度慢,通常需要幾秒甚至幾十秒來完成一幅圖,因此無法應(yīng)用于實(shí)時的成像測量。

在成像過程中,如果使用的顯微物鏡具有相同的數(shù)值孔徑,明場和暗場顯微鏡的分辨率相同。由于采用了邊緣光束照明技術(shù),相比于明場顯微鏡,暗場顯微鏡抑制了背景光線的影響,具有更好的信噪比和圖像對比度,更加適合物體邊界和輪廓的觀測。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明是針對現(xiàn)在近場掃描光學(xué)顯微鏡成像速度受限的問題,提出了一種基于微粒散射光近場照明的超分辨光學(xué)顯微成像方法,相比于逐點(diǎn)掃描的近場掃描光學(xué)顯微鏡,本方案具有更快的成像速度,同樣可以獲得超越衍射極限的空間分辨率。

本發(fā)明的技術(shù)方案為:一種基于微粒散射光近場照明的超分辨光學(xué)顯微成像方法,包括如下步驟:

1)在現(xiàn)有的暗場光學(xué)顯微鏡的基礎(chǔ)上增加三維移動設(shè)備,三維移動設(shè)備控制微米級的微粒移動;

2)將待測樣品置于顯微物鏡的焦平面上;

3)將微粒移動接近待測樣品表面,距離待測樣品不超過1微米;

4)入射光從側(cè)面入射,暗場光學(xué)顯微鏡對微粒周圍被散射光照亮的區(qū)域進(jìn)行成像,并完成圖像采集;

5)利用三維移動設(shè)備控制微粒在樣品表面逐步按次序移動,并控制微粒距離待測樣品表面的間隔不超過1微米,每移動一步,用暗場光學(xué)顯微鏡采集一次圖像,直至完成待測樣品表面的圖像采集;

6)將所有采集圖像按次序拼接,實(shí)現(xiàn)待測樣品表面超分辨圖像。

所述微粒大小為1至50微米,用來散射顯微鏡的入射光。

所述三維移動設(shè)備包括三維位移平臺和微粒支架,微粒支架一端為尖端結(jié)構(gòu),尖端結(jié)構(gòu)端吸附或者粘貼微粒,另一端連接至三維位移平臺,三維位移平臺通過微粒支架控制微粒在三維空間內(nèi)自由移動。

本發(fā)明的有益效果在于:本發(fā)明基于微粒散射光近場照明的超分辨光學(xué)顯微成像方法,利用微粒的散射光作為顯微鏡的照明光源,實(shí)現(xiàn)了空間超分辨成像。相比于普通的明場或暗場顯微鏡,本發(fā)明具有更高的空間分辨率。相比于近場掃描光學(xué)顯微鏡,本發(fā)明具有更快的成像速度,不需要在樣品表面逐點(diǎn)掃描,每次成像范圍可以達(dá)到10 μm2

附圖說明

圖1為本發(fā)明基于微粒散射光近場照明的超分辨光學(xué)顯微成像示意圖;

圖2為本發(fā)明成像樣品的掃描電子顯微鏡圖;

圖3為本發(fā)明三種顯微鏡模式下對同一樣品的成像效果比較圖。

具體實(shí)施方式

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說明:

1、專利原文基于中國國家知識產(chǎn)權(quán)局專利說明書;

2、支持發(fā)明專利 、實(shí)用新型專利、外觀設(shè)計專利(升級中);

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