[發(fā)明專利]一種譜線優(yōu)化處理方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201611112436.5 | 申請(qǐng)日: | 2016-12-07 |
| 公開(公告)號(hào): | CN106596695A | 公開(公告)日: | 2017-04-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 應(yīng)剛;彭建波;盛敏;欒旭東;張?zhí)K偉;方軍 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 江蘇天瑞儀器股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01N27/48 | 分類號(hào): | G01N27/48 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 215347 江蘇省蘇州市昆*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 優(yōu)化 處理 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種分析方法,具體的涉及一種譜線優(yōu)化處理方法。
背景技術(shù)
極譜對(duì)樣品中離子濃度的計(jì)算,是通過(guò)計(jì)算電勢(shì)峰高或者面積并且與相同條件下的標(biāo)準(zhǔn)溶液相比較得出,默認(rèn)濃度為0時(shí)電勢(shì)為0。所以在極譜對(duì)樣品進(jìn)行測(cè)量前,先對(duì)標(biāo)準(zhǔn)溶液進(jìn)行標(biāo)定,找到當(dāng)前樣品濃度和電流峰高或面積之間對(duì)應(yīng)關(guān)系。
極譜儀器在掃描得到譜線數(shù)據(jù)后,峰的基線不為簡(jiǎn)單的直線;且峰型不規(guī)則,峰型與掃描前的富集時(shí)間、掃描過(guò)程中掃描速率(電壓改變速率)、掃描電壓范圍、掃描電壓步長(zhǎng)和樣品本身濃度有關(guān);所述富集時(shí)間的定義如下:以玻碳或者金盤作為工作電極,將還原電勢(shì)施加于工作電極并不停攪拌溶液,當(dāng)電極電勢(shì)超過(guò)某種金屬離子的析出電勢(shì),溶液中被分析的金屬離子還原為金屬電鍍于工作電極表面,電勢(shì)施加時(shí)間越長(zhǎng),還原出來(lái)電鍍于電極表面的金屬越多,電勢(shì)施加的時(shí)間就為富集時(shí)間,直接對(duì)譜線進(jìn)行峰面積計(jì)算時(shí)本底扣除困難且誤差較大,導(dǎo)致金屬離子濃度計(jì)算誤差較大。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,需要克服現(xiàn)有技術(shù)中的上述缺陷中的至少一個(gè),本發(fā)明提供的一種譜線優(yōu)化處理方法,一種譜線優(yōu)化處理方法,通過(guò)極譜儀掃描待測(cè)樣品得到初始數(shù)據(jù)和初始譜線,對(duì)其進(jìn)行去噪、校正處理,得出新的基線,并在新的基線基礎(chǔ)上得到校正數(shù)據(jù)和校正譜線,其特征在于,包括以下步驟:
step1去噪處理
對(duì)所述初始數(shù)據(jù)和所述初始譜線進(jìn)行去噪處理,得到去燥數(shù)據(jù)和去燥譜線;
所述去噪處理的方法為采用公式1:
step 2校正處理
對(duì)去燥處理后的所述去燥數(shù)據(jù)和所述去燥譜線進(jìn)行校正處理,得到校正數(shù)據(jù)和校正譜線;
step 3得到校正基線
根據(jù)step2中的計(jì)算成果,計(jì)算校正基線。
在使用極譜儀掃描待測(cè)樣品得到初始數(shù)據(jù)和初始譜線時(shí),采用的掃描參數(shù)包括,富集時(shí)間范圍為5-50s;所述掃描速率范圍為200-1200mV/s;所述掃描電壓范圍為-4000mV~+4000mV;所述掃描電壓步長(zhǎng)范圍為1-20mV。
根據(jù)本發(fā)明背景技術(shù)中對(duì)現(xiàn)有技術(shù)所述,現(xiàn)有方法使用極譜儀器在掃描得到譜線數(shù)據(jù)后,峰的基線不為簡(jiǎn)單的直線,且峰型不規(guī)則,同時(shí),直接對(duì)譜線進(jìn)行峰面積計(jì)算時(shí)本底扣除困難且誤差較大,導(dǎo)致金屬離子濃度計(jì)算誤差較大;本發(fā)明通過(guò)對(duì)使用去噪處理、校正處理,獲取校正基線、校正峰值、校正峰面積,可以使得基線、峰型更加規(guī)則易于計(jì)算,同時(shí)也可以使得計(jì)算結(jié)果更加準(zhǔn)確。
另外,根據(jù)本發(fā)明公開的一種譜線優(yōu)化處理方法還具有如下附加技術(shù)特征:
進(jìn)一步地,所述step2校正處理對(duì)所述譜線數(shù)據(jù)和譜線處理方法所指定的峰窗口范圍的所述去噪數(shù)據(jù)和所述去噪譜線進(jìn)行校正,所述峰窗口范圍是確定進(jìn)行基線處理的譜線的橫坐標(biāo)范圍,還包括:
step2.1.添加凸函數(shù)
對(duì)所述初始譜線數(shù)據(jù)添加凸函數(shù),公式為
其中,a為大于0的經(jīng)驗(yàn)值;ymax表示被處理譜線數(shù)據(jù)縱坐標(biāo)最大值;ymin表示被處理譜線數(shù)據(jù)縱坐標(biāo)最小值;x表示被處理譜線數(shù)據(jù)的橫坐標(biāo)值;X0表示被處理譜線數(shù)據(jù)的中間點(diǎn)橫坐標(biāo)值;Xe表示被處理譜線數(shù)據(jù)的最后一個(gè)點(diǎn)橫坐標(biāo)值;
step2.2.尋找下凸包
對(duì)公式1中的集合P中點(diǎn)集進(jìn)行排序,產(chǎn)生一個(gè)有序點(diǎn)列{P1,P2,…,Pn },然后逐一引入P中的點(diǎn),并且當(dāng)凸包中每增加P中下一個(gè)點(diǎn)時(shí),都對(duì)當(dāng)前凸包做相應(yīng)的調(diào)整和更新,此處P為添加過(guò)凸函數(shù)的譜線數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)集,所述的調(diào)整和更新包含如下步驟:
step2.2.1:對(duì)P中點(diǎn)根據(jù)橫坐標(biāo)從小到大進(jìn)行字典排序,得到序列P1,P2,…,Pn;
step2.2.2:在Llow中加入P1、P2,開始計(jì)算下凸包,此處,Llow為空的凸包列表;
step2.2.3:依次向Llow加入點(diǎn)集P中的點(diǎn)Pi,i=3開始直到n結(jié)束,如果Llow中至少還有三個(gè)點(diǎn),而且最末尾的三個(gè)點(diǎn)所構(gòu)成的不是一個(gè)左拐,則將倒數(shù)第二個(gè)頂點(diǎn)從Llow中刪除,否則直接循環(huán)下一個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn);
即:
循環(huán)點(diǎn)集P for i = 3 to n;
向Llow中加入P;
If Llow中至少還有三個(gè)點(diǎn),而且最末尾的三個(gè)點(diǎn)所構(gòu)成的不是一個(gè)左拐 then 將倒數(shù)第二個(gè)頂點(diǎn)從Llow中刪除;否則直接循環(huán)下一個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn);
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