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[發(fā)明專利]氨法生產(chǎn)金屬化合物的分解沉淀槽有效

專利信息
申請?zhí)枺?/td> 201611109679.3 申請日: 2016-12-06
公開(公告)號: CN106430280B 公開(公告)日: 2017-09-29
發(fā)明(設(shè)計)人: 杜宗鑫 申請(專利權(quán))人: 杜宗鑫
主分類號: C01G3/02 分類號: C01G3/02;C01G3/00;C01G9/00;C01G53/06
代理公司: 北京匯澤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11228 代理人: 張秋越
地址: 215341 江蘇省*** 國省代碼: 江蘇;32
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摘要:
搜索關(guān)鍵詞: 生產(chǎn) 金屬 化合物 分解 沉淀
【權(quán)利要求書】:

1.一種氨法生產(chǎn)金屬化合物的分解沉淀槽,其特征在于,包括:

沉淀槽殼體,其包括自上而下相互連接的頂區(qū)、上連接區(qū)、消泡區(qū)、下連接區(qū)、速熱區(qū)和底區(qū);所述頂區(qū)設(shè)有混合氣出口;所述上連接區(qū)設(shè)有空氣入口和加料口;所述底區(qū)設(shè)有放料口;

設(shè)有一開口的孔板,設(shè)于沉淀槽殼體內(nèi)對應(yīng)位于所述速熱區(qū)的底部以下,孔板的邊緣貼合固定在沉淀槽殼體的內(nèi)壁;

空氣攪拌管,其設(shè)于沉淀槽殼體內(nèi)部,一端連接所述空氣入口,另一端穿過所述孔板的開口伸入所述孔板下方的底區(qū)內(nèi);

加熱盤管組,固定于孔板上;

其中,消泡區(qū)的內(nèi)徑大于速熱區(qū)的內(nèi)徑。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氨法生產(chǎn)金屬化合物的分解沉淀槽,其特征在于,所述沉淀槽殼體的速熱區(qū)設(shè)有熱介質(zhì)入口和熱介質(zhì)出口,所述熱介質(zhì)入口連接所述加熱盤管組的入口,所述熱介質(zhì)出口連接所述加熱盤管組的出口。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的氨法生產(chǎn)金屬化合物的分解沉淀槽,其特征在于,所述加熱盤管組包括多個串聯(lián)的加熱盤管。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的氨法生產(chǎn)金屬化合物的分解沉淀槽,其特征在于,所述消泡區(qū)的內(nèi)徑為速熱區(qū)的內(nèi)徑的1.1倍以上。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的氨法生產(chǎn)金屬化合物的分解沉淀槽,其特征在于,所述消泡區(qū)的內(nèi)徑為速熱區(qū)的內(nèi)徑的1.1倍~5倍。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的氨法生產(chǎn)金屬化合物的分解沉淀槽,其特征在于,還包括:第一保溫套管,其套設(shè)在所述沉淀槽殼體的設(shè)有加熱套管組的位置的外側(cè),所述第一保溫套管的熱介質(zhì)入口連接設(shè)于所述速熱區(qū)的熱介質(zhì)出口。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的氨法生產(chǎn)金屬化合物的分解沉淀槽,其特征在于,還包括:第二保溫套管,其套設(shè)在所述底區(qū)外側(cè),所述第二保溫套管的熱介質(zhì)入口連接設(shè)于所述第一保溫套管的熱介質(zhì)出口。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氨法生產(chǎn)金屬化合物的分解沉淀槽,其特征在于,所述頂區(qū)還設(shè)有觀察孔。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氨法生產(chǎn)金屬化合物的分解沉淀槽,其特征在于,所述消泡區(qū)的內(nèi)徑大于頂區(qū)的內(nèi)徑。

10.根據(jù)權(quán)利要求1或9所述的氨法生產(chǎn)金屬化合物的分解沉淀槽,其特征在于,所述頂區(qū)、消泡區(qū)、速熱區(qū)為圓筒形,所述上連接區(qū)和下連接區(qū)為圓臺筒形,所述底區(qū)為圓錐筒形;所述上連接區(qū)的小直徑頂面連接頂區(qū)的底面,所述上連接區(qū)的小直徑頂面與所述頂區(qū)的橫截面相同;所述上連接區(qū)的大直徑底面連接消泡區(qū)的頂面,所述上連接區(qū)的大直徑底面與所述消泡區(qū)的橫截面相同;所述下連接區(qū)的大直徑頂面連接所述消泡區(qū)底面,所述下連接區(qū)的大直徑頂面與所述消泡區(qū)的橫截面相同;所述下連接區(qū)的小直徑底面連接所述速熱區(qū)的頂面,所述下連接區(qū)的小直徑底面與所述速熱區(qū)的橫截面相同;所述底區(qū)的頂面連接所述速熱區(qū)的底面,所述底區(qū)的頂面與所述速熱區(qū)的橫截面相同。

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