[發明專利]平面研磨機有效
| 申請號： | 201611154846.6 | 申請日： | 2016-12-14 |
| 公開（公告）號： | CN108214282B | 公開（公告）日： | 2020-12-15 |
| 發明（設計）人： | 邱瑛杰;邱育誠 | 申請（專利權）人： | 邱瑛杰;邱育誠 |
| 主分類號： | B24B37/04 | 分類號： | B24B37/04;B24B37/34 |
| 代理公司： | 廈門市新華專利商標代理有限公司 35203 | 代理人： | 朱凌 |
| 地址： | 中國臺灣臺南市安*** | 國省代碼： | 臺灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 平面 研磨機 | ||
【權利要求書】：
1.一種平面研磨機，其特征在于，包括：
一基座；
一第一旋轉單元，設置在該基座上，該第一旋轉單元有一轉軸，該轉軸具有一軸桿；
一下定位盤，連接該轉軸；
一超音波單元，套設在該軸桿上，該超音波單元并直接接觸該下定位盤，該超音波單元使該下定位盤上下震蕩；
一第二旋轉單元，設置在該基座上；
一上定位盤，連接該第二旋轉單元，該上定位盤可移動至對應該下定位盤。
2.如權利要求1所述的平面研磨機，其特征在于：該轉軸上有一液壓軸承。
3.如權利要求1所述的平面研磨機，其特征在于：該第二旋轉單元連接在一位移單元上，該上定位盤通過該位移單元移動至對應該下定位盤。
4.如權利要求3所述的平面研磨機，其特征在于：該位移單元上有一用以控制該上定位盤的移動位置的光學尺。
5.如權利要求3所述的平面研磨機，其特征在于：還有一雷射測距儀設置在該基座上，該雷射測距儀有一偵測接頭可伸入該下定位盤上方。
6.如權利要求1所述的平面研磨機，其特征在于：該第二旋轉單元的轉速介于每分鐘1000轉至每分鐘4000轉。
7.如權利要求1所述的平面研磨機，其特征在于：該第一旋轉單元的轉速介于每分鐘1轉至每分鐘60轉。
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