[發明專利]薄膜形成裝置及使用其制造顯示設備的方法在審
| 申請號: | 201611076642.5 | 申請日: | 2016-11-29 |
| 公開(公告)號: | CN107164733A | 公開(公告)日: | 2017-09-15 |
| 發明(設計)人: | 羅興烈;金東昱;薛在完;鄭成鎬 | 申請(專利權)人: | 三星顯示有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/24 | 分類號: | C23C14/24;C23C14/12 |
| 代理公司: | 北京英賽嘉華知識產權代理有限責任公司11204 | 代理人: | 王達佐,劉錚 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 薄膜 形成 裝置 使用 制造 顯示 設備 方法 | ||
1.薄膜形成裝置,包括:
爐缸,存儲用于形成薄膜的源材料;以及
前散熱器,布置在所述爐缸上并且包括第一反射板,
其中,所述第一反射板具有第一表面和第二表面,所述第一表面具有第一反射率,所述第二表面具有與所述第一反射率不同的第二反射率。
2.根據權利要求1所述的薄膜形成裝置,其中,所述第一反射率大于所述第二反射率。
3.根據權利要求1所述的薄膜形成裝置,其中,所述第一表面和所述第二表面由不同材料形成。
4.根據權利要求1所述的薄膜形成裝置,其中,所述第一反射板由一種材料形成。
5.根據權利要求1所述的薄膜形成裝置,其中,所述第一反射板還具有反射鏡涂層,所述反射鏡涂層形成在所述第一表面上。
6.根據權利要求1所述的薄膜形成裝置,其中,所述第二表面的粗糙度大于所述第一表面的粗糙度。
7.根據權利要求1所述的薄膜形成裝置,其中,所述第一反射率為90%或更高。
8.根據權利要求1所述的薄膜形成裝置,其中,所述第二反射率為10%或更低。
9.根據權利要求1所述的薄膜形成裝置,其中,所述第一表面包括鏡面涂覆表面,以及所述第二表面包括漫反射表面。
10.根據權利要求1所述的薄膜形成裝置,還包括:
噴嘴,連接至所述爐缸,
其中,所述第一反射板包括孔,所述噴嘴插入所述孔中。
11.根據權利要求1所述的薄膜形成裝置,還包括:
蓋板,與所述第一反射板重疊。
12.根據權利要求11所述的薄膜形成裝置,其中:
所述第一表面反射從所述爐缸釋放的熱量中的至少一些;以及
所述第二表面吸收穿透所述第一反射板并且被所述蓋板反射的熱量中的至少一些。
13.根據權利要求1所述的薄膜形成裝置,其中,所述前散熱器還包括第二反射板,所述第二反射板包括具有第三反射率的第一表面和具有第四反射率的第二表面,所述第四反射率與所述第三反射率不同。
14.根據權利要求13所述的薄膜形成裝置,其中,所述第三反射率大于所述第四反射率。
15.根據權利要求13所述的薄膜形成裝置,其中,所述第三反射率與所述第一反射率相同。
16.根據權利要求13所述的薄膜形成裝置,其中,所述第三反射率與所述第一反射率不同。
17.根據權利要求1所述的薄膜形成裝置,還包括:
側散熱器,布置成與所述爐缸的側部相鄰,
其中,所述側散熱器的第一表面具有所述第一反射率。
18.制造顯示設備的方法,包括:
制備包括爐缸和前散熱器的薄膜形成裝置,其中,所述爐缸存儲用于形成薄膜的源材料,所述前散熱器布置在所述爐缸上并且包括反射板,其中,所述反射板包括具有第一反射率的第一表面和具有第二反射率的第二表面,所述第二反射率與所述第一反射率不同;以及
通過蒸發所述薄膜形成裝置的所述源材料,在襯底上形成薄膜。
19.根據權利要求18所述的方法,其中:
所述源材料為有機材料;以及
形成在所述襯底上的所述薄膜為有機層。
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