[發明專利]控制終端天線系統輻射的方法、裝置以及天線系統有效
| 申請號: | 201611076156.3 | 申請日: | 2016-11-29 |
| 公開(公告)號: | CN108123212B | 公開(公告)日: | 2020-06-02 |
| 發明(設計)人: | 熊曉峰 | 申請(專利權)人: | 北京小米移動軟件有限公司 |
| 主分類號: | H01Q1/24 | 分類號: | H01Q1/24;H01Q1/48 |
| 代理公司: | 北京尚倫律師事務所 11477 | 代理人: | 代治國 |
| 地址: | 100085 北京市海淀區清河*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 控制 終端 天線 系統 輻射 方法 裝置 以及 | ||
1.一種控制終端天線系統輻射的方法,其特征在于,包括:
獲取保護對象與終端間的相對位置;
根據保存的預設相對位置與天線系統中地板的預設填充位置的對應關系,確定與所述相對位置對應的預設填充位置;
控制所述地板中的電場分布,將所述地板中的液態金屬填充到所述預設填充位置,在所述預設填充位置形成對所述天線系統中輻射信號進行反射的輻射反射層;
所述獲取保護對象與終端間的相對位置包括:
通過檢測裝置,確定所述保護對象與所述終端間的距離;
當所述距離小于或等于設定距離時,通過所述檢測裝置,獲取所述保護對象與所述終端間的相對位置。
2.如權利要求1所述的方法,其特征在于,
所述相對位置包括:方向信息,或,方向信息和距離信息。
3.如權利要求1所述的方法,其特征在于,所述預設相對位置與天線系統中地板的預設填充位置的對應關系的保存過程包括:
根據所述天線系統中天線的分布信息,確定所述天線系統的地板中與預設相對位置形成輻射信號反射保護的預設填充位置;
保存所述預設相對位置與所述預設填充位置的對應關系。
4.如權利要求2所述的方法,其特征在于,當所述相對位置包括距離信息時,所述控制所述地板中的電場分布包括:
根據所述距離信息,確定所述地板中與所述預設填充位置對應第一電場的強度,其中,所述強度確定所述輻射反射層的厚度。
5.如權利要求2所述的方法,其特征在于,所述方法還包括:
當通過檢測裝置確定的所述保護對象與所述終端間的距離大于設定距離時,控制所述地板中的電場分布,將所述液態金屬分布到所述地板中的第一設定位置,其中,所述第一設定位置根據所述天線系統的最大輻射能量確定。
6.一種控制終端天線系統輻射的裝置,其特征在于,包括:
獲取模塊,用于獲取保護對象與終端間的相對位置;
確定模塊,用于根據保存的預設相對位置與天線系統中地板的預設填充位置的對應關系,確定與所述獲取模塊獲取的所述相對位置對應的預設填充位置;
第一控制模塊,用于控制所述地板中的電場分布,將所述地板中的液態金屬填充到所述確定模塊確定的預設填充位置,在所述預設填充位置形成對所述天線系統中輻射信號進行反射的輻射反射層;
所述獲取模塊包括:
確定子模塊,用于通過檢測裝置,確定所述保護對象與所述終端間的距離;
獲取子模塊,用于當所述確定子模塊確定的所述距離小于或等于設定距離時,通過所述檢測裝置,獲取所述保護對象與所述終端間的相對位置。
7.如權利要求6所述的裝置,其特征在于,
所述相對位置包括:方向信息,或,方向信息和距離信息。
8.如權利要求6所述的裝置,其特征在于,所述裝置還包括:
存儲模塊,用于根據所述天線系統中天線的分布信息,確定所述天線系統的地板中與預設相對位置形成輻射信號反射保護的預設填充位置,并保存所述預設相對位置與所述預設填充位置的對應關系。
9.如權利要求7所述的裝置,其特征在于,所述第一控制模塊包括:
強度確定子模塊,用于當所述相對位置包括距離信息時,根據所述距離信息,確定所述地板中與所述預設填充位置對應第一電場的強度,其中,所述強度確定所述輻射反射層的厚度。
10.如權利要求7所述的裝置,其特征在于,所述裝置還包括:
第二控制模塊,用于當通過檢測裝置確定的所述保護對象與所述終端間的距離大于設定距離時,控制所述地板中的電場分布,將所述液態金屬分布到所述地板中的第一設定位置,其中,所述第一設定位置根據所述天線系統的最大輻射能量確定。
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