[發(fā)明專利]用于電子組件的圖案結(jié)構(gòu)及其制造方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201611069060.4 | 申請日: | 2016-11-29 |
| 公開(公告)號: | CN108122731A | 公開(公告)日: | 2018-06-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 朱彥瑞;周信宏;蔡明志 | 申請(專利權(quán))人: | 華邦電子股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/02 | 分類號: | H01L21/02 |
| 代理公司: | 北京同立鈞成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205 | 代理人: | 馬雯雯;臧建明 |
| 地址: | 中國臺灣臺*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 圖案層 阻擋結(jié)構(gòu) 圖案結(jié)構(gòu) 懸臂結(jié)構(gòu) 基底 電子組件 連接結(jié)構(gòu) 階梯覆蓋性 配置 制造 | ||
本發(fā)明涉及一種用于電子組件的圖案結(jié)構(gòu)及其制造方法。圖案結(jié)構(gòu)包括圖案層、阻擋結(jié)構(gòu)、懸臂結(jié)構(gòu)以及連接結(jié)構(gòu)。圖案層配置于基底上。阻擋結(jié)構(gòu)配置于圖案層的一側(cè)的基底上,其中阻擋結(jié)構(gòu)的厚度小于圖案層的厚度。懸臂結(jié)構(gòu)連接于圖案層與阻擋結(jié)構(gòu)之間。連接結(jié)構(gòu)連接于圖案層與其一側(cè)的基底之間,且位于懸臂結(jié)構(gòu)與阻擋結(jié)構(gòu)上。本技術(shù)方案具有較佳的階梯覆蓋性。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種圖案結(jié)構(gòu),且尤其涉及一種具有大的階梯高度的用于電子組件的圖案結(jié)構(gòu)及其制造方法。
背景技術(shù)
利用打印制程來形成電子組件具有許多優(yōu)點,包括制程簡單且快速。具體而言,可通過對準(zhǔn)、打印以及固化的簡單步驟將墨水印刷成任意圖案,而可避免進行微影制程所需的繁瑣步驟。此外,打印制程所使用的設(shè)備少、材料使用率高且制程周期短,故可降低電子組件的制造成本。
特別來說,打印制程包括噴墨打印(inkjet printing)。在噴墨打印中,若階梯高度(step height)過大(例如是大于200nm),則可能造成后續(xù)所形成的膜層在階梯的側(cè)壁處發(fā)生不連續(xù)的問題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種圖案結(jié)構(gòu),具有較佳的階梯覆蓋性(step coverage)。
本發(fā)明提供一種圖案結(jié)構(gòu)的制造方法,可避免膜層在階梯的側(cè)壁上發(fā)生不連續(xù)的問題。
在本發(fā)明的一實施例中,圖案結(jié)構(gòu)用于電子組件。圖案結(jié)構(gòu)包括圖案層、阻擋結(jié)構(gòu)、懸臂結(jié)構(gòu)以及連接結(jié)構(gòu)。圖案層配置于基底上。阻擋結(jié)構(gòu)配置于圖案層的一側(cè)的基底上,其中阻擋結(jié)構(gòu)的厚度小于圖案層的厚度。懸臂結(jié)構(gòu)連接于圖案層與阻擋結(jié)構(gòu)之間。連接結(jié)構(gòu)連接于圖案層與其一側(cè)的基底之間,且位于懸臂結(jié)構(gòu)與阻擋結(jié)構(gòu)上。
在本發(fā)明的一實施例中,上述的圖案結(jié)構(gòu)中,圖案層的厚度可大于200nm。
在本發(fā)明的一實施例中,上述的圖案結(jié)構(gòu)中,阻擋結(jié)構(gòu)的厚度與圖案層的厚度的比例范圍可在1:2至3:20之間。
在本發(fā)明的一實施例中,上述的圖案結(jié)構(gòu)中,阻擋結(jié)構(gòu)與圖案層之間的間距與圖案層的厚度的比例范圍可在3:5至7:4之間。
在本發(fā)明的一實施例中,上述的圖案結(jié)構(gòu)中,阻擋結(jié)構(gòu)可環(huán)繞圖案層。
在本發(fā)明的一實施例中,上述的圖案結(jié)構(gòu)中,懸臂結(jié)構(gòu)的頂面可為斜面,其較高的一側(cè)連接于圖案層而其較低的一側(cè)連接于阻擋結(jié)構(gòu)。
在本發(fā)明的一實施例中,上述的圖案結(jié)構(gòu)中,懸臂結(jié)構(gòu)的材料可不同于擋結(jié)構(gòu)的材料。
在本發(fā)明的一實施例中,上述的圖案結(jié)構(gòu)中,連接結(jié)構(gòu)的材料可包括導(dǎo)體材料以及絕緣材料。
在本發(fā)明的一實施例中,圖案結(jié)構(gòu)用于電子組件。圖案結(jié)構(gòu)包括圖案層、阻擋結(jié)構(gòu)、懸臂結(jié)構(gòu)以及連接結(jié)構(gòu)。圖案層配置于基底上。阻擋結(jié)構(gòu)配置于圖案層的一側(cè)的基底上,其中阻擋結(jié)構(gòu)的厚度小于圖案層的厚度。懸臂結(jié)構(gòu)連接于圖案層與阻擋結(jié)構(gòu)之間。連接結(jié)構(gòu)配置于圖案層、懸臂結(jié)構(gòu)以及阻擋結(jié)構(gòu)上,其中阻擋結(jié)構(gòu)的材料與連接結(jié)構(gòu)的材料均包括導(dǎo)體材料。
本發(fā)明的圖案結(jié)構(gòu)的制造方法用于電子組件。圖案結(jié)構(gòu)的制造方法包括下列步驟。于基底上形成圖案層。形成阻擋結(jié)構(gòu),其經(jīng)形成于圖案層的一側(cè)的基底上,其中阻擋結(jié)構(gòu)的厚度小于圖案層的厚度。形成懸臂結(jié)構(gòu),其經(jīng)形成以連接于圖案層與阻擋結(jié)構(gòu)之間。形成連接結(jié)構(gòu),其經(jīng)形成以連接于圖案層與其一側(cè)的基底之間,且經(jīng)形成于懸臂結(jié)構(gòu)與阻擋結(jié)構(gòu)上。
在本發(fā)明的一實施例中,上述的圖案結(jié)構(gòu)的制造方法中,形成阻擋結(jié)構(gòu)、懸臂結(jié)構(gòu)以及連接結(jié)構(gòu)的方法可包括噴墨打印。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于華邦電子股份有限公司,未經(jīng)華邦電子股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201611069060.4/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





