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[發明專利]掩膜框架及制造方法和掩膜板有效

專利信息
申請號: 201611138902.7 申請日: 2016-12-12
公開(公告)號: CN106702318B 公開(公告)日: 2018-11-23
發明(設計)人: 林治明 申請(專利權)人: 京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司
主分類號: C23C14/04 分類號: C23C14/04;C23C14/24
代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112 代理人: 姜春咸;陳源
地址: 100015 *** 國省代碼: 北京;11
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摘要:
搜索關鍵詞: 容納槽 遮擋條 掩膜 定位孔 主框架 掩膜條 蒸鍍 焊接 邊緣部 掩膜板 偏量 遮擋 貫穿 制造
【說明書】:

發明提供一種掩膜框架,包括主框架和多個遮擋條,主框架上形成有沿厚度方向貫穿主框架的蒸鍍區,主框架上設置有多對第一容納槽,同一對第一容納槽中的兩個第一容納槽分別位于蒸鍍區第一方向的兩側,每個遮擋條對應一對第一容納槽,遮擋條的兩端分別設置在相應的兩個第一容納槽中,掩膜框架包括至少一對第一定位孔,每對第一定位孔對應一對第一容納槽,且同一對第一定位孔中的兩個第一定位孔分別與相應的一對第一容納槽中的兩個第一容納槽位置對應。本發明還提供一種掩膜板。由于遮擋條精確地焊接在第一容納槽中,從而可以對設置在掩膜框架上的掩膜條的邊緣部進行遮擋,并且,由于遮擋條位置焊接精確,從而可以為掩膜條設計提供了較大的預偏量。

技術領域

本發明涉及蒸鍍設備領域,具體地,涉及一種掩膜框架、該掩膜框架的制造方法和一種包括所述掩膜框架的掩膜板。

背景技術

在形成有機發光二極管顯示面板時,需要用到蒸鍍工藝。在蒸鍍工藝中,為了形成特定的圖形,需要用到掩膜板。為了提高生產效率,通常在一個大的母板上進行蒸鍍,然后將母板切割成多個小的陣列基板。相應地,掩膜板包括掩膜框架和多個掩膜條。掩膜條上形成有多個通孔,并且掩膜條固定在掩膜框架上。掩膜條上形成有多個通孔,蒸鍍材料透過通孔沉積在母板上,以獲得相應的圖形。

為了保證掩膜條上應力處處相等,減少褶皺的產生,在掩膜條的邊緣上也形成有通孔。但是,在沉積材料時,母板上與掩膜條的邊緣對應的部分不需要沉積材料,因此,需要利用遮擋條對掩膜條的邊緣進行遮擋。

圖1中所示的是掩膜框架的主框架的示意圖,如圖所示,所述主框架上形成有沿厚度方向貫穿主框架100的蒸鍍區A,主框架100上設置有多對第一容納槽110,同一對第一容納槽包括兩個第一容納槽110,兩個第一容納槽110分別位于蒸鍍區A第一方向(圖1中的上下方向)的兩側。在圖1中所示的實施方式中,主框架上設置有三對第一容納槽110。所述第一容納槽用于容納遮擋條的兩個端部,具體地,所述遮擋條的兩端分別設置在相應的兩個第一容納槽中。

在固定遮擋條時,首先需要對容納槽的位置進行對位,對位準確后,將遮擋條焊接在容納槽內。在對位時,利用容納槽的側壁作為對位基準。但是,容納槽側壁難以識別,容易造成對位不準確。此外,當掩膜板使用一段時間后,遮擋條可能會損壞,此時需要對遮擋條進行更換,更換時,需要將損壞了的遮擋條拆下,然后對第一容納槽內的焊點進行打磨,重新焊接沒有損壞的遮擋條。但是,對第一容納槽內的焊點進行打磨也容易使得第一容納槽的側壁變成圓角,更加難以識別。

因此,如何將第一容納槽與遮擋條進行精確對位成為本領域亟待解決的技術問題。

發明內容

本發明的目的在于提供一種掩膜框架、該掩膜框架的制造方法和一種包括所述掩膜框架的掩膜板。在所述掩膜框架上,遮擋條定位精確。

為了實現上述目的,作為本發明的一個方面,提供一種掩膜框架,所述掩膜框架包括主框架和多個遮擋條,所述主框架上形成有沿厚度方向貫穿所述主框架的蒸鍍區,所述主框架上設置有多對第一容納槽,同一對第一容納槽中的兩個所述第一容納槽分別位于所述蒸鍍區第一方向的兩側,每個所述遮擋條對應一對所述第一容納槽,所述遮擋條的兩端分別設置在相應的兩個第一容納槽中,其中,所述掩膜框架包括至少一對第一定位孔,每對所述第一定位孔對應一對所述第一容納槽,且同一對所述第一定位孔中的兩個第一定位孔分別與相應的一對第一容納槽中的兩個所述第一容納槽位置對應。

優選地,所述主框架上設置有多對第二容納槽和多個支撐條,兩個所述第二容納槽分別位于所述蒸鍍區第二方向的兩側,所述第一方向和所述第二方向互相垂直,每個支撐條對應一對第二容納槽,所述支撐條的兩端分別設置在相應的兩個第二容納槽中。

優選地,所述掩膜框架包括至少一對第二定位孔,每對所述第二定位孔對應一對所述第二容納槽,且同一對所述第二定位孔中的兩個第二定位孔分別與相應的一對第二容納槽中的兩個第二容納槽位置對應。

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