[發(fā)明專利]一種InSb基高溫工作紅外探測器材料及其制備方法在審
申請?zhí)枺?/td> | 201611136266.4 | 申請日: | 2016-12-12 |
公開(公告)號: | CN106601870A | 公開(公告)日: | 2017-04-26 |
發(fā)明(設(shè)計)人: | 劉銘;周朋;邢偉榮;尚林濤;周立慶 | 申請(專利權(quán))人: | 中國電子科技集團公司第十一研究所 |
主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;H01L31/0352;H01L31/105;B82Y30/00 |
代理公司: | 工業(yè)和信息化部電子專利中心11010 | 代理人: | 于金平 |
地址: | 100015*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索關(guān)鍵詞: | 一種 insb 高溫 工作 紅外探測器 材料 及其 制備 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及光電探測技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種InSb基高溫工作紅外探測器材料及其制備方法。
背景技術(shù)
InSb材料由于其在優(yōu)越的光電性能,國外InSb探測器廣泛應(yīng)用于軍事領(lǐng)域已有30多年,包括響尾蛇(Sidewinder)、英國的先進近距空空導(dǎo)彈(ASRAAM)、以色列怪蛇4、美國最新裝備的高空預(yù)警飛機“全球鷹”等。經(jīng)過幾十年的發(fā)展,InSb探測器工藝已經(jīng)非常成熟,其性能也已經(jīng)得到了極大的開發(fā)。但它必須在80K左右的溫度下工作,因此很難適應(yīng)現(xiàn)代武器系統(tǒng)對紅外探測器輕型化、靈巧化、低成本、快速啟動和較好的環(huán)境適應(yīng)性的需求,高溫工作的紅外探測器是適應(yīng)未來發(fā)展的重要技術(shù)途徑之一。如果能夠?qū)⑻綔y器工作溫度提高到液氬制冷機的溫度(90K)以上,將大大減少制冷時間和功耗實現(xiàn)快速啟動。目前,國際主要紅外探測器研制機構(gòu)已經(jīng)將大量精力投入到研制高工作溫度的高性能紅外探測器的方向上。國外已經(jīng)發(fā)展多種結(jié)構(gòu)的MBE外延型InSb探測器,以色列SCD以及英國BAE報道了他們制備的分子束外延InSb和InAlSb材料制備的器件以及實現(xiàn)高溫探測器。
采用摻鋁InSb材料,結(jié)合勢壘層的制備可以大幅度提高器件的工作溫度,目前最高已經(jīng)實現(xiàn)了130K成像輸出,但是基于較厚的摻鋁層會帶來材料失配,導(dǎo)致材料制備難度加大限制了InAlSb紅外探測器的進一步發(fā)展,基于以往的工藝和技術(shù)路線在實現(xiàn)更高的高溫工作方面遇到極大的挑戰(zhàn),因此需要轉(zhuǎn)變研究思路、開發(fā)新的工藝和技術(shù)路線以及新的材料結(jié)構(gòu)來實現(xiàn)更高工作溫度。
發(fā)明內(nèi)容
鑒于上述的分析,本發(fā)明旨在提供一種InSb基高溫工作紅外探測器材料及其制備方法,用以解析現(xiàn)有技術(shù)中InSb基紅外探測器材料工作溫度比較低的問題。
為解決上述問題,本發(fā)明主要是通過以下技術(shù)方案實現(xiàn)的:
本發(fā)明提供了一種InSb基高溫工作紅外探測器材料的制備方法,其特征在于,包括:
步驟A:選取勢壘層Al組分以及吸收層摻雜濃度;
步驟B:將InSb襯底裝入外延生長室MBE,經(jīng)預(yù)除氣處理以及去除氧化層處理制備外延級InSb襯底;
步驟C:在所述外延級InSb襯底上生長InSb緩沖層以及InSb下接觸層;
步驟D:在所述InSb下接觸層上生長InSb吸收層;
步驟E:在所述InSb吸收層上生長InAlSb勢壘層;
步驟F:在所述InAlSb勢壘層上生長InSb上接觸層。
進一步地,選取所述勢壘層的Al組分為10%-30%,n型或p型電極層摻雜濃度為2×1016-5×1017cm-3。
進一步地,所述InSb襯底厚度為490-520μm;所述去除氧化層的去除溫度小于500℃,去除過程中襯底在Sb束流的保護下。
進一步地,所述Sb束流大小為10-6Torr量級。
進一步地,InSb緩沖層的厚度為0.5μm,InSb下接觸層的生長厚度為0.1-0.5μm,n型摻雜或p型摻雜濃度為2×1016-5×1017cm-3。
進一步地,所述InSb吸收層的生長厚度0.8-1.1μm。
進一步地,所述InAlSb勢壘層厚度為20-100nm,且所述InAlSb勢壘層引入p型或n型摻雜。
進一步地,該方法還包括:所述步驟B、C、D、E、F均在真空度10-10Torr量級以上的分子束外延設(shè)備中生長的。
本發(fā)明另一方面提供了通過上述任意一種方法制備的一種InSb基高溫工作紅外探測器材料。
本發(fā)明有益效果如下:
本發(fā)明所提供的一種InSb基高溫工作紅外探測器材料,采用了nBin或pB’ip勢壘層結(jié)構(gòu)。由于空間電荷區(qū)寬度的減小,產(chǎn)生-復(fù)合電流大幅降低;由于吸收層掩埋在大禁帶寬度的勢壘層下,器件表面漏電大大降低;兩種結(jié)構(gòu)的工作載流子均為少子,對于pB’ip結(jié)構(gòu),其少子為電子,與空穴相比,電子有更長的擴散長度和更高的遷移率,光生載流子的收集更有效,因此利用pB’ip結(jié)構(gòu)可以得到更高的量子效率,而且對于空穴勢壘層,空穴遂穿的幾率很小,遂穿電流也得到了極大的抑制,從而大大提高了InSb基紅外探測器材料的工作溫度的范圍。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的