[發(fā)明專利]校正裝置和校正方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201611052775.9 | 申請日: | 2016-11-25 |
| 公開(公告)號: | CN107030570B | 公開(公告)日: | 2019-08-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 谷澤昭尋;小林賢一 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社荏原制作所 |
| 主分類號: | B24B21/00 | 分類號: | B24B21/00;B24B21/18;B24B41/02;B24B41/06;B24B49/00 |
| 代理公司: | 上海華誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31300 | 代理人: | 肖華 |
| 地址: | 日本東京都*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 校正裝置 載荷測量設(shè)備 底板 拋光墊片 拋光系統(tǒng) 基板 按壓 拋光基板 真空吸附 按壓力 移除 校正 測量 | ||
本發(fā)明的目的在于提供一種校正裝置,該校正裝置能夠使拋光墊片的按壓力通過簡單方法進(jìn)行調(diào)節(jié),而無需移除其上可放置有基板的臺階。本發(fā)明的一個實(shí)施例提供一種針對用于拋光基板的斜面部分的斜面拋光系統(tǒng)的校正裝置,包含:載荷測量設(shè)備,其能夠測量來自斜面拋光系統(tǒng)的拋光墊片的按壓載荷;和底板,在其上能夠放置有載荷測量設(shè)備,其中,底板能夠固定在能夠在其上放置基板的真空吸附臺上。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種校正裝置和一種校正方法。具體地,本發(fā)明涉及一種針對用于拋光基板的斜面部分的斜面拋光系統(tǒng)的校正裝置和方法。
背景技術(shù)
根據(jù)用于拋光基板(例如晶圓)的斜面部分的慣用斜面拋光系統(tǒng),稱作拋光或按壓墊片的墊片通過具有適當(dāng)載荷的拋光帶被按壓抵靠基板的斜面部分。因而,上述系統(tǒng)控制基板的拋光量和基板的形狀。拋光墊片通過例如使用電動氣動調(diào)節(jié)器的氣動控制進(jìn)行控制。電動氣動調(diào)節(jié)器用于將供應(yīng)至氣缸的氣壓調(diào)節(jié)為所需壓力,從而控制拋光墊片的按壓力,因而控制將拋光帶的拋光表面按壓抵靠基板的壓力(專利文獻(xiàn)1)。
因而,如上所述,斜面拋光系統(tǒng)使用電動氣動調(diào)節(jié)器,用于對氣缸中的氣壓進(jìn)行精確控制,從而維持拋光性能。因此,需要獲得氣缸中的氣壓與在拋光墊片的端部處的按壓載荷之間的準(zhǔn)確關(guān)聯(lián)性。作為實(shí)現(xiàn)此需要的方法,在控制的氣壓條件下,校正來自拋光墊片的載荷現(xiàn)在通過使用測力計實(shí)際測量按壓載荷而執(zhí)行。
引用列表
專利文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)1:日本專利申請出版物(Kokai)No.2012-231191
發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)上述校正作業(yè),通常,在其上放置有基板的臺階從基板保持旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)移除。臺階被替換為配備有測力計的附接夾具。在附接夾具安裝在旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)上之后,相對于拋光墊片的按壓力執(zhí)行一系列調(diào)節(jié)操作。然而,移除臺階和附接附接夾具的操作非常耗時。進(jìn)一步,為了執(zhí)行可靠的校正作業(yè),附接夾具需要安裝成使測力計可以準(zhǔn)確地定位。此外,在重新附接臺階時,需要再次調(diào)節(jié)臺階,包括調(diào)節(jié)臺階的偏心度和水平度。這不僅使校正作業(yè)復(fù)雜,而且造成停機(jī)時間,導(dǎo)致每單位時間所處理的基板的數(shù)量減少。
本發(fā)明的一個實(shí)施例提供一種校正裝置,該校正裝置能使拋光墊片的按壓力通過簡單方法進(jìn)行調(diào)節(jié),而無需移除其上可放置基板的臺階。進(jìn)一步,本發(fā)明的一個實(shí)施例提供一種校正方法,該校正方法使得可以通過簡單方法調(diào)節(jié)拋光墊片的按壓力,而無需移除其上可放置基板的臺階。
根據(jù)本發(fā)明的一個實(shí)施例,提供一種用在斜面拋光裝置中的校正裝置,該斜面拋光裝置被構(gòu)造成拋光基板的斜面部分,該校正裝置包含:載荷測量設(shè)備,該載荷測量設(shè)備被構(gòu)造成測量來自斜面拋光裝置的拋光墊片的按壓載荷;和底板,該底板被構(gòu)造成固定在真空吸附臺上,該真空吸附臺被構(gòu)造成保持放置于其上的基板,底板上放置有載荷測量設(shè)備。利用以上布置,校正裝置可以通過使用現(xiàn)有的真空吸附臺的吸附機(jī)構(gòu),而安裝在用于旋轉(zhuǎn)基板的機(jī)構(gòu)上。這消除了移除在慣用技術(shù)中所需要的真空吸附臺的必要性。因為相較于慣用校正作業(yè),安裝校正裝置可以容易地執(zhí)行,所以在安裝校正裝置期間發(fā)生人為錯誤的風(fēng)險可以降低。進(jìn)一步,不同于慣用技術(shù),在校正之后沒有伴隨安裝真空吸附臺的人為錯誤的可能性。進(jìn)一步,相較于慣用的校正作業(yè),本發(fā)明減少了用于校正的操作步驟的數(shù)量,因此抑制了停機(jī)時間的出現(xiàn)和每單位時間所處理的基板的數(shù)量的減少。此外,容易通過校正作業(yè)執(zhí)行裝置狀況的定期檢查,這穩(wěn)定了斜面拋光裝置的裝置狀況。
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