[發(fā)明專利]一種掩膜板、掩膜板組件及顯示面板在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201611069720.9 | 申請日: | 2016-11-28 |
| 公開(公告)號: | CN106597802A | 公開(公告)日: | 2017-04-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 陳永勝 | 申請(專利權(quán))人: | 武漢華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/00 | 分類號: | G03F1/00 |
| 代理公司: | 深圳市威世博知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)44280 | 代理人: | 鐘子敏 |
| 地址: | 430070 湖北省武漢市*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 掩膜板 組件 顯示 面板 | ||
1.一種掩膜板,其特征在于,包括,
平板本體,所述平板本體上設(shè)有開口,所述開口用于形成相鄰主像素中相鄰的同類子像素;
其中,所述主像素包括三種相互分離的子像素,并且至少包括兩個同類的子像素。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜板,其特征在于,
所述主像素中偶數(shù)行的每個主像素由奇數(shù)行每個主像素垂直翻轉(zhuǎn)180°形成;所述主像素中偶數(shù)列的每個主像素由奇數(shù)列每個主像素水平翻轉(zhuǎn)180°形成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜板,其特征在于,
所述掩膜板的所述開口數(shù)量有多個,且沿行和列方向依次排列,每個所述開口供上下左右相鄰的四個所述主像素的四個同類子像素共用,且所有開口對應(yīng)的子像素種類相同。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜板,其特征在于,
若相鄰的所述開口對應(yīng)的是相鄰的所述子像素,則相鄰所述開口連通為一體。
5.一種掩膜板組件,其特征在于,包括,
至少兩個掩膜板,每個所述掩膜板包括平板本體,所述平板本體上設(shè)有開口,所述開口用于形成相鄰主像素中相鄰的同類子像素;
其中,所述主像素包括三種相互分離的子像素,并且至少包括兩個同類的子像素,每個所述掩膜板用于制造的子像素不同類。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的掩膜板組件,其特征在于,
所述主像素中偶數(shù)行的每個主像素由奇數(shù)行每個主像素垂直翻轉(zhuǎn)180°形成;所述主像素中偶數(shù)列的每個主像素由奇數(shù)列每個主像素水平翻轉(zhuǎn)180°形成。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的掩膜板組件,其特征在于,
所述掩膜板的所述開口數(shù)量有多個,且沿行和列方向依次排列,每個所述開口供上下左右相鄰的四個所述主像素的四個同類子像素共用,且所有開口對應(yīng)的子像素種類相同。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的掩膜板組件,其特征在于,
若相鄰的所述開口對應(yīng)的是相鄰的所述子像素,則相鄰所述開口連通為一體。
9.一種顯示面板,包括多個主像素,其特征在于,
所述主像素包括三種相互分離的子像素,并且至少包括兩個同類的子像素;
其中,相鄰所述主像素中相鄰的子像素是同類子像素,且由掩膜板中同一個開口形成。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的顯示面板,其特征在于,
所述主像素中偶數(shù)行的每個主像素由奇數(shù)行每個主像素垂直翻轉(zhuǎn)180°形成;所述主像素中偶數(shù)列的每個主像素由奇數(shù)列每個主像素水平翻轉(zhuǎn)180°形成。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學(xué)臨近校正(OPC)設(shè)計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準(zhǔn)或測試的特殊涂層或標(biāo)記;其制備





