[發(fā)明專(zhuān)利]全井眼測(cè)井圖像生成裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201611149379.8
• 申請(qǐng)日: 2016-12-14
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN106780332B
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-03-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張兆輝;杜社寬;廖建波;楊貴前
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 中國(guó)科學(xué)院地質(zhì)與地球物理研究所蘭州油氣資源研究中心
• 主分類(lèi)號(hào): G06T3/40
• 分類(lèi)號(hào): G06T3/40
• 代理公司: 北京超凡志成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11371
• 代理人: 唐維虎

本發(fā)明提供了一種全井眼測(cè)井圖像生成裝置，所述裝置包括：數(shù)據(jù)獲取模塊，用于獲得目標(biāo)窗口范圍內(nèi)的測(cè)井電成像數(shù)據(jù)；灰度化模塊，用于對(duì)目標(biāo)窗口范圍內(nèi)測(cè)井電成像數(shù)據(jù)進(jìn)行灰度化處理，得到灰度圖像；中心點(diǎn)選取模塊，用于在待填充區(qū)域上選取一填充中心點(diǎn)；待填充塊選取模塊，用于確定一待填充塊；篩選模塊，用于選取多個(gè)候選填充塊，并基于該待填充塊的平均像素灰度計(jì)算得到多個(gè)候選填充塊與待填充塊的相似度；填充模塊，用于選取一與該待填充塊相似度最高的候選填充塊對(duì)該待填充塊進(jìn)行圖像填充。如此，可以對(duì)更加復(fù)雜多變的地層圖像進(jìn)行處理，獲得的灰度圖像，數(shù)據(jù)精確度及可靠性更強(qiáng)，且計(jì)算效率更高。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及石油勘探技術(shù)領(lǐng)域，具體而言，涉及一種全井眼測(cè)井圖像生成裝置。

背景技術(shù)

石油勘探中需要對(duì)測(cè)井?dāng)?shù)據(jù)進(jìn)行分析以獲得地質(zhì)儲(chǔ)層信息及工程技術(shù)資料。其中，電成像測(cè)井技術(shù)可以提供大量高分辨率、直觀的地層圖像信息，廣泛應(yīng)用于碳酸鹽巖、火山巖等復(fù)雜巖性的儲(chǔ)層評(píng)價(jià)。

現(xiàn)目前的電成像測(cè)井技術(shù)中，由于受電成像測(cè)井儀器結(jié)構(gòu)的限制，在獲取測(cè)井圖像時(shí)無(wú)法達(dá)到360°全井眼100％覆蓋，會(huì)在井周二維圖像上產(chǎn)生規(guī)則分布的空白條帶，嚴(yán)重影響圖像質(zhì)量?；诂F(xiàn)有技術(shù)獲得圖像進(jìn)行地層分析工作，會(huì)導(dǎo)致在對(duì)縫洞等儲(chǔ)層參數(shù)定量計(jì)算時(shí)可能產(chǎn)生較大的誤差，甚至錯(cuò)誤，給后續(xù)工作帶來(lái)極大困擾。

發(fā)明內(nèi)容

為了克服現(xiàn)有技術(shù)中的上述不足，本發(fā)明的目的在一種全井眼測(cè)井圖像生成裝置，應(yīng)用于數(shù)據(jù)處理設(shè)備，所述裝置包括：

數(shù)據(jù)獲取模塊，用于獲得目標(biāo)窗口范圍內(nèi)的測(cè)井電成像數(shù)據(jù)；

灰度化模塊，用于對(duì)所述目標(biāo)窗口范圍內(nèi)測(cè)井電成像數(shù)據(jù)進(jìn)行灰度化處理，得到灰度圖像；

中心點(diǎn)選取模塊，用于在灰度圖像確定待填充區(qū)域，并在所述待填充區(qū)域上選取一填充中心點(diǎn)；

待填充塊選取模塊，用于基于所述填充中心點(diǎn)周?chē)A(yù)設(shè)紋理檢測(cè)范圍內(nèi)的圖像紋理特征確定一待填充塊；

篩選模塊，用于基于該待填充塊的大小在所述灰度圖像中選取多個(gè)候選填充塊，并基于該待填充塊的平均像素灰度計(jì)算得到所述多個(gè)候選填充塊與所述待填充塊的相似度，選取一與該待填充塊相似度最高的候選填充塊作為最優(yōu)填充塊；

填充模塊，用于使用所述最優(yōu)填充塊對(duì)該待填充塊進(jìn)行圖像填充；

循環(huán)模塊，用于控制上述模塊重復(fù)確定所述待填充塊并進(jìn)行圖像填充的步驟，對(duì)所述目標(biāo)窗口范圍內(nèi)的所有待填充區(qū)域進(jìn)行圖像填充。

進(jìn)一步地，在上述裝置中，所述灰度化模塊進(jìn)行灰度化處理的方式，包括：

在所述測(cè)井電成像數(shù)據(jù)上選取未進(jìn)行灰度化處理的圖像數(shù)據(jù)，對(duì)所述未進(jìn)行灰度化處理的圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行歸一灰度化處理得到灰度圖像。

進(jìn)一步地，在上述裝置中，所述中心點(diǎn)選取模塊選取所述填充中心點(diǎn)的方式，包括：

在所述灰度圖像上選取空白的區(qū)域作為待填充區(qū)域；

基于像素點(diǎn)周?chē)A(yù)設(shè)優(yōu)先級(jí)計(jì)算范圍內(nèi)的像素點(diǎn)置信度及像素點(diǎn)的數(shù)據(jù)計(jì)算所述待填充區(qū)域邊界點(diǎn)的優(yōu)先級(jí)，選取一優(yōu)先級(jí)最高的邊界點(diǎn)作為填充中心點(diǎn)。

進(jìn)一步地，在上述裝置中，所述紋理特征由所述填充中心點(diǎn)周?chē)A(yù)設(shè)紋理檢測(cè)范圍內(nèi)的像素平均梯度模值表征；所述待填充塊選取模塊包括：

梯度模值計(jì)算子模塊，用于計(jì)算所述填充中心點(diǎn)周?chē)A(yù)設(shè)紋理檢測(cè)范圍內(nèi)的像素平均梯度模值；

選取子模塊，用于基于所述像素平均梯度模值，以所述填充中心點(diǎn)為中心確定一待填充塊的大小。

進(jìn)一步地，在上述裝置中，所述篩選模塊包括：