[發明專利]平面研磨機

有效

• 申請號: 201611154846.6
• 申請日: 2016-12-14
• 公開（公告）號: CN108214282B
• 公開（公告）日: 2020-12-15
• 發明（設計）人: 邱瑛杰;邱育誠
• 申請（專利權）人: 邱瑛杰;邱育誠
• 主分類號: B24B37/04
• 分類號: B24B37/04;B24B37/34
• 代理公司: 廈門市新華專利商標代理有限公司 35203
• 代理人: 朱凌

本發明公開了一種平面研磨機，該研磨機包括：一基座；一第一旋轉單元，設置在該基座上，該第一旋轉單元有一轉軸；一下定位盤，連接該轉軸；一超音波單元，連接該下定位盤,該超音波單元使該下定位盤上下震蕩；一第二旋轉單元，設置在該基座上；一上定位盤，連接該第二旋轉單元，該上定位盤可移動至對應該下定位盤。將待研磨物件進行研磨時，借由該超音波單元控制該下定位盤震蕩，使該待研磨物件整體隨之震蕩，可提高該待研磨物件的研磨速度，且因為是該待研磨物件整體震蕩，因而不影響其研磨后的平整度。

技術領域

本發明涉及一種平面研磨機。

背景技術

為了要讓玻璃表面平整，通常會進行玻璃表面研磨的工作，參閱中國臺灣發明專利第I290877號「玻璃研磨裝置及研磨系統」，包括：一研磨架；一下部頂板，該下部頂板以可脫離方式結合于該研磨架，其上面設有粘附物；一上部頂板，該上部頂板與該下部頂板的上面對向設置，其在與該下部頂板的對向面附著有研磨墊，且其內部設有研磨液導管，以讓研磨液通過；一驅動裝置，用以旋轉上部頂板；一傳送裝置，用以傳送該驅動裝置；一研磨液供給裝置，借由該上部頂板的研磨液導管提供研磨液。

而為了提高研磨后玻璃的平整度，參閱中國臺灣新型專利第M400382號「超音波輔助化學機械拋光機構」，該案在用于固定研磨冶具的支架上裝設超音波產生器，使該研磨冶具裝設研磨墊后可因為超音波振蕩使研磨墊產生震蕩，以提高待研磨物件在研磨后的平整度。但是，利用超音波產生器使研磨墊產生震蕩，當研磨墊對玻璃進行研磨時，只有接觸研磨墊的玻璃受到震蕩影響，屬于單點震蕩，因而不易控制研磨后玻璃的平整度。

發明內容

本發明的目的在于提供一種平面研磨機，使該待研磨物件整體隨之震蕩，提高待研磨物件的研磨速度，且不影響其表面平整度。

基于此，本發明主要采用下列技術手段，來實現上述目的。

一種平面研磨機，包括：一基座；一第一旋轉單元，設置在該基座上，該第一旋轉單元有一轉軸，該轉軸具有一軸桿；一下定位盤，連接該轉軸；一超音波單元，套設在該軸桿上，該超音波單元并直接接觸該下定位盤，該超音波單元使該下定位盤上下震蕩；一第二旋轉單元，設置在該基座上；一上定位盤，連接該第二旋轉單元，該上定位盤可移動至對應該下定位盤。

進一步，該轉軸上有一液壓軸承。

進一步，該第二旋轉單元連接在一位移單元上，該上定位盤通過該位移單元移動至對應該下定位盤。

進一步，該位移單元上有一用以控制該上定位盤的移動位置的光學尺。

進一步，一雷射測距儀設置在該基座上，該雷射測距儀有一偵測接頭可伸入該下定位盤上方。

進一步，該第二旋轉單元的轉速介于每分鐘1000轉至每分鐘4000轉。

進一步，該第一旋轉單元的轉速介于每分鐘1轉至每分鐘60轉。

本發明平面研磨機通過基座、第一旋轉單元、下定位盤、超音波單元、第二旋轉單元、上定位盤的設計及將一待研磨物件固定在一下定位盤上；使一上定位盤位移至對應該下定位盤，而對該待研磨物件進行研磨，研磨過程中，以一超音波單元控制該下定位盤產生震蕩，使該待研磨物件隨之震蕩，從而待研磨物件進行研磨時，借由該超音波單元控制該下定位盤震蕩，使該待研磨物件整體隨之震蕩，可提高該待研磨物件的研磨速度，且因為是該待研磨物件整體震蕩，因而不影響其研磨后的平整度，研磨后的待研磨物件表面粗糙度Ra不大于0.03微米，其表面不均勻度不大于百分之十。

附圖說明

圖1為本發明的立體外觀圖。

圖2為本發明實施例中，第一旋轉單元、下定位盤及超音波單元的配置關系圖。

圖3為本發明實施例中，雷射測距儀操作示意圖。