[發明專利]校正裝置和校正方法

有效

• 申請號: 201611052775.9
• 申請日: 2016-11-25
• 公開（公告）號: CN107030570B
• 公開（公告）日: 2019-08-23
• 發明（設計）人: 谷澤昭尋;小林賢一
• 申請（專利權）人: 株式會社荏原制作所
• 主分類號: B24B21/00
• 分類號: B24B21/00;B24B21/18;B24B41/02;B24B41/06;B24B49/00
• 代理公司: 上海華誠知識產權代理有限公司 31300
• 代理人: 肖華

1.一種用在斜面拋光裝置中的校正裝置，其特征在于，所述斜面拋光裝置被構造成拋光放置于真空吸附臺上的基板的斜面部分，所述校正裝置包含：

載荷測量設備，所述載荷測量設備被構造成測量來自所述斜面拋光裝置的拋光墊片的按壓載荷；和

底板，所述底板被構造成能夠固定在所述真空吸附臺上，所述真空吸附臺被構造成保持放置于其上的所述基板，所述底板上放置有所述載荷測量設備。

2.如權利要求1所述的校正裝置，其特征在于，其中，所述載荷測量設備包括測力計，所述測力計具有測量軸。

3.如權利要求2所述的校正裝置，其特征在于，其中，所述載荷測量設備包括載荷支承構件，所述載荷支承構件被構造成固定至所述測力計的所述測量軸，所述載荷支承構件包括載荷支承表面，所述載荷支承表面被構造成承受所述按壓載荷。

4.如權利要求3所述的校正裝置，其特征在于，進一步包含間隔件，所述間隔件被構造成調節所述載荷支承表面相對于所述真空吸附臺的位置。

5.如權利要求3所述的校正裝置，其特征在于，其中，所述載荷支承構件包括支架。

6.如權利要求5所述的校正裝置，其特征在于，其中，所述載荷支承構件包括墊片，所述墊片由樹脂形成并適于固定至所述支架。

7.如權利要求1所述的校正裝置，其特征在于，其中，所述載荷測量設備包括安裝板，所述安裝板被構造成固定至所述底板。

8.如權利要求7所述的校正裝置，其特征在于，其中，所述安裝板包括調節螺釘，所述調節螺釘被構造成調節所述安裝板相對于所述底板的位置。

9.一種斜面拋光裝置，所述斜面拋光裝置被構造成拋光放置于真空吸附臺上的基板的斜面部分，其特征在于，所述斜面拋光裝置包含：

真空吸附臺，所述真空吸附臺被構造成保持放置于其上的基板；

多個拋光頭，所述多個拋光頭沿著所述真空吸附臺的外周布置，所述多個拋光頭中的每個拋光頭都包括拋光墊片，所述拋光墊片適于朝向所述基板的斜面部分被按壓；和

校正裝置，所述校正裝置包括：

載荷測量設備，所述載荷測量設備被構造成測量來自所述斜面拋光裝置的拋光墊片的按壓載荷；和

底板，所述底板被構造成能夠固定在所述真空吸附臺上，所述真空吸附臺被構造成保持放置于其上的所述基板，所述底板上放置有所述載荷測量設備。

10.如權利要求9所述的斜面拋光裝置，其特征在于，其中，所述載荷測量設備包括測力計，所述測力計具有測量軸。

11.如權利要求10所述的斜面拋光裝置，其特征在于，其中，所述載荷測量設備包括載荷支承構件，所述載荷支承構件被構造成固定至所述測力計的所述測量軸，所述載荷支承構件包括載荷支承表面，所述載荷支承表面被構造成承受所述按壓載荷。

12.如權利要求11所述的斜面拋光裝置，其特征在于，其中，所述校正裝置進一步包含間隔件，所述間隔件被構造成調節所述載荷支承表面相對于所述真空吸附臺的位置。

13.如權利要求11所述的斜面拋光裝置，其特征在于，其中，所述載荷支承構件包括支架。

14.如權利要求13所述的斜面拋光裝置，其特征在于，其中，所述載荷支承構件包括墊片，所述墊片由樹脂形成并適于固定至所述支架。

15.如權利要求9所述的斜面拋光裝置，其特征在于，其中，所述載荷測量設備包括安裝板，所述安裝板被構造成固定至所述底板。