[發明專利]一種PECVD鍍膜裝置

有效

• 申請號: 201611145208.8
• 申請日: 2016-12-13
• 公開（公告）號: CN106756884B
• 公開（公告）日: 2018-10-23
• 發明（設計）人: 陳德榜
• 申請（專利權）人: 溫州海旭科技有限公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455;C23C16/50
• 代理公司: 上海翼勝專利商標事務所(普通合伙) 31218
• 代理人: 翟羽

1.一種PECVD鍍膜裝置, 包括雙層石英管（1），其特征在于：所述雙層石英管（1）端部設有法蘭（2），所述雙層石英管（1）內腔設有鍍膜腔（3），所述鍍膜腔（3）外壁上固定有感應線圈（4），所述法蘭（2）上設有第一工藝進氣口（5）和第二工藝進氣口（6），且所述第一工藝進氣口（5）、所述第二工藝進氣口（6）連接設置在鍍膜腔（3）內部的氣體穩流裝置（7），所述雙層石英管（1）一側和底部均開有通孔（8），且側壁的通孔內穿設抽真空管（9），且所述抽真空管（9）連通鍍膜腔（3），所述抽真空管（9）連接抽真空設備（10），底部的通孔內穿設有尾氣排放管（11），且所述尾氣排放管（11）連通鍍膜腔（3），所述尾氣排放管（11）連接尾氣處理裝置（12）；所述氣體穩流裝置包括穩流體（13）、進氣口（14）、蜂窩片（15）、氣體調整器（16）、出氣口（17）和過濾片（18），所述穩流體（13）的一端設有進氣口（14），所述穩流體（13）的另一端設有出氣口（17），所述穩流體（13）的內部設有蜂窩片（15）、氣體調整器（16），所述蜂窩片（15）位于進氣口（14）的一端，所述蜂窩片（15）連接氣體調整器（16），所述氣體調整器（16）的出口通過過濾片（18）連接出氣口（17），所述氣體調整器（16）內包括多個氣流調節格柵（19），且所述氣流調節格柵（19）呈錐形。

2.根據權利要求1所述的一種PECVD鍍膜裝置，其特征在于：所述感應線圈（4）包括耦合式感應線圈原邊（20）和耦合式感應線圈副邊（21），所述耦合式感應線圈原邊（20）套在耦合式感應線圈副邊（21）外側，所述耦合式感應線圈原邊（20）采用柱形中空結構，所述耦合式感應線圈副邊（21）采用錐形中空結構。

3.根據權利要求1所述的一種PECVD鍍膜裝置，其特征在于：還包括第一電磁閥（22）、第二電磁閥（23）、第三電磁閥（24）和第四電磁閥（25），所述第一電磁閥（22）和第二電磁閥（23）分別安裝在第一工藝進氣口（5）和第二工藝進氣口（6）處，所述第三電磁閥（24）安裝在抽真空管（9）上，所述第四電磁閥（25）安裝在尾氣排放管（11）上。

4.實現權利要求1所述的一種PECVD鍍膜裝置的使用方法，其特征在于：其使用方法包括以下步驟：

A、將硅片放入鍍膜腔中，關閉第一電磁閥、第二電磁閥、第四電磁閥，打開第三電磁閥，對鍍膜腔進行抽真空，真空度為1.5×10^-2Pa-1.8×10^-2Pa后，關閉第三電磁閥，打開第一電磁閥，通入高純度氬氣，通入氬氣流量為20L/min-40L/min，通入時間為5min-10min，之后關閉第一電磁閥；

B、開啟中頻電源，使感應線圈工作，控制輸出功率 8KW-10KW，之后緩慢打開第三電磁閥，降低鍍膜腔內真空，直至達到1.1×10^-2Pa；

C、關閉第三電磁閥，打開第二電磁閥，通入甲烷，通入的甲烷流量為5L/min-8L/min，通入時間為5min-10min，之后關閉第二電磁閥；

D、待鍍膜腔內真空度降至0.7×10^-2Pa時，打開第四電磁閥，排出未反應的尾氣。