[發明專利]流體可滲透的陽極氧化膜及用陽極氧化膜的流體可滲透體

有效

• 申請號: 201611125095.5
• 申請日: 2016-12-08
• 公開（公告）號: CN106853341B
• 公開（公告）日: 2021-02-23
• 發明（設計）人: 安范模;樸勝浩;邊圣鉉
• 申請（專利權）人: 普因特工程有限公司
• 主分類號: B01D69/00
• 分類號: B01D69/00;B01D71/02;B01D61/00
• 代理公司: 北京安信方達知識產權代理有限公司 11262
• 代理人: 陳建芳;閻娬斌

一種流體可滲透的陽極氧化膜，其包括通過陽極氧化金屬而形成的多個規則布置的孔隙，以及具有比所述孔隙的內部寬度大的內部寬度并延伸通過流體可滲透的陽極氧化膜的多個滲透孔。還提供了利用流體可滲透的陽極氧化膜的流體可滲透體。

技術領域

本發明涉及具有滲透孔的流體可滲透的陽極氧化膜，以及利用陽極氧化膜的流體可滲透體。

背景技術

一般地，流體可滲透的膜用于流體(氣體或液體)的分離、凈化、過濾、分析、反應、擴散等目的。特別地，陽極氧化膜可用作為流體可滲透的膜，其制造成本低并且具有多個孔隙。

通過陽極氧化基礎金屬形成的陽極氧化膜包括具有形成在其表面上的多個孔隙的多孔層。本文所指的基礎金屬可為鋁(Al)、鈦、(Ti)、鎢(W)、鋅(Zn)等。然而，重量輕、容易加工、熱導率優異并且沒有重金屬污染的鋁或鋁合金被廣泛地用作基礎金屬。

如圖1所示，由陽極氧化金屬制造的現有技術的流體可滲透陽極氧化膜公開于美國專利No.8,210,360中。

在現有技術的陽極氧化膜中，形成在陽極氧化膜中的孔隙的內部寬度落于約幾納米到300納米的范圍內。由于孔隙的內部寬度太小，所以孔隙容易被包含在滲透過陽極氧化膜的流體中的外來材料堵塞。這造成流體不能夠容易地滲透過陽極氧化膜的問題。

為了改善由陽極氧化膜的孔隙的小直徑造成的問題，可設想使用擴大陽極氧化膜的孔隙的方法。然而，由于孔隙的內部寬度在納米的量級，所以難以擴大孔隙。另外，存在由于孔隙的擴大而顯著地減小陽極氧化膜的結構強度的缺陷。

流體(氣體或液體)可穿過的流體穿過構件用于流體的擴散、分離、凈化、過濾、分析、反應等目的。

一般地，多個通孔形成在流體穿過構件中以使得流體可穿過通孔。為了使在穿過流體穿過構件之后流體被均勻地擴散，優選的是增加通孔的數量同時減小通孔的內部寬度。然而，在減小通孔的內部寬度時涉及諸多困難。

作為上面提及的流體穿過構件的示例，存在著這樣一種擴散器(噴頭)，其用于均勻地將氣體朝向容納在用于制造液晶顯示器(LCD)的真空室內的玻璃注射。液晶顯示器(LCD)是一種不發光元件，其通過在陣列基板和彩色濾光片基板之間填充液晶而形成并配置成使用液晶的特性獲得圖像效果。陣列基板和彩色濾光片基板中的每一個通過以下過程制造：在由玻璃等制成的玻璃透明玻璃上反復地沉積膜的過程，和圖案化并蝕刻這樣地經沉積的膜的過程。當通過將反應劑和原材料在氣態下引入到真空室而執行沉積過程時，這樣地引入的氣體穿過擴散器(噴頭)并且沉積在安裝在基座的上表面上的玻璃，從而形成膜。

作為流體穿過構件的現有技術的擴散器(噴頭)公開于韓國專利注冊No.0653442中。

如圖8所示，通過引入部18引入的反應氣體穿(滲透)過擴散器15。反應氣體朝向安裝在基座S上的玻璃注射。

然而，存在這樣的問題：不能通過形成在現有技術的擴散器中的孔均勻地朝向玻璃注射反應氣體。為了改善這個問題，可設想減小孔的內部寬度并且增加孔的數量。然而，在制造現有技術的擴散器方面存在限制。

發明內容

鑒于上述問題，本發明的目的是提供一種流體可滲透的陽極氧化膜和使用能夠改善流體的擴散均勻性的陽極氧化膜的流體可滲透體，所述陽極氧化膜能夠使得流體能夠滲透并均勻擴散、保持結構強度并且促進其制造。

根據本發明的一個方面，提供一種流體可滲透的陽極氧化膜，其包括：通過陽極氧化金屬而形成的多個規則布置的孔隙；以及具有比所述孔隙的內部寬度大的內部寬度并延伸通過流體可滲透的陽極氧化膜的多個滲透孔。

滲透孔的內部寬度從流體可滲透的陽極氧化膜的一端到流體可滲透的陽極氧化膜的另一端可保持恒定。

孔隙可定位在滲透孔之間。