[發(fā)明專利]一種釉漿恒溫淋釉穩(wěn)定的淋釉方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201611140756.1
• 申請日: 2016-12-12
• 公開（公告）號: CN106584658B
• 公開（公告）日: 2019-03-05
• 發(fā)明（設計）人: 葉德林;洪衛(wèi);李輝;黃詩程;謝石長
• 申請（專利權）人: 佛山市三水新明珠建陶工業(yè)有限公司;廣東新明珠陶瓷集團有限公司
• 主分類號: B28B11/04
• 分類號: B28B11/04
• 代理公司: 北京申翔知識產權代理有限公司 11214
• 代理人: 艾晶

1.一種組合淋釉裝置，包含主釉缸(5)，主釉缸釉泵(3)，主釉泵輸釉管(20)，淋釉斗(19)，回釉管(18)，淋釉鐘罩(17)，集釉管(14)，主釉缸釉泵(3)具有第一泄流孔(8-1)，集釉管(14)上連接一集釉斗(15)，其特征在于，還包含：

一副釉缸(12)及與之配合的副釉缸釉泵(16)，副釉缸釉泵(16)具有第二泄流孔(8-2)；

一副釉泵輸釉管(13)，其入口端設置于副釉缸(12)內，出口端延伸至主釉缸(5)；

所述副釉缸(12)內的釉漿(9)通過副釉缸釉泵(16)及副釉泵輸釉管(13)輸送入至主釉缸(5)內；

一溢流管(11)，其入口端設置于主釉缸(5)的靠近頂部位置，出口端延伸至副釉缸(12)，主釉缸(5)內釉漿(9)通過溢流管(11)回流至副釉缸(12)；

所述回釉管(18)延伸至副釉缸(12)；

所述集釉管(14)延伸至副釉缸(12)。

2.如權利要求1所述的組合淋釉裝置，其特征在于：

所述主釉缸(5)和副釉缸(12)均為包含釉缸外壁(22)和釉缸內壁(24)的雙層結構；

所述釉缸外壁(22)和釉缸內壁(24)之間設置有鏍旋形分隔層(26)并形成有鏍旋形冷卻液通道(23)；

所述鏍旋形冷卻液通道(23)的入口(7)設在釉缸缸體底部外壁上，出口(6)設在釉缸缸體外壁上部與外界相通。

3.如權利要求2所述的組合淋釉裝置，其特征在于：

所述主釉缸(5)設置有第一過篩網(4-1)，所述副釉泵輸釉管(13)的出口端與之相對；

所述副釉缸(12)設置有第二過篩網(4-2)和第三過篩網(4-3)，所述溢流管(11)的出口端與第二過篩網(4-2)相對，所述回釉管(18)和集釉管(14)的出口端與第三過篩網(4-3)相對。

4.如權利要求2所述的組合淋釉裝置，其特征在于：

所述主釉缸(5)和副釉缸(12)底部均設有底部固定凹口(25)，該底部固定凹口(25)呈圓形分散布置，底部固定凹口尺寸大于釉泵支撐腳面大小。

5.一種釉漿恒溫淋釉穩(wěn)定的淋釉方法，使用權利要求1至4中任一項中所述的組合淋釉裝置，其特征在于：

將釉漿(9)加入副釉缸(12)，釉漿(9)液位第二泄流孔(8-2)時，啟動副釉缸釉泵(16)，使得釉漿處于攪拌狀態(tài)；

當釉漿液位接近溢流管時，打開副釉泵輸釉管(13)上的閥門，讓釉漿經副釉泵輸釉管(13)輸送到主釉缸第一過篩網(4-1)過篩流到主釉缸；

持續(xù)往副釉缸(12)添加釉漿，到主釉缸的釉漿(9)從溢流管(11)順暢回流到副釉缸第二過篩網(4-2)過篩流回副釉缸(12)，調節(jié)副釉泵輸釉管(13)上的閥門的開度，使副釉泵輸釉管(13)輸釉流量小于溢流管(11)的最大可流出量；

接通主釉缸釉泵(16)的電源，釉泵葉片(10)旋轉，讓主釉缸中的釉漿(9)處于攪拌狀態(tài)；

打開主釉缸輸釉管(20)上的閥門，讓釉漿(9)輸送到淋釉斗(19)，當淋釉斗(19)上的回釉管(18)有釉漿流出時，打開淋釉斗(19)下部閥門，讓釉漿流下到淋釉鐘罩(17)形成釉漿簾幕。

6.如權利要求5所述的淋釉方法，其特征在于：實時調整主釉缸輸釉管(20)上的閥門使得淋釉斗(19)的液位處于回釉溢流孔內高度的20-50％。

7.如權利要求6所述的淋釉方法，其特征在于：實時調整副釉泵輸釉管(13)上的閥門開度主釉缸(5)中的釉漿液位要處于溢流口內高度的20-50％。

8.如權利要求7所述的淋釉方法，其特征在于：所述副釉缸向主釉缸輸送流量要大于主釉缸向淋釉斗的輸送流量，多的部分經溢流管(11)流回副釉缸(12)。

9.如權利要求8所述的淋釉方法，其特征在于：所述主釉缸(5)向淋釉斗(19)輸送釉漿量要大于淋釉斗(19)向淋釉鐘罩(17)輸送釉量，多的部分經回釉管(18)流回副釉缸(12)。

10.如權利要求9所述的淋釉方法，其特征在于：所述淋釉鐘罩(17)形成釉漿簾幕，磚坯在皮帶的輸送下在釉漿簾幕下通過，釉漿淋于磚坯面上，多余的釉漿經集釉斗(15)收集流回副釉缸(12)。