[發明專利]一種線柵單元及其保護裝置

有效

• 申請號: 201611073797.3
• 申請日: 2016-11-29
• 公開（公告）號: CN108121101B
• 公開（公告）日: 2020-11-20
• 發明（設計）人: 熊金磊
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備（集團）股份有限公司
• 主分類號: G02F1/1335
• 分類號: G02F1/1335;G02B5/30
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 屈蘅;李時云

本發明公開了一種線柵單元，包括線柵、第一線柵支撐件、第二線柵支撐件以及線柵壓緊片；所述線柵設置在第一線柵支撐件和第二線柵支撐件上，所述第一線柵支撐件和所述第二線柵支撐件分別設置在所述線柵刻度面的對邊的兩側，所述線柵的刻度面面向所述第一線柵支撐件、第二線柵支撐件，并且通過固定在所述第一線柵支撐件和所述第二線柵支撐件上的線柵壓緊片固定所述線柵。所述線柵單元結構簡單，適用范圍廣。本發明還公開了上述線柵單元的保護裝置，所述保護裝置采用裝配式結構，增加了線柵的有效透光面積，提高了所述保護裝置所在整機的累積劑量均勻性。

技術領域

本發明涉及一種線柵單元及其保護裝置。

背景技術

液晶屏光學配向設備的核心部件為起偏方向一致的線柵組件部分，當前受制于線柵生產制造水平，國內外能使用的線柵尺寸一般為120mm×120mm、100mm×100mm和120mm×100mm三種。而當前世界主流液晶屏生產尺寸已達4.5G和6G，故需為線柵拼接保護裝置設計一種可靠的線柵拼接保護單元。

對光配向設備起偏模塊的主要性能要求一般為：

1、偏光角度誤差：±870urad；

2、消光比：≥100：1；

3、聯合照明等模塊，透過線柵后光線的累積劑量均勻性：≤5％。

其中，第3條中的累積劑量均勻性為整機綜合指標，體現了最終從起偏模塊照下的偏振光線的整體質量或性能。通過多次分析與仿真實驗，發現當前技術環境下，影響累積劑量均勻性主要參數即為起偏模塊中線柵拼接縫寬度。在其它結構、條件不變的情況下，拼接縫寬分別為6.5mm、3mm時仿真數據整理如下表：

線柵拼接縫寬6.5mm時的仿真數據整理見表一：

表一

線柵拼接縫寬3mm的仿真數據整理見表二：

表二

由上述可以看出，當線柵拼接縫寬由6.5mm減為3mm時，整機累積劑量均勻性由5.58％提高到4.76％。

綜上，如上三點性能需求轉化對線柵保護、拼接的方面主要功能需求即為：在各線柵得到可靠地高精度地拼接的同時，在高溫、深紫外光、平面內可調條件下，能保持盡量小的拼接縫。對拼接裝置的具體需求如下：

線柵可靠機械保護；

避免高溫工作環境對線柵透光區域、起偏角度等方面的影響；

線柵有效透光面積盡量大，兩塊線柵有效透光區域間拼接縫盡量小；

線柵起偏方向微調；

線柵刻度面防氧化保護。

目前國內外用于拼接的線柵拼接單元一般為一體盒式單元結構，該結構存在如下問題：

加工困難，該結構在線柵拼接方向單邊寬度一般在1～5mm，受制于加工設備及工藝，該結構加工很難保證邊框形狀；

高溫易變形，易影響產品性能。該結構四角均固定，但線柵為強深紫外光照下工作，在增加壓縮空氣散熱的情況下，工作溫度一般在150～200℃甚至更高，非拼接方向溫度梯度約50℃，此時該結構易變形，且變形不可控；

拼接間隙較大，考慮邊框單邊可加工尺寸及單塊線柵的調節范圍，該結構線柵與線柵之間的拼接縫一般在7mm及以上；

過于封閉，單個線柵盒體自成一個密閉腔室用于對線柵表面納米線的保護，隨著產品尺寸、線柵拼接尺寸的增加，外部保護氣體氣道、管路布局復雜程度會不斷增加。

發明內容