[發(fā)明專利]全井眼測井圖像生成裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201611149379.8
• 申請日: 2016-12-14
• 公開（公告）號: CN106780332B
• 公開（公告）日: 2020-03-24
• 發(fā)明（設計）人: 張兆輝;杜社寬;廖建波;楊貴前
• 申請（專利權）人: 中國科學院地質(zhì)與地球物理研究所蘭州油氣資源研究中心
• 主分類號: G06T3/40
• 分類號: G06T3/40
• 代理公司: 北京超凡志成知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) 11371
• 代理人: 唐維虎

1.一種全井眼測井圖像生成裝置，應用于數(shù)據(jù)處理設備，其特征在于，所述裝置包括：

數(shù)據(jù)獲取模塊，用于獲得目標窗口范圍內(nèi)的測井電成像數(shù)據(jù)；

灰度化模塊，用于對所述目標窗口范圍內(nèi)測井電成像數(shù)據(jù)進行灰度化處理，得到灰度圖像；

中心點選取模塊，用于在灰度圖像確定待填充區(qū)域，并在所述待填充區(qū)域上選取一填充中心點；

待填充塊選取模塊，用于基于所述填充中心點周圍預設紋理檢測范圍內(nèi)的圖像紋理特征確定一待填充塊；

篩選模塊，用于基于該待填充塊的大小在所述灰度圖像中選取多個候選填充塊，并基于該待填充塊的平均像素灰度計算得到所述多個候選填充塊與所述待填充塊的相似度，選取一與該待填充塊相似度最高的候選填充塊作為最優(yōu)填充塊；

填充模塊，用于使用所述最優(yōu)填充塊對該待填充塊進行圖像填充；

循環(huán)模塊，用于控制上述模塊重復確定所述待填充塊并進行圖像填充的步驟，對所述目標窗口范圍內(nèi)的所有待填充區(qū)域進行圖像填充；

所述篩選模塊包括：

候選填充塊生成子模塊，用于在所述填充中心點周圍一預設搜索范圍內(nèi)的已填充區(qū)域中，選取多個與該待填充塊大小相同的候選填充塊；

灰度差異篩選子模塊，用于從多個所述候選填充塊中篩選剔除與所述待填充區(qū)域的灰度差異大于預設灰度差異閾值的候選填充塊；

相似度篩選子模塊，用于在篩選后的所述候選填充塊中選取一與所述待填充塊相似度最高的候選填充塊作為最優(yōu)填充塊；

所述候選填充塊與所述待填充塊相似度通過一空間加權灰度距離表征；所述相似度篩選子模塊選取所述最優(yōu)填充塊的方式，包括：

針對所述待填充區(qū)域中已有灰度值的每個像素點，計算所述像素點與所述候選填充塊中位置對應的像素點的灰度差，獲得所述待填充區(qū)域與所述候選填充塊的灰度距離；

記所述灰度距離為GD，計算公式如下：

其中：d(Ψp,Ψq)表示候選填充塊Ψq與待填充塊Ψp之間的灰度距離；ε表示待填充塊與候選填充塊的邊長；p_ij、q_ij分別表示待填充塊和候選填充塊內(nèi)第i行、第j列像素灰度值；f(i,j)表示待填充塊內(nèi)第i行、第j列像素是否參與相似度計算，f(i,j)＝0參與計算，f(i,j)＝1不參與計算；ω(p_ij,q_ij)表示待填充塊和候選塊填充內(nèi)第i行、第j列像素的空間距離；i、j滿足0<i≤ε、0<j≤ε；分別為在搜索區(qū)域內(nèi)點坐標，滿足

采用所述待填充區(qū)域與所述候選填充塊中對應像素點的空間距離，對所述灰度距離進行加權計算，獲得所述待填充區(qū)域與所述候選填充塊的空間加權灰度距離，并將與所述待填充塊的空間加權灰度距離最小的候選填充塊作為所述最優(yōu)填充塊。

2.根據(jù)權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述灰度化模塊進行灰度化處理的方式，包括：

在所述測井電成像數(shù)據(jù)上選取未進行灰度化處理的圖像數(shù)據(jù)，對所述未進行灰度化處理的圖像數(shù)據(jù)進行歸一灰度化處理得到灰度圖像。

3.根據(jù)權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述中心點選取模塊選取所述填充中心點的方式，包括：

在所述灰度圖像上選取空白的區(qū)域作為待填充區(qū)域；

基于像素點周圍預設優(yōu)先級計算范圍內(nèi)的像素點置信度及像素點的數(shù)據(jù)計算所述待填充區(qū)域邊界點的優(yōu)先級，選取一優(yōu)先級最高的邊界點作為填充中心點。

4.根據(jù)權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述紋理特征由所述填充中心點周圍預設紋理檢測范圍內(nèi)的像素平均梯度模值表征；所述待填充塊選取模塊包括：

梯度模值計算子模塊，用于計算所述填充中心點周圍預設紋理檢測范圍內(nèi)的像素平均梯度模值；

選取子模塊，用于基于所述像素平均梯度模值，以所述填充中心點為中心確定一待填充塊的大小。