[發(fā)明專利]一種譜線優(yōu)化處理方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201611112436.5 | 申請(qǐng)日: | 2016-12-07 |
| 公開(公告)號(hào): | CN106596695A | 公開(公告)日: | 2017-04-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 應(yīng)剛;彭建波;盛敏;欒旭東;張?zhí)K偉;方軍 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 江蘇天瑞儀器股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01N27/48 | 分類號(hào): | G01N27/48 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 215347 江蘇省蘇州市昆*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 優(yōu)化 處理 方法 | ||
1.一種譜線優(yōu)化處理方法,通過極譜儀掃描待測樣品得到初始數(shù)據(jù)和初始譜線,對(duì)其進(jìn)行去噪、校正處理,得出新的基線,并在新的基線基礎(chǔ)上得到校正數(shù)據(jù)和校正譜線,其特征在于,包括以下步驟:
step1去噪處理
對(duì)所述初始數(shù)據(jù)和所述初始譜線進(jìn)行去噪處理,得到去燥數(shù)據(jù)和去燥譜線;
所述去噪處理的方法為采用公式1:
step 2校正處理
對(duì)去燥處理后的所述去燥數(shù)據(jù)和所述去燥譜線進(jìn)行校正處理,得到校正數(shù)據(jù)和校正譜線;
step 3得到校正基線
根據(jù)step2中的計(jì)算成果,計(jì)算校正基線。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種譜線優(yōu)化處理方法,其特征在于,所述step2校正處理對(duì)所述譜線數(shù)據(jù)和譜線處理方法所指定的峰窗口范圍的所述去噪數(shù)據(jù)和所述去噪譜線進(jìn)行校正,所述峰窗口范圍是確定進(jìn)行基線處理的譜線的橫坐標(biāo)范圍,還包括:
step2.1.添加凸函數(shù)
對(duì)所述去噪譜線數(shù)據(jù)添加凸函數(shù),公式為
其中,a為大于0的經(jīng)驗(yàn)值;
step2.2.尋找下凸包
對(duì)公式1中的集合P中點(diǎn)集進(jìn)行排序,產(chǎn)生一個(gè)有序點(diǎn)列{P1,P2,…,Pn },然后逐一引入P中的點(diǎn),并且當(dāng)凸包中每增加P中下一個(gè)點(diǎn)時(shí),都對(duì)當(dāng)前凸包做相應(yīng)的調(diào)整和更新,此處P為添加過凸函數(shù)的譜線數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)集,所述的調(diào)整和更新包含如下步驟:
step2.2.1:對(duì)P中點(diǎn)根據(jù)橫坐標(biāo)從小到大進(jìn)行字典排序,得到序列P1,P2,…,Pn;
step2.2.2:在Llow中加入P1、P2,開始計(jì)算下凸包,此處,Llow為空的凸包列表;
step2.2.3:依次向Llow加入點(diǎn)集P中的點(diǎn)Pi,=3開始直到n結(jié)束,如果Llow中至少還有三個(gè)點(diǎn),而且最末尾的三個(gè)點(diǎn)所構(gòu)成的不是一個(gè)左拐,則將倒數(shù)第二個(gè)頂點(diǎn)從Llow中刪除,否則直接循環(huán)下一個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn);
s t e p2.2.4:得到下凸包Llow;
步驟2.3扣除基線,找到的下凸包中第一個(gè)點(diǎn)到最后一個(gè)點(diǎn)依次直線連接形成一條折線曲線,并根據(jù)下凸包中各點(diǎn)橫坐標(biāo)值形成折線函數(shù),得到的折線函數(shù)就為被處理數(shù)據(jù)的基線,所述折線函數(shù)通過下凸包各點(diǎn)多項(xiàng)式擬合得到,將步驟2.1處理后的數(shù)據(jù)減去折線函數(shù)對(duì)應(yīng)值即得到基線處理后的數(shù)據(jù)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種譜線優(yōu)化處理方法,其特征在于,step3得到校正基線通過step2.2中所尋找到的凸包Llow數(shù)據(jù)中找到基線的始末點(diǎn)計(jì)算出一條新的基線。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種譜線優(yōu)化處理方法,其特征在于,所述step2校正處理可在所指定的峰窗口范圍進(jìn)行n次操作,n為大于等于1的自然數(shù)。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種譜線優(yōu)化處理方法,其特征在于,所述a可以是大于0小于等于50中的任意數(shù)值。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種譜線優(yōu)化處理方法,其特征在于,所述a是2、3、3.5、4.5、10、14、30。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種譜線優(yōu)化處理方法,其特征在于,所述一種譜線優(yōu)化處理方法還包括在所述校正基線下尋找并計(jì)算校正峰值;和在所述校正基線下計(jì)算校正峰面積。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的譜線處理方法,其特征在于,所述m為9或11或13或15或17或19或21或23或25。
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