[發明專利]基于InSAR技術的直線掃描近場RCS測試雜波抑制方法

有效

• 申請號: 201611131827.1
• 申請日: 2016-12-09
• 公開（公告）號: CN106526547B
• 公開（公告）日: 2019-02-05
• 發明（設計）人: 呂鳴;高超
• 申請（專利權）人: 北京環境特性研究所
• 主分類號: G01S7/36
• 分類號: G01S7/36;G01S7/40
• 代理公司: 北京格允知識產權代理有限公司 11609
• 代理人: 周嬌嬌

公開了基于InSAR技術的直線掃描近場RCS測試雜波抑制方法，涉及電磁散射測量、信號特征控制技術領域。本發明的方法包括：分別在兩個高度條件下對目標進行直線掃描，獲取目標的兩個二維像；根據兩次直線掃描的高度差和兩個二維像的相位差，確定目標的每個散射源的高度；基于目標的每個散射源的高度，在高度向對目標進行濾波，將濾波后的散射源進行重構得到雜波抑制后的目標RCS。利用InSAR技術對目標進行直線掃描近場，能夠快速高效地獲取回波數據；通過利用在兩個高度采集數據的相位信息進行干涉處理，能夠實現在一定高度范圍內的相位解纏，從而唯一的確定散射源高度。本發明能夠進行豎向空間濾波從而實現抑制場地雜散回波、提高測試精度的目的。

技術領域

本發明涉及電磁散射測量、信號特征控制技術，特別涉及基于InSAR技術的直線掃描近場RCS測試雜波抑制方法。

背景技術

以下對本發明的相關技術背景進行說明，但這些說明并不一定構成本發明的現有技術。

進行外場RCS測試時，需要對場地背景雜散回波進行控制以提高測試精度。由于場地、設備等方面因素的制約，一般無法通過矢量背景對消的方法達到抑制場地雜散回波的目的，而采取軟/硬件距離門的方法降低背景。其基本原理都是基于先驗的目標空間分布信息進行空間濾波提高接收信號的信噪比。通過三維成像獲取目標的三維空間散射分布之后，可以對目標區之外的雜散波源進行抑制。但這種方法的測試的時間成本極高而在實際應用中限制較大。因此，目前主要利用距離向或橫向信息進行空間濾波。

發明內容

本發明的目的在于提出基于InSAR技術的直線掃描近場RCS測試雜波抑制方法，能夠進行豎向空間濾波，從而實現抑制場地雜散回波、提高測試精度的目的。

本發明基于InSAR技術的直線掃描近場RCS測試雜波抑制方法，包括如下步驟：

S1、分別在兩個高度條件下對目標進行直線掃描，獲取目標的兩個二維像；

S2、根據兩次直線掃描的高度差Δh和兩個二維像的相位差Δφ，確定目標的每個散射源的高度；

S3、基于目標的每個散射源的高度，在高度向對目標進行濾波，將濾波后的散射源進行重構得到雜波抑制后的目標RCS；

其中，Δφ小于360°。

優選地，兩次直線掃描的高度差Δh滿足如下關系：

式中，Δh為兩次直線掃描的高度差，λ為入射電磁波波長，R₀為掃描天線沿其指向方向距離目標的距離，D_h為目標在高度方向的最大尺寸，單位為m。

優選地，步驟S2之前進一步包括：按照如下方法確定兩次直線掃描的高度和兩個二維像的相位與散射源的高度之間的關系：

根據掃描天線的位置以及目標的空間分布，分別確定兩次直線掃描的高度與散射源的高度之間的關系：

分別確定兩個二維像的相位與散射源的高度之間的關系：

兩個二維像的相位與散射源的高度之間的關系：