[發明專利]一種釉漿恒溫淋釉穩定的淋釉方法

有效

• 申請號: 201611140756.1
• 申請日: 2016-12-12
• 公開（公告）號: CN106584658B
• 公開（公告）日: 2019-03-05
• 發明（設計）人: 葉德林;洪衛;李輝;黃詩程;謝石長
• 申請（專利權）人: 佛山市三水新明珠建陶工業有限公司;廣東新明珠陶瓷集團有限公司
• 主分類號: B28B11/04
• 分類號: B28B11/04
• 代理公司: 北京申翔知識產權代理有限公司 11214
• 代理人: 艾晶

本發明一種釉漿恒溫淋釉穩定的淋釉方法，所述方法采用兩個設有鏍旋形冷卻通道的恒溫釉缸、兩個釉泵、淋釉鐘罩、淋釉斗組成閉路釉漿循環系統，在整個釉漿循環系統中，釉漿始終處于降溫、循環流動、過篩處理的節奏中，很好的解決了淋釉過程出現的釉漿觸變、釉漿液面結皮、釉漿不均勻等問題，同時可濾掉一些大的雜質顆粒，主釉缸釉漿液面穩定，對整個淋釉系統起到穩定的基石作用，本發明一種釉漿恒溫淋釉穩定的淋釉方法很好的保持了磚坯整個淋釉過程的穩定。

技術領域

本發明涉及在陶瓷生產中一種淋釉方法，尤其是一種可以保持釉漿恒溫、淋釉過程穩定的方法。

背景技術

目前，在陶瓷生產中，淋釉看起來是一道比較簡單的工序，但又是比較容易出錯的工序，很多瓷磚釉面缺陷都是淋釉引起，像釉面波紋、不平、針孔、釉泡、釉粉等缺陷，淋釉引起的缺陷在瓷磚缺陷降級中占有很大比例。目前，淋釉過程主要采用單釉缸淋釉方式，一個釉缸、一個釉泵，釉泵抽釉輸送到釉斗，釉斗的釉一部分向下流向淋釉鐘罩，經淋釉鐘罩呈簾幕狀淋在磚面上，另一部分經回釉管流回釉缸(釉泵輸釉流量大于釉斗向下流量)，淋釉鐘罩簾幕淋釉一部分淋在磚面一部分經集釉斗收集流回到釉缸，釉缸、釉泵、釉斗、淋釉鐘罩、集釉斗在釉泵與輸釉管聯接下組成一個循環系統。此循環系統在生產過程中存在很多缺陷，

1、釉缸中釉漿在釉泵的攪拌過程會存在分層差異，釉缸下層的釉漿攪拌速度較快流動性好，上層流動性慢時會出現觸變現象，上層釉漿呈固體果凍狀態，攪動一下又成釉漿。觸變現象不去處理時間一長隨著表層水份的蒸發表層會形成一層釉皮，此釉皮水份含量減少，經攪拌不能返回成釉漿，時間越長釉皮會越厚。釉皮塊或顆粒淋在磚面，磚會形成釉團釉泡等缺陷。釉缸中釉的觸變同時也導致釉漿的不均勻，釉漿的不均勻淋釉燒成后會出現產品顏色不穩定。

2、釉缸中的釉漿在使用過程中，釉漿液位會逐步下降，下降到一定位置又添加新釉料，液位又回升，整個淋釉工序釉缸中的釉漿液位處于一個上下下上的變化過程，這對于穩定淋釉十分不利，釉漿液位的高低會影響釉泵抽釉的壓力，從而影響輸釉量的變化，輸釉量的變化也就是整個循環系統的變化。當釉漿液位低于或平行釉泵泄流孔時，釉漿從釉泵泄流孔流出速度快很容易飛淺出來，同時釉漿很容易產生氣泡，泄流孔失去外壓流量加大，相對向上輸釉量就會減小，這對淋釉是十分不利。

3、釉漿粘性大，易沉淀、同色與均勻性要求高，釉泵在釉缸中需要不斷攪拌，攪拌葉片旋轉摩擦產生大量熱量，導致釉漿溫度升高，釉漿溫度高會引起釉漿性能變差，釉漿會變粘，釉漿水分蒸發加快，淋釉釉量不穩定等問題。

發明內容

為了克服目前淋釉的缺點：本發明提供一種釉漿恒溫淋釉穩定的淋釉方法，其特征在于：所述方法采用兩個設有鏍旋形冷卻通道的恒溫釉缸、兩個釉泵、淋釉鐘罩、淋釉斗組成閉路釉漿循環系統，釉漿始終處于降溫、循環流動、過篩處理的循環狀態。

本發明方法采用如下技術方案：

首先，本發明采用了一種組合淋釉裝置，包含主釉缸，主釉缸釉泵，主釉泵輸釉管，淋釉斗，回釉管，淋釉鐘罩，集釉管，主釉缸釉泵具有第一泄流孔，集釉管上連接一集釉斗，其改進在于，還包含：一副釉缸及與之配合的副釉缸釉泵，副釉缸釉泵具有第二泄流孔；一副釉泵輸釉管，其入口端設置于副釉缸內，出口端延伸至主釉缸；所述副釉缸內的釉漿通過副釉缸釉泵及副釉泵輸釉管輸送入至主釉缸內；一溢流管，其入口端設置于主釉缸的靠近頂部位置，出口端延伸至副釉缸，主釉缸內釉漿通過溢流管回流至副釉缸；所述回釉管延伸至副釉缸；所述集釉管延伸至副釉缸。

其中，所述主釉缸和副釉缸均為包含釉缸外壁和釉缸內壁的雙層結構；所述釉缸外壁和釉缸內壁之間設置有鏍旋形分隔層并形成有鏍旋形冷卻液通道；所述鏍旋形冷卻液通道的入口設在釉缸缸體底部外壁上，出口設在釉缸缸體外壁上部與外界相通。

其中，所述主釉缸設置有第一過篩網，所述副釉泵輸釉管的出口端與之相對；所述副釉缸設置有第二過篩網和第三過篩網，所述溢流管的出口端與第二過篩網相對，所述回釉管和集釉管的出口端與之相對。