[發明專利]用于組織治療的孔隙率可控的裝置、使用方法和制造方法有效
| 申請號: | 201611010878.9 | 申請日: | 2012-10-04 |
| 公開(公告)號: | CN106730275B | 公開(公告)日: | 2021-02-02 |
| 發明(設計)人: | J·E·班奇諾;C·V·坎貝爾;E·H·庫利;B·M·特拉普;M·J·弗內什 | 申請(專利權)人: | W.L.戈爾及同仁股份有限公司 |
| 主分類號: | A61M29/04 | 分類號: | A61M29/04;A61M31/00;A61M25/10 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人: | 江漪 |
| 地址: | 美國特*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 組織 治療 孔隙率 可控 裝置 使用方法 制造 方法 | ||
1.一種氣囊裝置,所述氣囊裝置包括:
多孔隔膜,所述多孔隔膜構造成響應于第一壓力引入流體而擴張到擴張狀態,
其中,流體在第二壓力以上開始灌注通過所述多孔隔膜,所述第二壓力是等于或大于所述第一壓力中的至少一種,以及
治療劑,所述治療劑位于氣囊下方的細長構件的部段上;
其中,所述多孔隔膜帶有基本上穩定的平均流動孔尺寸,所述孔尺寸在灌注之前和在灌注過程中僅有最小程度的變化。
2.如權利要求1所述的氣囊裝置,其特征在于,所述多孔隔膜在等于或大于13個大氣壓的壓力下開始灌注。
3.如權利要求1或2所述的氣囊裝置,其特征在于,規定劑量的治療劑灌注通過所述氣囊裝置。
4.如權利要求1所述的氣囊裝置,其特征在于,所述多孔隔膜具有基本上等于每相鄰單位面積的灌注率的每單位面積的灌注率。
5.一種氣囊,所述氣囊包括:
多孔隔膜,所述多孔隔膜構造成灌注流體,其中所述多孔隔膜具有至少15平方米/克的微觀結構表面積,
其中,所述多孔隔膜構造成響應于第一壓力引入流體而擴張到擴張狀態,
其中,流體在第二壓力以上開始灌注通過所述多孔隔膜,所述第二壓力是等于或大于所述第一壓力中的至少一種;
其中,所述多孔隔膜帶有基本上穩定的平均流動孔尺寸,所述孔尺寸在灌注之前和在灌注過程中僅有最小程度的變化。
6.如權利要求5所述的氣囊,其特征在于,所述多孔隔膜具有至少20平方米/克的微觀結構表面積。
7.如權利要求5或6所述的氣囊,其特征在于,所述氣囊在至少10個大氣壓的壓力開始灌注。
8.如權利要求5所述的氣囊,其特征在于,所述多孔隔膜包括ePTFE。
9.一種氣囊,所述氣囊包括:
多孔隔膜,所述多孔隔膜基本上由原纖維組成,并構造成響應于在第一壓力引入流體而膨脹到名義尺寸,
其中流體在第二壓力以上開始灌注通過氣囊,所述第二壓力至少等于或大于所述第一壓力;
其中,所述多孔隔膜帶有基本上穩定的平均流動孔尺寸,所述孔尺寸在灌注之前和在灌注過程中僅有最小程度的變化。
10.如權利要求9所述的氣囊,其特征在于,所述多孔隔膜具有等于或大于4.8千帕的泡點。
11.如權利要求9所述的氣囊,其特征在于,所述多孔隔膜限定滲漏控制層,所述滲漏控制層允許在氣囊的一個或多個部分處發生流體灌注。
12.如權利要求9所述的氣囊,其特征在于,所述多孔隔膜限定滲漏控制層,所述滲漏控制層能操作成允許具有與滲漏表面上的位置有關的灌注特性的流體灌注。
13.如權利要求9所述的氣囊,其特征在于,所述多孔隔膜是順應性的,以順應于血管、脈管、內腔或體腔的表面。
14.如權利要求9所述的氣囊,其特征在于,還包括涂覆所述多孔隔膜的潤濕劑。
15.如權利要求9所述的氣囊,其特征在于,所述氣囊是可翻轉的。
16.如權利要求9所述的氣囊,其特征在于,流體包括治療劑。
17.如權利要求9所述的氣囊,其特征在于,流體使所述氣囊膨脹。
18.如權利要求9所述的氣囊,其特征在于,所述多孔隔膜是管狀的。
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