[發明專利]控制終端天線系統輻射的方法、裝置以及天線系統

有效

• 申請號: 201611076156.3
• 申請日: 2016-11-29
• 公開（公告）號: CN108123212B
• 公開（公告）日: 2020-06-02
• 發明（設計）人: 熊曉峰
• 申請（專利權）人: 北京小米移動軟件有限公司
• 主分類號: H01Q1/24
• 分類號: H01Q1/24;H01Q1/48
• 代理公司: 北京尚倫律師事務所 11477
• 代理人: 代治國

本公開是關于控制終端天線系統輻射的方法及裝置。該方法包括：獲取保護對象與終端間的相對位置；根據保存的預設相對位置與天線系統中地板的預設填充位置的對應關系，確定與所述相對位置對應的預設填充位置；控制所述地板中的電場分布，將所述地板中的液態金屬填充到所述預設填充位置，在所述預設填充位置形成對所述天線系統中輻射信號進行反射的輻射反射層。該技術方案中，可根據保護對象與終端間的相對位置，控制天線系統的地板中液態金屬在填充位置形成對天線系統中輻射信號進行反射的輻射反射層，這樣，減少了終端在填充位置的電磁輻射，提高了終端使用的安全性。

技術領域

本公開涉及智能終端技術領域，尤其涉及控制終端天線系統輻射的方法、裝置及天線系統。

背景技術

隨著智能終端技術的發展，智能終端越來越便攜，其結構也越來也經湊。而終端的天線系統也一般是內置天線系統，包括：天線和地板，天線和地板之間相隔設定距離，并且，天線上至少一個點通過連接器件與地板接觸。

終端的輻射主要由終端中的天線系統帶來的。目前，普遍采用電磁波吸收比值(Specific Absorption Rate，SAR)來評估電磁輻射對人體造成的傷害。為降低終端SAR值，可在終端上天線對應位置貼吸波材料，或者降低天線的傳導功率等。

發明內容

本公開實施例提供了控制終端天線系統輻射的方法及裝置。所述技術方案如下：

根據本公開實施例的第一方面，提供一種控制終端天線系統輻射的方法，可包括：

獲取保護對象與終端間的相對位置；

根據保存的預設相對位置與天線系統中地板的預設填充位置的對應關系，確定與所述相對位置對應的預設填充位置；

控制所述地板中的電場分布，將所述地板中的液態金屬填充到所述預設填充位置，在所述預設填充位置形成對所述天線系統中輻射信號進行反射的輻射反射層。

可見，可根據保護對象與終端間的相對位置，控制天線系統的地板中液態金屬的填充位置，而液態金屬可在填充位置形成對天線系統中輻射信號進行反射的輻射反射層，這樣，減少了終端在填充位置的電磁輻射，提高了終端使用的安全性。

在一個實施例中，所述獲取保護對象與終端間的相對位置包括：

通過檢測裝置，確定所述保護對象與所述終端間的距離；

當所述距離小于或等于設定距離時，通過所述檢測裝置，獲取所述保護對象與所述終端間的相對位置，所述相對位置包括：方向信息，或，方向信息和距離信息。

可見，只對設定距離內的保護對象，采用液態金屬填充在地板中形成對天線系統中輻射信號進行反射的輻射反射層的方式，來減少對保護對象的電磁輻射，減少了對系統資源的長期占用。

在一個實施例中，所述預設相對位置與天線系統中地板的預設填充位置的對應關系的保存過程包括：

根據所述天線系統中天線的分布信息，確定所述天線系統的地板中與預設相對位置形成輻射信號反射保護的預設填充位置；

保存所述預設相對位置與所述預設填充位置的對應關系。

該實施例中可預先確定預設相對位置與所述預設填充位置的對應關系，從而，提高控制地板中的電場分布的效率。

在一個實施例中，當所述相對位置包括距離信息時，所述控制所述地板中的電場分布包括：

根據所述距離信息，確定所述地板中與所述預設填充位置對應第一電場的強度，其中，所述強度確定所述輻射反射層的厚度。

可見，不僅可以控制液態金屬流動的目標位置，還可控制液態金屬的流動量，進一步提高控制終端天線系統輻射的精度。