[發(fā)明專利]一種利用室溫轉(zhuǎn)移壓印技術(shù)制備無殘留層的二氧化鈦圖案的方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201611093131.4
• 申請(qǐng)日: 2016-12-02
• 公開（公告）號(hào): CN106773529B
• 公開（公告）日: 2019-12-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 石剛;車友新;李贏;王大偉;倪才華;王利魁;桑欣欣
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 江南大學(xué)
• 主分類號(hào): G03F7/00
• 分類號(hào): G03F7/00
• 代理公司: 32257 蘇州市中南偉業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)
• 代理人: 殷海霞

1.一種利用室溫轉(zhuǎn)移壓印技術(shù)制備無殘留層的二氧化鈦圖案的方法，其特征是，包括以下步驟：

(1)首先通過超聲和加熱，將熱塑性聚合物溶液與二氧化鈦溶膠或鈦鹽溶液進(jìn)行混合配制成前驅(qū)液；

(2)然后將步驟(1)得到的前驅(qū)液旋涂或噴涂在表面具有凸凹結(jié)構(gòu)的軟模板表面，形成復(fù)合膜；

(3)然后在室溫下將步驟(2)得到的表面附有復(fù)合膜的軟模板與親水基底接觸，經(jīng)過5～600s后，將軟模板從基底表面分離開，軟模板表面的復(fù)合膜轉(zhuǎn)移到基底表面；

(4)然后將步驟(3)得到表面附有復(fù)合膜的基底進(jìn)行煅燒，煅燒后冷卻至室溫；

(5)最后將步驟(4)中煅燒后得到的樣品置于鈦鹽、濃鹽酸和水的混合溶液中，水熱條件下，在基底表面形成無殘留層的TiO₂圖案；

步驟(1)中的熱塑性聚合物包括聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚氨酯、聚乙烯、聚丙烯、聚氯乙烯、聚二丁烯、聚苯乙烯-丁二烯共聚物、聚對(duì)苯乙烯-聚氧化乙烯共聚物、ABS樹脂、聚丙烯酰胺、聚環(huán)氧乙烷。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用室溫轉(zhuǎn)移壓印技術(shù)制備無殘留層的二氧化鈦圖案的方法，其特征在于：步驟(2)和(3)中的軟模板包括聚二甲基硅氧烷模板、三元乙丙橡膠模板、全氟聚醚模板、聚氨酯丙烯酸酯模板。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用室溫轉(zhuǎn)移壓印技術(shù)制備無殘留層的二氧化鈦圖案的方法，其特征在于：步驟(3)～(5)中的基底包括平面及曲面硅片、氧化硅片、砷化鎵片、石英片、導(dǎo)電玻璃片、聚合物片。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用室溫轉(zhuǎn)移壓印技術(shù)制備無殘留層的二氧化鈦圖案的方法，其特征在于：步驟(3)中的室溫為0～40℃，親水基底是通過氧等離子體、紫外臭氧或溶液處理基底實(shí)現(xiàn)的。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種利用室溫轉(zhuǎn)移壓印技術(shù)制備無殘留層的二氧化鈦圖案的方法，其特征在于：所述的溶液處理基底是將基底放在氨水和雙氧水的混合水溶液，或?qū)⒒追旁跐饬蛩岷碗p氧水的混合溶液，在50～90℃加熱條件下進(jìn)行處理。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用室溫轉(zhuǎn)移壓印技術(shù)制備無殘留層的二氧化鈦圖案的方法，其特征在于：步驟(4)中的煅燒溫度為200～550℃，煅燒時(shí)間為1～7h。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用室溫轉(zhuǎn)移壓印技術(shù)制備無殘留層的二氧化鈦圖案的方法，其特征在于：步驟(5)中的水熱條件的反應(yīng)溫度為80～200℃，反應(yīng)時(shí)間為2～19h。