[發(fā)明專(zhuān)利]一種利用電弧離子鍍?cè)谀>弑砻嬷苽涠鄬颖∧さ姆椒?/span>在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201611137139.6 | 申請(qǐng)日: | 2016-12-12 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108220889A | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-06-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 曹玉坤 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 沈陽(yáng)云美科技有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C23C14/32 | 分類(lèi)號(hào): | C23C14/32;C23C14/16;C23C14/06;C23C8/36;C23C28/00 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 110003 遼寧省沈陽(yáng)市*** | 國(guó)省代碼: | 遼寧;21 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 電弧離子鍍 制備 模具表面 薄膜 多層薄膜 第一層 等離子體氮化 鍍膜工藝 鍛造模具 使用壽命 第三層 砂處理 微噴 | ||
本發(fā)明涉及一種鍍膜工藝,具體涉及一種利用電弧離子鍍?cè)谀>弑砻嬷苽涠鄬颖∧さ姆椒?。本發(fā)明的技術(shù)方案如下:包括如下步驟:1)模具表面等離子體氮化;2)采用電弧離子鍍方式在待鍍模具表面制備第一層薄膜;3)采用電弧離子鍍方式在第一層薄膜上繼續(xù)制備第二層薄膜;4)采用電弧離子鍍方式在第二層薄膜上繼續(xù)制備第三層薄膜;5)薄膜微噴砂處理。本發(fā)明提供的一種利用電弧離子鍍?cè)谀>弑砻嬷苽涠鄬颖∧さ姆椒?,能夠提高鍛造模具表面質(zhì)量和使用壽命。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種鍍膜工藝,具體涉及一種利用電弧離子鍍?cè)谀>弑砻嬷苽涠鄬颖∧さ姆椒ā?/p>
背景技術(shù)
零件采用高溫合金和鈦合金,形狀復(fù)雜,變形抗力大,其鍛造模具服役條件極為苛刻,突出的表現(xiàn)在三方面:工作環(huán)境為高溫和急熱、急冷、承受載荷為重載和高速?zèng)_擊,鍛壓過(guò)程為毛坯在模具表面的劇烈大變形和模具表面的摩擦磨損等,由此導(dǎo)致熱鍛模型腔面摩擦、磨損及熱疲勞等失效,直接影響鍛件表面光潔度和模具壽命,使鍛件質(zhì)量穩(wěn)定性下降和生產(chǎn)成本的大幅增加。由于零件鍛造模具制造困難,周期長(zhǎng),成本較高。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種利用電弧離子鍍?cè)谀>弑砻嬷苽涠鄬颖∧さ姆椒ǎ軌蛱岣咤懺炷>弑砻尜|(zhì)量和使用壽命。
本發(fā)明的技術(shù)方案如下:
一種利用電弧離子鍍?cè)谀>弑砻嬷苽涠鄬颖∧さ姆椒?,包括如下步驟:
1)模具表面等離子體氮化,將模具放入真空等離子體氮化爐處理,形成氮化層;對(duì)等離子體氮化后的模具表面進(jìn)行微噴砂處理,再進(jìn)行清洗,然后將模具裝入工裝內(nèi)并置于鍍膜真空腔中;
2)采用電弧離子鍍方式在待鍍模具表面制備第一層薄膜,第一層薄膜為Mn薄膜,厚度為50~60nm;
3)采用電弧離子鍍方式在第一層薄膜上繼續(xù)制備第二層薄膜,第二層薄膜為CrSiZn薄膜,厚度為240~280nm;
4)采用電弧離子鍍方式在第二層薄膜上繼續(xù)制備第三層薄膜,第三層薄膜為T(mén)iAlSiCN薄膜,厚度為4~5μm;
5)薄膜微噴砂處理,采用Al2O3沙粒對(duì)薄膜進(jìn)行噴砂表面細(xì)化處理。
本發(fā)明的有益效果為:本發(fā)明有利于模具脫模,明顯縮短模具修模次數(shù)和保養(yǎng)周期;耐熱疲勞穩(wěn)定性好,可以防止模具過(guò)早開(kāi)裂、龜裂、掉肉;能夠提高模具抗腐蝕能力,提高模具使用壽命,在提高鍛件產(chǎn)品質(zhì)量的同時(shí),減少加工調(diào)整步驟,提高了加工效率。
具體實(shí)施方式
一種利用電弧離子鍍?cè)谀>弑砻嬷苽涠鄬颖∧さ姆椒ǎㄈ缦虏襟E:
1)模具表面等離子體氮化,將模具放入真空等離子體氮化爐處理,形成氮化層;對(duì)等離子體氮化后的模具表面進(jìn)行微噴砂處理,再進(jìn)行清洗,然后將模具裝入工裝內(nèi)并置于鍍膜真空腔中;
2)采用電弧離子鍍方式在待鍍模具表面制備第一層薄膜,第一層薄膜為Mn薄膜,厚度為60nm;
3)采用電弧離子鍍方式在第一層薄膜上繼續(xù)制備第二層薄膜,第二層薄膜為CrSiZn薄膜,厚度為260nm;
4)采用電弧離子鍍方式在第二層薄膜上繼續(xù)制備第三層薄膜,第三層薄膜為T(mén)iAlSiCN薄膜,厚度為5μm;
5)薄膜微噴砂處理,采用Al2O3沙粒對(duì)薄膜進(jìn)行噴砂表面細(xì)化處理。
該專(zhuān)利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)。該專(zhuān)利全部權(quán)利屬于沈陽(yáng)云美科技有限公司,未經(jīng)沈陽(yáng)云美科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專(zhuān)利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201611137139.6/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專(zhuān)利網(wǎng)。
- 同類(lèi)專(zhuān)利
- 專(zhuān)利分類(lèi)
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





