[發明專利]微納米結構的制備方法

有效

• 申請號: 201611093544.2
• 申請日: 2016-12-01
• 公開（公告）號: CN108132585B
• 公開（公告）日: 2020-02-07
• 發明（設計）人: 陳墨;李群慶;張立輝;金元浩;安東;范守善
• 申請（專利權）人: 清華大學;鴻富錦精密工業(深圳)有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發明涉及一種微納米結構的制備方法，其包括以下步驟：提供一第一基板，所述第一基板的表面上設置有一光刻膠層；將一光刻掩模板覆蓋至所述光刻膠層的表面，所述光刻掩模板包括一第二基板和設置于該第二基板的表面上的一復合層；采用紫外光照射所述光刻掩模板，并使得該紫外光穿過所述第二基板及復合層入射至該光刻膠層上，對該光刻膠層進行曝光；從所述光刻膠層的表面上移除所述光刻掩模板，對曝光后的光刻膠層進行顯影處理，得到一圖案化的光刻膠微納米結構。

技術領域

本發明涉及一種微納米結構的技術領域，尤其涉及一種微納米結構的制備方法。

背景技術

目前，隨著對微細結構研究的深入，微細結構可被應用于多個領域，如光學器件的特殊表面、疏水材料、減反射面等。例如在光學器件中，為了提高光的出射效率，一般會在導光板等結構中設置微結構。制備微結構的制作方法主要有光刻法、刻蝕法等。在這些方法中，光刻法由于工藝簡單、操作方便、可大面積制備而被廣泛使用。然而，一般光刻法中采用塑料、玻璃或金屬圖案化作掩模，制備得到的微結構尺寸精度低，難以做到納米級尺寸。

發明內容

有鑒于此，確有必要提供一種可大面積制備、低成本的微納米結構的制備方法。

一種微納米結構的制備方法，其包括以下步驟：提供一第一基板，所述第一基板的表面上設置有一光刻膠層；將一光刻掩模板覆蓋至所述光刻膠層的表面，所述光刻掩模板包括一第二基板和設置于該第二基板的表面上的一復合層；采用紫外光照射所述光刻掩模板，并使得該紫外光穿過所述第二基板及復合層入射至該光刻膠層上，對該光刻膠層進行曝光；從所述光刻膠層的表面上移除所述光刻掩模板，對曝光后的光刻膠層進行顯影處理，得到一圖案化的光刻膠微納米結構。

相較于現有技術，本發明所述微納米結構的制備方法采用了碳納米管對紫外光的吸收較強、透過率低的特點，且碳納米管層中包括多個微孔，當紫外光照射光刻膠時，利用碳納米管與微孔對紫外線的透過率不同，容易制備得到圖案化的光刻膠層，繼而得到圖案化的微納米結構，制備方法簡單；復合層與第二基板形成的掩模可重復使用，節約成本、易于產業化。

附圖說明

圖1為本發明第一實施例提供的所述微納米結構的制備方法的流程圖。

圖2為本發明采用的碳納米管拉膜的掃描電鏡照片。

圖3為本發明采用lift-off剝離方法制備微納米結構的流程圖。

圖4為本發明第二實施例提供的所述微納米結構的制備方法的流程圖。

圖5為本發明第三實施例提供的所述微納米結構的制備方法的流程圖。

圖6為本發明第四實施例提供的所述微納米結構的制備方法的流程圖。

圖7為本發明第四實施例提供的光刻掩模板。

圖8為本發明第四實施例提供的所述光刻掩模板的制備方法的流程圖。

圖9為本發明第五實施例提供的所述微納米結構的制備方法的流程圖。

圖10為本發明第五實施例提供的光刻掩模板。

圖11為本發明第五實施例提供的所述光刻掩模板的制備方法的流程圖。

圖12為本發明第六實施例提供的所述微納米結構的制備方法的流程圖。

圖13為本發明第六實施例提供的光刻掩模板。

圖14為本發明第六實施例提供的所述光刻掩模板的制備方法的流程圖。

表 1 ： 主要元件符號說明

如下具體實施例將結合上述附圖進一步說明本發明。