[發明專利]一種DMD結構單軸固定光路直寫曝光機

有效

• 申請號: 201611025003.6
• 申請日: 2016-11-22
• 公開（公告）號: CN106444298B
• 公開（公告）日: 2018-01-30
• 發明（設計）人: 李顯杰
• 申請（專利權）人: 江蘇影速光電技術有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 哈爾濱市陽光惠遠知識產權代理有限公司23211
• 代理人: 耿曉岳

1.一種DMD結構單軸固定光路直寫曝光機，其特征在于，所述DMD結構單軸固定光路直寫曝光機包括支撐結構、DMD結構、一個運動組件、真空吸盤；運動組件包括一個掃描Y軸和一個升降Z軸；真空吸盤位于運動組件上方；

所述真空吸盤包括吸盤主體和真空發生裝置；吸盤主體上以行和列的形式分布一定數量的氣孔，每一行氣孔各對應一個繼電器，每一列氣孔也各對應一個繼電器；每個氣孔與真空發生裝置之間連接有氣孔開關；氣孔開關同時與該氣孔所在行的繼電器和該氣孔所在列的繼電器連接；

所述氣孔在吸盤主體上呈中間疏、四周密的分布形式。

2.根據權利要求1所述的DMD結構單軸固定光路直寫曝光機，其特征在于，所述氣孔開關位于氣孔與真空發生裝置連接的真空管路上。

3.根據權利要求1所述的DMD結構單軸固定光路直寫曝光機，其特征在于，位于吸盤主體中部區域的氣孔的行間距或列間距最大為1.5-2.8英寸，位于吸盤主體邊緣區域的氣孔的行間距或列間距最小為4-9mm。

4.根據權利要求1所述的DMD結構單軸固定光路直寫曝光機，其特征在于，所述真空吸盤與運動組件的升降Z軸連接。

5.根據權利要求1所述的DMD結構單軸固定光路直寫曝光機，其特征在于，所述支撐結構為龍門結構。

6.根據權利要求1所述的DMD結構單軸固定光路直寫曝光機，其特征在于，所述氣孔在吸盤主體上的開口面積為10mm²～500mm²。

7.一種曝光機的分區對位聚焦方法，其特征在于，所述方法包括以下步驟：

(1)在曝光之前，CCD相機抓取PCB板四個角的定位孔的坐標后，與電子檔圖形文件中相對應的定位孔坐標進行比對，建立電子檔圖形與PCB板的實際對應關系；如果CCD相機抓取的定位孔坐標與電子檔圖形文件中相應的坐標一致，那么進行步驟(2)；如果CCD相機抓取的定位孔坐標與電子檔圖形文件中相應的坐標不一致，那么將電子檔圖形文件進行調整使之與CCD相機抓取的定位孔坐標保持一致，光路曝光的起始位置也隨之確定，繼續進行步驟(2)；

(2)在曝光之前，將待曝光區域劃分為M×N個子區域；

(3)分別計算每個子區域四個頂點的最佳焦面距離；如果這四個頂點的最佳焦面距離的最大差值在允許的誤差范圍之內，則以這四個頂點的最佳焦面距離的平均值作為該子區域曝光的焦面距離；如果這四個頂點的最佳焦面距離的最大差值不在允許的誤差范圍之內，那么將該子區域再劃分為A×B個二級子區域，計算每個二級子區域四個頂點的最佳焦面距離，重復進行本步驟，直至每個子區域內的最佳焦面距離在誤差范圍內。

8.根據權利要求7所述的方法，其特征在于，所述曝光機為權利要求1-6任一所述的曝光機。