[發明專利]陣列基板及其制作方法、顯示面板

有效

• 申請號: 201611090724.5
• 申請日: 2016-12-01
• 公開（公告）號: CN108133932B
• 公開（公告）日: 2020-04-10
• 發明（設計）人: 郭志軒;王鳳國;武新國;李峰;劉弘;王子峰;李元博;馬波
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司
• 主分類號: H01L27/02
• 分類號: H01L27/02;H01L21/77
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 焦玉恒;王小會

提供一種陣列基板及其制作方法、顯示面板。該陣列基板，包括：襯底基板；光遮擋層，設置在襯底基板上；壓力電極，與光遮擋層同層設置；緩沖層，設置在光遮擋層和壓力電極上；薄膜晶體管，包括依次設置在緩沖層上的有源層、柵極絕緣層和柵極；壓力電極引線，與柵極同層設置；有源層包括溝道區域，光遮擋層被配置來遮擋入射到有源層的溝道區域的光線，壓力電極引線與壓力電極電連接。該陣列基板中，壓力電極引線與柵極同層設置，從而，可以解決刻蝕過程中損傷襯底基板、損失壓力電極、刻蝕時間不好把握、SD層與LS層的過孔以及壓力電極引線與壓力電極的過孔過厚，易造成斷路和接觸不良的問題。

技術領域

本公開至少一實施例涉及一種陣列基板及其制作方法、顯示面板。

背景技術

壓力感應技術是指對外部受力能夠感應或測量的技術。許多廠商正在尋求合適的技術方案來在顯示領域尤其是手機或平板電腦等領域實現壓力感應，從而使用戶得到更好的、更豐富的人機交互體驗。

發明內容

本公開的至少一實施例涉及一種陣列基板及其制作方法、顯示面板，以解決刻蝕過程中損傷襯底基板、損失壓力電極、刻蝕時間不好把握、SD層與LS層的過孔以及壓力電極引線與壓力電極的過孔過厚，易造成斷路和接觸不良的問題。

本公開至少一實施例提供一種陣列基板，包括：

襯底基板；

光遮擋層，設置在所述襯底基板上；

壓力電極，與所述光遮擋層同層設置；

緩沖層，設置在所述光遮擋層和所述壓力電極上；

薄膜晶體管，包括依次設置在所述緩沖層上的有源層、柵極絕緣層和柵極；

壓力電極引線，與所述柵極同層設置；

其中，所述有源層包括溝道區域，所述光遮擋層被配置來遮擋入射到所述有源層的所述溝道區域的光線，所述壓力電極引線與所述壓力電極電連接。

本公開至少一實施例提供一種顯示面板，包括本公開任一實施例所述的陣列基板。

本公開至少一實施例提供一種陣列基板的制作方法，包括：

在襯底基板上同層形成光遮擋層和壓力電極；

在所述光遮擋層和所述壓力電極上形成緩沖層；

在所述緩沖層上形成薄膜晶體管的有源層；

在所述有源層上形成柵極絕緣層；

在所述柵極絕緣層上同層形成柵極和壓力電極引線；

其中，所述有源層包括溝道區域，所述光遮擋層被配置來遮擋入射到所述有源層的所述溝道區域的光線，所述壓力電極引線與所述壓力電極電連接。

附圖說明

為了更清楚地說明本公開實施例的技術方案，下面將對實施例的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅涉及本公開的一些實施例，而非對本公開的限制。

圖1為一種陣列基板的示意圖；

圖2為圖1的A-B向剖視示意圖；

圖3為本公開一實施例提供的一種陣列基板的示意圖；

圖4為圖3的C-D向剖視示意圖；

圖5為壓力電極與中框形成檢測電容的示意圖；

圖6為壓力電極與中框形成檢測電容的示意圖；

圖7為在襯底基板上同層形成光遮擋層和壓力電極；

圖8為在緩沖層上形成薄膜晶體管的有源層；