[發明專利]抗菌疏水性ZnO納米棒的制備方法有效
| 申請號: | 201611046447.8 | 申請日: | 2016-11-23 |
| 公開(公告)號: | CN106756898B | 公開(公告)日: | 2019-10-11 |
| 發明(設計)人: | 吳水林;李浚;劉想梅;向一鳴;毛叢楊;譚磊;許子強 | 申請(專利權)人: | 湖北大學 |
| 主分類號: | C23C18/12 | 分類號: | C23C18/12;C23C18/04;B82Y30/00;A61L31/08;A61L31/16;A61L31/14 |
| 代理公司: | 武漢河山金堂專利事務所(普通合伙) 42212 | 代理人: | 胡清堂 |
| 地址: | 430062 湖北*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 鈦片 制備 基底 拋光 疏水性 抗菌 機械拋光處理 六次甲基四胺 六水硝酸鋅 生物相容性 超聲清洗 高溫加熱 抗菌效果 氣體產生 去離子水 水熱反應 無水乙醇 倒置 持久性 抗菌性 丙酮 廣譜 水中 打磨 備用 離子 清洗 懸浮 取出 環保 | ||
1.抗菌疏水性ZnO納米棒的制備方法,其特征主要包括如下步驟:
步驟一,鈦片機械拋光處理
在拋光機上用240、600、1200和2400目金剛砂依次將鈦片打磨,至表面光滑,將拋光鈦片依次置于丙酮、無水乙醇和去離子水中各超聲清洗10-15分鐘,室溫下自然干燥,備用;
步驟二,制備ZnO種子層
將步驟一得到的拋光鈦片作為基底,采用溶膠-凝膠法或原子層沉積法或高真空磁控濺射法鍍一層均勻的ZnO種子層;
步驟三,制備ZnO納米棒
將步驟二得到的涂有ZnO種子層的基底倒置懸浮在0.015-0.025mol/L六水硝酸鋅、0.015-0.025mol/L六次甲基四胺的水溶液中,水熱反應溫度為70℃,水熱反應時間為3小時,反應后自然冷卻,取出基底后用去離子水清洗后干燥后即為ZnO納米棒;
步驟二所述的溶膠-凝膠法,具體步驟為:
1)配制0.35-0.85mol/L二水合乙酸鋅和0.35-0.85mol/L乙醇胺的乙醇溶液,之后持續攪拌2-4小時得到無色透明膠體并在室溫下保存20-24小時,待溶膠充分陳化,即獲得前驅體溶液;
2)使用旋轉涂覆儀涂覆20-30μL前驅體溶液到鈦片上,前期500-1000轉持續10-15秒,后期3000-5000轉持續20-30秒,之后用氮氣吹干,旋涂過程重復2次;
3)之后將涂覆有種子層的鈦片在400-500℃燒制40-60分鐘,緩慢降至室溫;
對于原子層沉積法,具體方法為:
以二乙基鋅和水做為鋅源和氧源制備氧化鋅溶液作為前驅體,然后對基底進行沉積,具體為在沉積溫度為80-100℃,沉積壓強為20-40Pa,沉積流量為10-20的條件下,以通水脈沖0.1s、高純氮清洗20s、二乙基鋅脈沖0.1s、高純氮清洗20s作為一個循環進行沉積,循環次數為200-300,在基底上獲得ZnO種子層;
對于高真空磁控濺射法,具體方法為:
利用射頻磁控濺射,先讓壓力降到6.0×10-4Pa以下,然后通高純氬作為工作氣體到壓力為2.0-3.0Pa,濺射溫度為15-25℃,濺射功率為100-120W,濺射時間80-120秒。
2.根據權利要求1所述的抗菌疏水性ZnO納米棒的制備方法,其特征在于,步驟二所述的溶膠-凝膠法中1)的二水合乙酸鋅的濃度為0.75mol/L、乙醇胺的濃度為0.75mol/L。
3.根據權利要求1所述的抗菌疏水性ZnO納米棒的制備方法,其特征在于,步驟2)的旋涂參數為前期1000轉持續15s,后期5000轉持續30s。
4.根據權利要求1所述的抗菌疏水性ZnO納米棒的制備方法,其特征在于,步驟3)的燒制參數為500℃下60分鐘。
5.根據權利要求1所述的抗菌疏水性ZnO納米棒的制備方法,其特征在于,步驟1)的反應沉積溫度為100℃、沉積壓強為40Pa、沉積流量為20、反應循環次數為300。
6.根據權利要求1所述的抗菌疏水性ZnO納米棒的制備方法,其特征在于,步驟1)的濺射溫度為25℃、濺射功率為120W、濺射時間120s。
7.根據權利要求1所述的抗菌疏水性ZnO納米棒的制備方法,其特征在于,步驟三所述六水硝酸鋅的濃度為0.025mol/L、六次甲基四胺的濃度為0.025mol/L。
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C23C18-00 通過液態化合物分解抑或覆層形成化合物溶液分解、且覆層中不留存表面材料反應產物的化學鍍覆
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C23C18-14 .輻射分解法,例如光分解、粒子輻射
C23C18-16 .還原法或置換法,例如無電流鍍
C23C18-54 .接觸鍍,即無電流化學鍍
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