[發(fā)明專利]掩膜框架及制造方法和掩膜板

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201611138902.7
• 申請(qǐng)日: 2016-12-12
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN106702318B
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-11-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 林治明
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責(zé)任公司
• 主分類號(hào): C23C14/04
• 分類號(hào): C23C14/04;C23C14/24
• 代理公司: 北京天昊聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112
• 代理人: 姜春咸;陳源

1.一種掩膜框架，所述掩膜框架包括主框架和多個(gè)遮擋條，所述主框架上形成有沿厚度方向貫穿所述主框架的蒸鍍區(qū)，所述主框架上設(shè)置有多對(duì)第一容納槽，同一對(duì)第一容納槽中的兩個(gè)所述第一容納槽分別位于所述蒸鍍區(qū)第一方向的兩側(cè)，每個(gè)所述遮擋條對(duì)應(yīng)一對(duì)所述第一容納槽，所述遮擋條的兩端分別設(shè)置在相應(yīng)的兩個(gè)第一容納槽中，其特征在于，所述掩膜框架包括至少一對(duì)第一定位孔，每對(duì)所述第一定位孔對(duì)應(yīng)一對(duì)所述第一容納槽，且同一對(duì)所述第一定位孔中的兩個(gè)第一定位孔分別與相應(yīng)的一對(duì)第一容納槽中的兩個(gè)所述第一容納槽位置對(duì)應(yīng)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜框架，其特征在于，所述主框架上設(shè)置有多對(duì)第二容納槽和多個(gè)支撐條，兩個(gè)所述第二容納槽分別位于所述蒸鍍區(qū)第二方向的兩側(cè)，所述第一方向和所述第二方向互相垂直，每個(gè)支撐條對(duì)應(yīng)一對(duì)第二容納槽，所述支撐條的兩端分別設(shè)置在相應(yīng)的兩個(gè)第二容納槽中。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩膜框架，其特征在于，所述掩膜框架包括至少一對(duì)第二定位孔，每對(duì)所述第二定位孔對(duì)應(yīng)一對(duì)所述第二容納槽，且同一對(duì)所述第二定位孔中的兩個(gè)第二定位孔分別與相應(yīng)的一對(duì)第二容納槽中的兩個(gè)第二容納槽位置對(duì)應(yīng)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的掩膜框架，其特征在于，所述主框架包括框架本體和開(kāi)放式掩膜板，所述開(kāi)放式掩膜板上形成有所述第一定位孔和所述第二定位孔，所述框架本體環(huán)繞所述蒸鍍區(qū)，所述第一容納槽形成在所述框架本體上，所述框架本體上還形成有環(huán)繞所述蒸鍍區(qū)的第三容納槽，所述開(kāi)放式掩膜板設(shè)置在所述第三容納槽中。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的掩膜框架，其特征在于，所述主框架包括框架本體和兩個(gè)第一定位條，所述第一定位條上形成有多個(gè)所述第一定位孔，所述框架本體環(huán)繞所述蒸鍍區(qū)，所述第一容納槽形成在所述框架本體上，所述蒸鍍區(qū)的第一方向的兩側(cè)各形成一個(gè)第四容納槽，兩個(gè)所述第一定位條分別設(shè)置在兩個(gè)所述第四容納槽中。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的掩膜框架，其特征在于，所述主框架還包括兩個(gè)第二定位條，所述第二定位條上形成有多個(gè)所述第二定位孔，所述第二容納槽形成在所述框架本體上，所述蒸鍍區(qū)的第二方向的兩側(cè)各形成一個(gè)第五容納槽，兩個(gè)所述第二定位條分別設(shè)置在兩個(gè)所述第五容納槽中。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的掩膜框架，其特征在于，所述主框架包括框架本體，所述框架本體環(huán)繞所述蒸鍍區(qū)，所述第一容納槽、所述第二容納槽、所述第一定位孔和所述第二定位孔均形成在所述框架本體上。

8.根據(jù)權(quán)利要求2至7中任意一項(xiàng)所述的掩膜框架，其特征在于，所述遮擋條的厚度小于或等于所述第一容納槽的深度，所述支撐條的厚度小于或等于所述第二容納槽的深度。

9.一種掩膜板，所述掩膜板包括掩膜框架和多個(gè)掩膜條，其特征在于，所述掩膜框架為權(quán)利要求1至8中任意一項(xiàng)所述的掩膜框架，多個(gè)所述掩膜條固定在所述主框架上，且一個(gè)所述掩膜條位于相鄰兩個(gè)所述遮擋條之間，所述掩膜條的邊緣區(qū)與所述遮擋條重疊。

10.一種掩膜框架的制造方法，其特征在于，所述掩膜框架包括至少一對(duì)第一定位孔，所述制造方法包括：

提供主框架，所述主框架上形成有沿厚度方向貫穿所述主框架的蒸鍍區(qū)，并設(shè)置有多對(duì)第一容納槽，同一對(duì)第一容納槽中的兩個(gè)所述第一容納槽分別位于所述蒸鍍區(qū)第一方向的兩側(cè)，每對(duì)所述第一定位孔對(duì)應(yīng)一對(duì)所述第一容納槽，且同一對(duì)所述第一定位孔中的兩個(gè)第一定位孔分別與相應(yīng)的一對(duì)第一容納槽中的兩個(gè)所述第一容納槽位置對(duì)應(yīng)；

以所述第一定位孔為基準(zhǔn)，對(duì)與所述第一定位孔對(duì)應(yīng)的第一容納槽與遮擋條進(jìn)行對(duì)位，對(duì)位準(zhǔn)確后，將所述遮擋條的兩端分別焊接在相應(yīng)一對(duì)所述第一容納槽中的兩個(gè)第一容納槽中。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的制造方法，其特征在于，所述主框架上設(shè)置有多對(duì)第二容納槽，兩個(gè)所述第二容納槽分別位于所述蒸鍍區(qū)第二方向的兩側(cè)，所述第一方向和所述第二方向互相垂直，所述掩膜框架包括至少一對(duì)第二定位孔，每對(duì)所述第二定位孔對(duì)應(yīng)一對(duì)所述第二容納槽，且同一對(duì)所述第二定位孔中的兩個(gè)第二定位孔分別與相應(yīng)的一對(duì)第二容納槽中的兩個(gè)第二容納槽位置對(duì)應(yīng)，所述制造方法還包括：

以第二定位孔為基準(zhǔn)，對(duì)與所述第二定位孔對(duì)應(yīng)的第二容納槽與支撐條進(jìn)行對(duì)位，對(duì)位準(zhǔn)確后，將所述支撐條的兩端分別焊接在相應(yīng)一對(duì)所述第二容納槽中的兩個(gè)第一容納槽中。