[發明專利]一種具有加熱線圈盤的均溫鍋

有效

• 申請號: 201611086826.X
• 申請日: 2016-11-30
• 公開（公告）號: CN108113455B
• 公開（公告）日: 2023-10-20
• 發明（設計）人: 李康;曹達華;李興航;李洪偉;楊玲;屈雪平
• 申請（專利權）人: 佛山市順德區美的電熱電器制造有限公司
• 主分類號: A47J27/00
• 分類號: A47J27/00
• 代理公司: 北京輕創知識產權代理有限公司 11212
• 代理人: 何佩英

1.一種具有加熱線圈盤的均溫鍋，其特征在于，包括形狀相同、容積不同的內鍋和外鍋，所述內鍋套設在所述外鍋內，所述內鍋的頂端與所述外鍋的頂端密封固定連接，所述內鍋和外鍋之間形成真空腔；所述真空腔底部填充有受熱可從液態轉化為氣態的液體相變工質；所述真空腔內設置有吸液芯；所述加熱線圈盤位于所述外鍋外表面，所述吸液芯的最低端高于所述加熱線圈盤的最高位置。

2.根據權利要求1所述一種具有加熱線圈盤的均溫鍋，其特征在于，所述吸液芯為兩條以上多孔泡沫金屬條，所述多孔泡沫金屬條與所述內鍋和外鍋形狀適配且其兩側連接所述內鍋外側和所述外鍋內側，所述多孔泡沫金屬條之間為所述真空腔。

3.根據權利要求2所述一種具有加熱線圈盤的均溫鍋，其特征在于，兩條以上多孔泡沫金屬條沿著所述真空腔的環形方向均勻布置，所述多孔泡沫金屬條的長度方向沿著所述真空腔的高度方向布置。

4.根據權利要求1一種具有加熱線圈盤的均溫鍋,其特征在于，所述吸液芯為多孔泡沫金屬層，所述多孔泡沫金屬層設置在內鍋外側或者外鍋內側。

5.根據權利要求2-4任一項所述一種具有加熱線圈盤的均溫鍋,其特征在于，所述多孔泡沫金屬條或所述多孔泡沫金屬層的平均孔徑為0.2～10mm,孔隙率為70％～80％,厚度為1～5mm。

6.根據權利要求1至4任一項所述一種具有加熱線圈盤的均溫鍋,其特征在于，所述真空腔的寬度范圍為1.5mm～4mm。

7.根據權利要求1至4任一項所述一種具有加熱線圈盤的均溫鍋,其特征在于，所述內鍋與外鍋之間距離為2mm～3mm；所述內鍋和外鍋的厚度為0.5mm～1.5mm。

8.根據權利要求2-4任一項所述一種具有加熱線圈盤的均溫鍋,其特征在于，所述多孔泡沫金屬條為多孔泡沫銅條、多孔泡沫鋁條或多孔泡沫鎳條；所述多孔泡沫金屬層為多孔泡沫銅層、多孔泡沫鋁層或多孔泡沫鎳層。

9.根據權利要求1至4任一項所述一種具有加熱線圈盤的均溫鍋,其特征在于，所述外鍋上部設有連通所述真空腔的空心管。

10.根據權利要求1至4任一項所述一種具有加熱線圈盤的均溫鍋,其特征在于，所述吸液芯的最低端高于所述加熱線圈盤的最高位置0.5～8mm。