[發明專利]基于InSAR技術的直線掃描近場RCS測試雜波抑制方法

有效

• 申請號: 201611131827.1
• 申請日: 2016-12-09
• 公開（公告）號: CN106526547B
• 公開（公告）日: 2019-02-05
• 發明（設計）人: 呂鳴;高超
• 申請（專利權）人: 北京環境特性研究所
• 主分類號: G01S7/36
• 分類號: G01S7/36;G01S7/40
• 代理公司: 北京格允知識產權代理有限公司 11609
• 代理人: 周嬌嬌

1.基于InSAR技術的直線掃描近場RCS測試雜波抑制方法，其特征在于包括如下步驟：

S1、分別在兩個高度條件下對目標進行直線掃描，獲取目標的兩個二維像；

S2、根據兩次直線掃描的高度差Δh和兩個二維像的相位差Δφ，確定目標的每個散射源的高度；

S3、基于目標的每個散射源的高度，在高度向對目標進行濾波，將濾波后的散射源進行重構得到雜波抑制后的目標RCS；

其中，Δφ小于360°；

在步驟S2之前，按照如下方法確定兩次直線掃描的高度和兩個二維像的相位與散射源的高度之間的關系：

根據掃描天線的位置以及目標的空間分布，分別確定兩次直線掃描的高度與散射源的高度之間的關系：

分別確定兩個二維像的相位與散射源的高度之間的關系：

兩個二維像的相位與散射源的高度之間的關系：

式中，h₁、h₂分別為兩次直線掃描的高度，φ₁、φ₂分別為兩個二維像的相位，r₁、r₂分別為兩次直線掃描時天線與散射源的距離，(x₀，y₀，z₀)為散射源的坐標，λ為入射電磁波波長，(p，-R₀，h₁)為高度h₁條件下天線在掃描坐標系的坐標，(p，-R₀，h₂)為高度h₂條件下天線在掃描坐標系的坐標，單位為m；掃描坐標系以目標所在位置為坐標原點，以掃描移動方向為X軸、以天線指向為Y軸、以目標的高度方向為Z軸。

2.如權利要求1所述的直線掃描近場RCS測試雜波抑制方法，其特征在于，兩次直線掃描的高度差Δh滿足如下關系：

式中，Δh為兩次直線掃描的高度差，λ為入射電磁波波長，R₀為掃描天線沿其指向方向距離目標的距離，D_h為目標在高度方向的最大尺寸，單位為m。

3.如權利要求1所述的直線掃描近場RCS測試雜波抑制方法，其特征在于，掃描天線沿其指向方向到目標的距離R₀不小于目標最大幾何尺寸的10倍。

4.如權利要求3所述的直線掃描近場RCS測試雜波抑制方法，其特征在于，將公式2和公式3分別轉化為：

步驟S2中按照如下關系確定散射源的高度：

式中，Δh為兩次直線掃描的高度差，Δφ為散射源在兩個二維像的相位差，單位為m；Δh＝h₁-h₂、Δφ＝φ₁-φ₂，或者Δh＝h₂-h₁、Δφ＝φ₂-φ₁。

5.如權利要求1所述的直線掃描近場RCS測試雜波抑制方法，其特征在于，步驟S3包括：

將散射源高度與目標實際高度之間的差值不大于預設閾值的散射源標記為有效散射源、散射源高度與目標實際高度之間的差值大于預設閾值的散射源標記為雜波；

濾除所述雜波，并以所述有效散射源進行重構得到雜波抑制后的目標RCS。