[發(fā)明專利]硅片清洗的調(diào)度方法及調(diào)度系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201611092596.8
• 申請(qǐng)日: 2016-11-30
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN106694443B
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-04-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 朱金恒;郭訓(xùn)容
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司
• 主分類號(hào): B08B3/08
• 分類號(hào): B08B3/08;B08B3/02
• 代理公司: 上海天辰知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 31275
• 代理人: 陶金龍;陳慧弘

1.一種硅片清洗的調(diào)度方法，用于調(diào)度兩個(gè)承載硅片的硅片載片盒在硅片清洗設(shè)備中同時(shí)進(jìn)行的硅片清洗工藝，所述硅片清洗設(shè)備包括一個(gè)機(jī)械手、N個(gè)工藝單元和一個(gè)機(jī)械手清洗槽，所述N個(gè)工藝單元為1個(gè)干燥槽和N-1個(gè)工藝槽組，每個(gè)所述工藝槽組包括一個(gè)化學(xué)藥液槽和與之對(duì)應(yīng)的一個(gè)水槽；每一所述硅片載片盒的硅片清洗工藝包括所述機(jī)械手將該硅片載片盒依次放入各所述工藝槽組的化學(xué)藥液槽和水槽清洗后放入所述干燥槽干燥，且至少在所述機(jī)械手將所述硅片載片盒放入所述水槽后其移動(dòng)至所述機(jī)械手清洗槽清洗機(jī)械手爪勾，其中N大于等于3；其特征在于，所述調(diào)度方法包括以下步驟：

S1：當(dāng)在非化學(xué)藥液槽中的硅片載片盒完成工藝時(shí)，判斷其下一工藝單元以及所述機(jī)械手是否均為空閑；若是，則進(jìn)行步驟S2；否則等待直至下一工藝單元以及所述機(jī)械手均為空閑；

S2：判斷若所述機(jī)械手將該非化學(xué)藥液槽中的硅片載片盒取出并放入下一工藝單元，該硅片載片盒是否會(huì)與另一硅片載片盒同時(shí)處于不同的化學(xué)藥液槽中或該另一硅片載片盒是否會(huì)無(wú)法在工藝完成后立即從化學(xué)藥液槽中取出；若有一個(gè)為是則將該硅片載片盒保持在非化學(xué)藥液槽中，否則將其取出并放入下一工藝單元；

其中，所述調(diào)度方法還包括：當(dāng)在化學(xué)藥液槽的硅片載片盒完成工藝時(shí)，所述機(jī)械手將所述化學(xué)藥液槽中的硅片取出放入其對(duì)應(yīng)的水槽中。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的調(diào)度方法，其特征在于，步驟S2包括：

S21：判斷另一硅片載片盒是否在化學(xué)藥液槽中進(jìn)行清洗工藝；若是，則進(jìn)行步驟S22，否則進(jìn)行步驟S24；

S22：判斷另一硅片載片盒在化學(xué)藥液槽中的剩余工藝時(shí)間是否大于第一閾值；若大于，則進(jìn)行步驟S23；如等于，則進(jìn)行步驟S25；若小于，則進(jìn)行步驟S24；其中所述第一閾值為所述機(jī)械手從將處于非化學(xué)藥液槽中的硅片載片盒放入下一工藝單元至移動(dòng)至所述另一硅片載片盒所在化學(xué)藥液槽所需的時(shí)間；

S23：等待直至另一硅片載片盒在化學(xué)藥液槽中的剩余工藝時(shí)間等于第一閾值時(shí)進(jìn)行步驟S25；

S24：等待另一硅片載片盒完成在化學(xué)藥液槽中的清洗工藝，通過(guò)所述機(jī)械手將所述另一硅片載片盒拾取并放至與之對(duì)應(yīng)的水槽后所述機(jī)械手移動(dòng)至機(jī)械手清洗槽清洗機(jī)械手爪勾，之后執(zhí)行步驟S25；

S25：將在非化學(xué)藥液槽中的硅片載片盒取出并放入下一工藝單元。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的調(diào)度方法，其特征在于，所述機(jī)械手將所述硅片載片盒放入所述化學(xué)藥液槽后也移動(dòng)至所述機(jī)械手清洗槽清洗機(jī)械手爪勾；所述第一閾值包括所述機(jī)械手在將處于非化學(xué)藥液槽中的硅片載片盒放入下一工藝單元后、移動(dòng)至所述另一硅片載片盒所在化學(xué)藥液槽之前的清洗機(jī)械手爪勾所需的時(shí)間。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的調(diào)度方法，其特征在于，所述硅片清洗設(shè)備包括順序連接的三個(gè)工藝槽組，其中第一工藝槽組包括SC1藥液槽和快速濕洗水槽，第二工藝槽組包括SC2藥液槽和快速濕洗水槽，第三工藝槽組包括DHF藥液槽和溢流沖洗水槽；所述干燥槽為IPA干燥槽。