[發明專利]流體可滲透的陽極氧化膜及用陽極氧化膜的流體可滲透體

有效

• 申請號: 201611125095.5
• 申請日: 2016-12-08
• 公開（公告）號: CN106853341B
• 公開（公告）日: 2021-02-23
• 發明（設計）人: 安范模;樸勝浩;邊圣鉉
• 申請（專利權）人: 普因特工程有限公司
• 主分類號: B01D69/00
• 分類號: B01D69/00;B01D71/02;B01D61/00
• 代理公司: 北京安信方達知識產權代理有限公司 11262
• 代理人: 陳建芳;閻娬斌

1.一種流體可滲透體，其包括：

具有讓流體穿過的多個通孔(410)的流體穿過構件(400)；以及

與流體穿過構件(400)聯接的流體可滲透的陽極氧化膜(200)，

其中，流體可滲透的陽極氧化膜(200)包括：通過陽極氧化金屬而形成的多個規則布置的孔隙(310)，以及具有比所述孔隙(310)的內部寬度大的內部寬度并延伸通過流體可滲透的陽極氧化膜(200)的多個滲透孔(350)，

其中，在其上形成有所述流體可滲透的陽極氧化膜(200)的所述流體穿過構件(400)的表面上的通孔(410)的內部寬度大于滲透孔(350)的內部寬度，并且所述通孔(410)與多個滲透孔(350)連通。

2.根據權利要求1所述的流體可滲透體，其中，流體穿過構件(400)包括彼此聯接的至少兩個流體穿過構件，并且流體可滲透的陽極氧化膜(200)布置在兩個流體穿過構件之間并且與兩個流體穿過構件中的至少一個的表面聯接。

3.根據權利要求1所述的流體可滲透體，其中，流體穿過構件(400)包括具有形成在流體穿過構件(400)的上表面上的停靠凹槽(430)的停靠部分，并且流體可滲透的陽極氧化膜(200)停靠在所述停靠部分上。

4.根據權利要求1所述的流體可滲透體，其中，第一金屬部分(510)形成在流體可滲透的陽極氧化膜(200)的外圍部分中，并且與流體穿過構件(400)聯接。

5.根據權利要求1所述的流體可滲透體，其中，流體可滲透的陽極氧化膜(200)通過陽極氧化基礎金屬并且然后去除所述基礎金屬而形成。

6.根據權利要求1所述的流體可滲透體，進一步包括：

形成在流體可滲透的陽極氧化膜(200)的上表面或下表面上的金屬部分。

7.根據權利要求1所述的流體可滲透體，其中，流體穿過構件(400)為安裝在真空室內的擴散器。

8.一種流體可滲透體，其包括：

具有讓流體穿過的多個通孔(410)的流體穿過構件(400)；以及

與所述流體穿過構件(400)的至少一個表面一體形成的流體可滲透的陽極氧化膜(200)，所述流體可滲透的陽極氧化膜(200)包括：通過陽極氧化金屬而形成的多個規則布置的孔隙(310)，以及具有比所述孔隙(310)的內部寬度大的內部寬度并延伸通過所述流體可滲透的陽極氧化膜(200)的多個滲透孔(350)，

其中，在其上形成有所述流體可滲透的陽極氧化膜(200)的表面上的通孔(410)的內部寬度大于所述滲透孔(350)的內部寬度，并且所述多個滲透孔(350)在所述通孔(410)的內部寬度的范圍內與通孔(410)連通。

9.根據權利要求8所述的流體可滲透體，其中，通孔(410)包括第一通孔(411)和具有比第一通孔(411)的內部寬度小的內部寬度的第二通孔(416)，并且滲透孔(350)定位在第二通孔(416)下方。

10.根據權利要求8所述的流體可滲透體，其中，通孔(410)由傾斜地形成為使得其內部寬度朝向滲透孔(350)變小的內壁限定。

11.根據權利要求8所述的流體可滲透體，其中，流體可滲透的陽極氧化膜(200)包括第一陽極氧化膜(200a)和第二陽極氧化膜(200b)，并且所述流體穿過構件(400)定位在第一陽極氧化膜(200a)和第二陽極氧化膜(200b)之間。